技術(shù)編號：12920249
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及二氧化硅蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種具有離子和電子定向部件的二氧化硅蒸鍍裝置。背景技術(shù)現(xiàn)有技術(shù)中，二氧化硅蒸鍍裝置利用電子束蒸發(fā)裝置使二氧化硅蒸發(fā)并沉積在基片上形成薄膜，但是這樣沉積的膜的結(jié)構(gòu)疏松，成膜質(zhì)量差，無法滿足正常的生產(chǎn)需求。另外，在蒸鍍過程中，蒸發(fā)的二氧化硅容易附著在蒸鍍裝置的內(nèi)壁上，造成原料浪費(fèi)。發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種具有離子和電子定向部件的二氧化硅蒸鍍裝置，所要解決的技術(shù)問題是如何提高成膜的質(zhì)量，使薄膜致密化，同時避免浪費(fèi)原料。本實(shí)用新型所述的具有離子和電...
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