下文涉及研磨制品，且特別涉及包括經(jīng)粘結(jié)研磨部段的研磨制品。

背景技術(shù)：

在過(guò)去一個(gè)世紀(jì)已開(kāi)發(fā)了用于各種行業(yè)的各種研磨工具，用于從工件去除材料的一般功能，例如鋸切、鉆孔、拋光、清洗、雕刻和研磨。在電子裝置的生產(chǎn)中，具有多個(gè)電路如ic和lsi的半導(dǎo)體晶片的背面在被分割成單個(gè)芯片之前通過(guò)研磨機(jī)被研磨成預(yù)定的厚度。為了有效地研磨半導(dǎo)體晶片的背面，一般使用配備有粗磨單元和精磨單元的研磨機(jī)。一般地，用于進(jìn)行粗磨工藝的制品是經(jīng)粘結(jié)研磨本體或磨石，其通過(guò)將磨粒與玻璃化粘結(jié)材料或金屬粘結(jié)材料粘結(jié)在一起而獲得。樹(shù)脂粘結(jié)磨石通常用于精磨操作。

在一些情況下，無(wú)機(jī)粘結(jié)劑的含量降低，并且孔隙率的含量增加，這被視為降低玻璃化磨石表面的釉化或堵塞、研磨結(jié)構(gòu)的碎裂、磨石的弱可修整性以及其他缺點(diǎn)。一般地，高孔隙率磨石本體通過(guò)在形成期間使用發(fā)泡劑來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述發(fā)泡劑在最終形成的磨料產(chǎn)品中產(chǎn)生氣泡并因此產(chǎn)生孔隙率。

然而，該行業(yè)持續(xù)需要能夠?qū)崿F(xiàn)改進(jìn)的研磨性能的改進(jìn)的磨石材料。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

根據(jù)一個(gè)方面，研磨制品包括本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括聯(lián)接至所述環(huán)形表面的研磨部段，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域和相對(duì)于研磨環(huán)形區(qū)域的總表面積不大于24％的研磨表面積百分比。

在又一個(gè)方面，研磨制品包括本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括聯(lián)接至所述環(huán)形表面的研磨部段，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域，所述研磨環(huán)形區(qū)域具有內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、外部環(huán)形區(qū)域、以及設(shè)置在所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域和所述外部環(huán)形區(qū)域之間的中心環(huán)形區(qū)域，并且其中與所述中心環(huán)形區(qū)域中的研磨部段相比，在所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域或外部環(huán)形區(qū)域中的至少一個(gè)研磨部段具有不同的研磨表面積。

對(duì)于再一個(gè)方面，研磨制品包括本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括聯(lián)接至所述環(huán)形表面的第一研磨部段以及聯(lián)接至所述環(huán)形表面的第二研磨部段，所述第一研磨部段具有第一研磨表面積(asa1)，所述第二研磨部段具有第二研磨表面積(asa2)，其中asa1>asa2。

對(duì)于本文中的一個(gè)方面，研磨制品包括本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括聯(lián)接至所述環(huán)形表面的研磨部段，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域，所述研磨環(huán)形區(qū)域具有內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、外部環(huán)形區(qū)域、以及設(shè)置在所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域和所述外部環(huán)形區(qū)域之間的中心環(huán)形區(qū)域，并且其中所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域包括限定第一分布的第一組研磨部段，并且所述中心區(qū)域包括限定第二分布的第二組研磨部段，其中所述第一分布不同于所述第二分布。

對(duì)于又一個(gè)方面，研磨制品包括本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括聯(lián)接至所述環(huán)形表面的研磨部段，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域，所述研磨環(huán)形區(qū)域具有定義為沿著徑向軸線在內(nèi)部環(huán)形圓周和外部環(huán)形圓周之間的距離的環(huán)形寬度，并且其中至少一個(gè)研磨部段延伸不大于所述環(huán)形寬度的95％。

根據(jù)再一個(gè)方面，研磨制品可包括本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面可包括聯(lián)接至所述環(huán)形表面的研磨部段。研磨部段可限定研磨環(huán)形區(qū)域，所述研磨環(huán)形區(qū)域具有內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、外部環(huán)形區(qū)域、以及設(shè)置在所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域和所述外部環(huán)形區(qū)域之間的中心環(huán)形區(qū)域。至少一個(gè)研磨部段可跨越內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、中心環(huán)形區(qū)域和外部環(huán)形區(qū)域。在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域或外部環(huán)形區(qū)域中的至少一個(gè)研磨部段的第一端部部分可不同于在中心環(huán)形區(qū)域中的至少一個(gè)研磨部段的中心部分。第一端部部分的縱向軸線與所述中心部分的縱向軸線之間的角度可小于180度。

