技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種循環(huán)卷繞式原子層沉積設(shè)備，包括：沿待沉積樣品的閉環(huán)運(yùn)行路徑布置的反應(yīng)裝置、動(dòng)力裝置、導(dǎo)向裝置、糾偏裝置；反應(yīng)裝置包括分布在待沉積樣品上下兩側(cè)的加熱板和反應(yīng)噴頭；動(dòng)力裝置包括伺服電機(jī)和驅(qū)動(dòng)輥筒，伺服電機(jī)的輸出軸連接驅(qū)動(dòng)輥筒的驅(qū)動(dòng)軸；導(dǎo)向裝置包括若干個(gè)無(wú)動(dòng)力輥筒；驅(qū)動(dòng)輥筒與無(wú)動(dòng)力輥筒共同構(gòu)成待沉積樣品的閉環(huán)運(yùn)行路徑，用于使待沉積樣品循環(huán)運(yùn)動(dòng)；糾偏裝置位于兩個(gè)相鄰的無(wú)動(dòng)力輥筒之間，且糾偏裝置與兩個(gè)相鄰的無(wú)動(dòng)力輥筒分別位于待沉積樣品兩側(cè)。本設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，便于使用和維護(hù)；待沉積樣品能夠循環(huán)運(yùn)動(dòng)，能夠連續(xù)反應(yīng)，不需要反復(fù)收放卷，不用頻換啟動(dòng)與停止，提高反應(yīng)效率。

技術(shù)研發(fā)人員：陳蓉;但威;單斌;巴偉明
受保護(hù)的技術(shù)使用者：華中科技大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.28
技術(shù)公布日：2017.07.04