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高功率脈沖磁控濺射CrAlSiN納米復(fù)合涂層及其制備方法與流程

文檔序號(hào):11380864閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種納米復(fù)合涂層及其制備技術(shù),具體地說(shuō)是一種CrAlSiN納米復(fù)合涂層的制備工藝。采用高功率脈沖與直流脈沖共濺射技術(shù)在金屬或硬質(zhì)合金基體上制備CrAlSiN納米復(fù)合涂層。選用純金屬Cr、Al和Si(純度均為99.99?wt.%)作為靶材,其中,高功率脈沖選用Cr靶,直流脈沖濺射選用Al靶和Si靶。鍍膜前先通入Ar氣,采用?800?V偏壓,對(duì)基片進(jìn)行輝光清洗10~30?min。隨后開(kāi)啟三個(gè)靶材,對(duì)基體和靶材表面進(jìn)行轟擊清洗,并逐漸降低偏壓至?30~100V。關(guān)閉Al靶和Si靶,沉積純Cr過(guò)渡層10~40min。通入反應(yīng)氣體N2,并開(kāi)啟Al靶和Si靶,沉積CrAlSiN涂層120~360?min。本發(fā)明涉及的CrAlSiN納米復(fù)合涂層綜合性能好,制備工藝簡(jiǎn)單,成分可控,重復(fù)性好,容易工業(yè)化生產(chǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員:范其香;王鐵鋼;吳正環(huán);王政權(quán);劉艷梅;張濤
受保護(hù)的技術(shù)使用者:天津職業(yè)技術(shù)師范大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日:2017.06.30
技術(shù)公布日:2017.09.05
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