根據(jù)一個(gè)方面，研磨制品可包括本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括研磨部段，所述研磨部段包括包含在粘結(jié)材料內(nèi)的研磨顆粒，所述研磨部段聯(lián)接至所述本體的環(huán)形表面，并且相對(duì)于彼此布置，以限定根據(jù)接觸面積測(cè)試不大于0.150的標(biāo)準(zhǔn)化的最大接觸面積變化(nmcav)。

附圖說(shuō)明

通過(guò)參考附圖，本公開(kāi)內(nèi)容可得到更好地理解，并且其許多特征和優(yōu)點(diǎn)對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員是顯而易見(jiàn)的。

圖1包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的多晶片研磨操作的圖示。

圖2包括研磨制品常規(guī)研磨制品的自頂而下圖示。

圖3包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的一部分的自頂而下視圖。

圖4包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的一部分的自頂而下視圖。

圖5包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的一部分的自頂而下視圖。

圖6a-6l包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的不同研磨部段的自頂而下視圖。

圖7a包括關(guān)于接觸面積測(cè)試的卡盤(pán)的接觸面積相對(duì)于旋轉(zhuǎn)角度的曲線的一般化圖示。

圖7b-7d包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，使用接觸面積測(cè)試用于分析標(biāo)準(zhǔn)化的最大接觸面積變化的圖像。

圖8包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的圖像。

圖9包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的圖像。

圖10包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的圖像。

圖11包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的圖像。

圖12包括比較根據(jù)本文所述實(shí)施例的樣品研磨制品的研磨性能與比較研磨制品的研磨性能的圖。

具體實(shí)施方式

下文涉及研磨制品，并且更具體地，涉及包括一種或多種經(jīng)粘結(jié)研磨制品的研磨制品，所述經(jīng)粘結(jié)研磨制品可為部段的形式。研磨部段可為經(jīng)粘結(jié)研磨制品，所述經(jīng)粘結(jié)研磨制品包括包含在粘結(jié)材料的三維基質(zhì)內(nèi)的多個(gè)研磨顆粒。經(jīng)粘結(jié)研磨制品可適合于研磨工件和材料去除操作。在某些情況下，經(jīng)粘結(jié)研磨制品可特別適合于研磨硬質(zhì)材料，并且更具體地，硬的單晶材料，例如藍(lán)寶石晶片。

本文實(shí)施例的研磨制品可用于某些材料去除操作。例如，研磨制品可用于材料去除操作，其中該過(guò)程包括通過(guò)相對(duì)于多個(gè)晶片移動(dòng)研磨制品而同時(shí)從多個(gè)晶片去除材料。在某些情況下，相對(duì)于多個(gè)晶片移動(dòng)研磨制品的過(guò)程可包括相對(duì)于可保持在靜止位置的多個(gè)晶片旋轉(zhuǎn)研磨制品。在其他情況下，相對(duì)于多個(gè)晶片移動(dòng)研磨制品的過(guò)程可包括相對(duì)于可保持在靜止位置的研磨制品旋轉(zhuǎn)多個(gè)晶片。應(yīng)了解，在這些過(guò)程中，研磨制品之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)可包括研磨制品和/或多個(gè)晶片相對(duì)于彼此的移動(dòng)。

圖1包括使用根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的多晶片材料去除方法的圖示。特別地，多晶片材料去除方法包括卡盤(pán)101，所述卡盤(pán)101包括與其聯(lián)接的多個(gè)晶片102、103和104(即102-104)。如進(jìn)一步所示，該方法可包括具有本文實(shí)施例的特征的研磨制品105。在材料去除過(guò)程期間，研磨制品105可與多個(gè)晶片102-104中的一個(gè)或多個(gè)表面接觸，并且從多個(gè)晶片102-104的表面去除材料。如所示，卡盤(pán)101和研磨制品105可分別在方向106和107上相對(duì)于彼此旋轉(zhuǎn)。圖1中的旋轉(zhuǎn)方向106和107提供用于舉例說(shuō)明，并且應(yīng)了解，可利用卡盤(pán)101和研磨制品105之間的其他相對(duì)旋轉(zhuǎn)。

此外，如圖1所示，在材料去除操作期間，研磨制品105可與多個(gè)晶片102-104中的單個(gè)晶片的至少一個(gè)表面接觸。更具體地，在材料去除過(guò)程期間，當(dāng)研磨制品105在卡盤(pán)101和多個(gè)晶片102-104上旋轉(zhuǎn)時(shí)，研磨制品105上的力/砂粒可隨著研磨制品105和多個(gè)晶片102-104的表面之間的變化表面積接觸而變化。與單晶片研磨操作不同，在多晶片研磨操作期間，經(jīng)粘結(jié)研磨材料(例如，經(jīng)粘結(jié)研磨部段)和晶片102-104之間的接觸面積中的變化已被申請(qǐng)人鑒定為一些不令人滿意的結(jié)果的原因，所述結(jié)果包括對(duì)晶片102-104的損害。隨著行業(yè)持續(xù)遷移到多晶片研磨操作，對(duì)可避免不必要地?fù)p害產(chǎn)物的產(chǎn)品需求迅速增加。

