1.一種具有高硬度、高抗氧化性能的AlCrN涂層，其特征在于AlCrN涂層與基體之間有一層10~300 nm厚的純Cr金屬層和10~300 nm的CrN層，以提高涂層與基體之間的結(jié)合力；AlCrN涂層總厚度為2~10 μm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂層，其特征在于：AlCrN層中Al含量為25~40 at.%, Cr含量為15~25 at.%, N含量為45~50 at.%；其中Al/(Al+Cr)= 0.5~0.75。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的AlCrN涂層，其特征在于：所述AlCrN涂層為面心立方結(jié)構(gòu)的（Al，Cr）N相，衍射峰位于fcc-CrN和fcc-AlN衍射峰的中間，但離fcc-AlN衍射峰更近一些。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的AlCrN涂層的制備工藝，其特征在于：采用國(guó)產(chǎn)AIP-650型電弧離子鍍膜儀在高速鋼和硬質(zhì)合金上沉積具有高硬度、高抗氧化性能的AlCrN涂層，硬度高達(dá)30~40 GPa。
5.按照權(quán)利要求2所述的AlCrN涂層的制備工藝，其特征在于：基體材料經(jīng)過(guò)除油和干燥預(yù)處理后，放在可同時(shí)自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)架上，公轉(zhuǎn)速度為5~40 r/min，靶基距約為150 mm。
6.按照權(quán)利要求2所述的AlCrN涂層的制備工藝，其特征在于：采用機(jī)械泵和分子泵抽真空；當(dāng)真空室氣壓優(yōu)于1×10-3 Pa時(shí)，打開加熱系統(tǒng)將爐腔加熱至200~500 oC；隨后，開啟Ar氣流量閥，氣流量為50~200 sccm，調(diào)整節(jié)流閥使真空室壓強(qiáng)為0.1~2 Pa，基片加-600~1000 V負(fù)偏壓，輝光清洗10~20 min；開啟4個(gè)純Cr靶，靶材電流均為50~150 A，對(duì)基體進(jìn)行轟擊清洗5~30 min；降低偏壓至-10~100 V，調(diào)節(jié)真空壓強(qiáng)，沉積純Cr金屬層約5~20 min；通入N2沉積5~20 min，獲得CrN過(guò)渡層。
7.按照權(quán)利要求2所述的AlCrN涂層的制備工藝，其特征在于：沉積AlCrN涂層時(shí)，N2和Ar氣流量分別為50~200 sccm，調(diào)整節(jié)流閥使真空室壓強(qiáng)為0.3~2 Pa，控制N2/Ar比在0.5~3之間；同時(shí)開啟4個(gè)純Al靶和純Cr靶，電流均為50~150 A，沉積AlCrN涂層，時(shí)間為30~120 min。