技術特征：

技術總結(jié)
本發(fā)明公開了一種鐵電薄膜微區(qū)形貌修飾和圖形化的方法，屬于鐵電薄膜刻蝕技術領域，其包括以下步驟：1)配制鐵電薄膜的前驅(qū)溶液；2)在所述鐵電薄膜的表層上鍍有頂電極，并依次進行涂膠、前烘、曝光、顯影和后烘；3)對所述鐵電薄膜進行離子束刻蝕，刻蝕完后，去除所述光刻膠圖形固化膜，即獲得樣品；4)用表面輪廓分析儀對所述樣品的刻蝕臺階深度進行測量，并計算出鐵電薄膜的刻蝕參數(shù)；所述前驅(qū)溶液濃度為0.1～0.5mol/L，所述鐵電薄膜厚度為170～220nm。本發(fā)明提供一種制備工藝簡單、鐵電性良好且適用于一類鐵電薄膜的微區(qū)形貌修飾和圖形化的方法。

技術研發(fā)人員：彭強祥;朱學進;廖佳佳
受保護的技術使用者：湘潭大學
技術研發(fā)日：2017.03.02
技術公布日：2017.07.07