1.一種能夠提高附著力的真空薄膜鍍鋁裝置，其特征在于，所述的能夠提高附著力的真空薄膜鍍鋁裝置包括真空室，真空室內(nèi)設(shè)置有開(kāi)卷機(jī)、第一導(dǎo)向輥、第二導(dǎo)向輥、冷卻滾筒、收卷機(jī)和蒸鍍盤，蒸鍍盤設(shè)置在真空室的底部，蒸鍍盤內(nèi)設(shè)置有待沉積的鋁，冷卻滾筒設(shè)置在蒸鍍盤的上方；蒸鍍盤的上方還設(shè)置有石墨加熱器；開(kāi)卷機(jī)設(shè)置在蒸鍍盤的一側(cè)；第一導(dǎo)向輥設(shè)置在開(kāi)卷機(jī)的上方；開(kāi)卷機(jī)和第一導(dǎo)向輥之間設(shè)置有等離子體發(fā)射裝置；第二導(dǎo)向輥設(shè)置在第一導(dǎo)向輥與冷卻滾筒之間；收卷機(jī)設(shè)置在真空室的頂部的一側(cè)。
2.如權(quán)利要求1所述的能夠提高附著力的真空薄膜鍍鋁裝置，其特征在于，所述的冷卻滾筒的溫度維持在-10℃至-15℃之間。
3.如權(quán)利要求1所述的能夠提高附著力的真空薄膜鍍鋁裝置，其特征在于，所述的冷卻滾筒的旋轉(zhuǎn)速度維持在300至900厘米/秒之間。
4.如權(quán)利要求1所述的能夠提高附著力的真空薄膜鍍鋁裝置，其特征在于，所述真空室內(nèi)的壓力維持在2.66×10-5KPa至2.66×10-6KPa之間。
5.如權(quán)利要求1所述的能夠提高附著力的真空薄膜鍍鋁裝置，其特征在于，所述開(kāi)卷機(jī)、第一導(dǎo)向輥、第二導(dǎo)向輥、冷卻滾筒和收卷機(jī)組成傳動(dòng)系統(tǒng)，該傳動(dòng)系統(tǒng)上設(shè)置有片狀基材。