圖2包括研磨制品常規(guī)研磨制品的自頂而下圖示。如所示，研磨制品200可包括本體201，所述本體201包括可被稱(chēng)為載體的基材202。研磨制品200還包括粘結(jié)到基材202的表面的研磨部段203。研磨部段203一般包含在基材202的凹穴215內(nèi)。研磨部段203可粘結(jié)在它們各自的凹穴215內(nèi)，以促進(jìn)基材202和研磨部段203之間的合適粘結(jié)。圖2中所示的研磨制品200僅為研磨制品的一半，以促進(jìn)理解。

基材202可為具有環(huán)形形狀的輪或盤(pán)的形式，所述環(huán)形形狀包括延伸穿過(guò)外部環(huán)形壁212之間的本體201的中點(diǎn)290、由內(nèi)徑204和外徑205限定的中心開(kāi)口220。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，基材202包括內(nèi)部環(huán)形壁213，所述內(nèi)部環(huán)形壁213具有錐形內(nèi)部環(huán)形表面217，其延伸到研磨部段203與之粘結(jié)的環(huán)形表面206。環(huán)形表面206定義為在基材202的內(nèi)部環(huán)形表面217至外部環(huán)形表面212之間延伸的表面。像這樣，研磨部段203粘結(jié)到環(huán)形本體201的主表面之一。環(huán)形表面206可具有其環(huán)形寬度207，所述環(huán)形寬度207定義為沿著環(huán)形表面206的徑向距離，例如沿著徑向軸線291在基材202的內(nèi)部環(huán)形表面217和外部環(huán)形表面212之間的距離。

研磨部段203可聯(lián)接至環(huán)形表面206并且限定研磨環(huán)形區(qū)域211。研磨環(huán)形區(qū)域211可定義為包括研磨部段203的環(huán)形表面206的一部分。即，如圖2所示，研磨部段203的最內(nèi)點(diǎn)限定研磨環(huán)形區(qū)域211的內(nèi)部環(huán)形圓周214。此外，研磨環(huán)形區(qū)域211還可由外部環(huán)形圓周限定，所述外部環(huán)形圓周定義為環(huán)形表面206的圓周，包括一個(gè)或多個(gè)研磨部段203的最外點(diǎn)。如圖2所示，研磨環(huán)形區(qū)域211的外部環(huán)形圓周可與基材202的外部環(huán)形圓周212相同。研磨環(huán)形區(qū)域211可具有環(huán)形寬度208，所述環(huán)形寬度208定義為沿著從中點(diǎn)291延伸到外部環(huán)形表面212的徑向軸線290，在研磨環(huán)形區(qū)域211的內(nèi)部環(huán)形圓周214與外部環(huán)形圓周212之間的距離。

研磨部段203可具有限定研磨部段203的最長(zhǎng)尺寸的長(zhǎng)度209，如圖2提供的自頂而下視圖可見(jiàn)的。此外，研磨部段203可具有寬度210，所述寬度210定義為基本上垂直于研磨部段203的長(zhǎng)度209延伸的尺寸。如所示，研磨部段203可具有的長(zhǎng)度209大于研磨環(huán)形區(qū)域211的環(huán)形寬度208。此外，研磨部段203可相對(duì)于基材202的外部環(huán)形表面212成一定角度。此外，這些常規(guī)制品一般具有25％的研磨表面積百分比和大約0.158的nmcav，這將在本文中更詳細(xì)地描述。

圖3包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的一部分的自頂而下視圖。如所示，研磨制品300可包括本體301，所述本體301包括基材302和聯(lián)接至基材302的研磨部段303。基材302可包括在內(nèi)部環(huán)形表面313和外部環(huán)形表面312之間延伸的環(huán)形表面306。此外，在圖3所示的實(shí)施例中，研磨制品300可包括在內(nèi)部環(huán)形圓周314之間延伸的研磨環(huán)形區(qū)域311，所述內(nèi)部環(huán)形圓周314限定環(huán)形區(qū)域306內(nèi)的圓形的圓周，所述圓形與至少一個(gè)研磨部段303的最內(nèi)部部分相交。換言之，內(nèi)部環(huán)形圓周由可被拉伸的最小圓限定，所述最小圓與至少一個(gè)研磨部段303上的最內(nèi)點(diǎn)相交。研磨環(huán)形區(qū)域311還可由外部環(huán)形圓周312限定，所述外部環(huán)形圓周312限定環(huán)形區(qū)域306內(nèi)的最大圓的圓周，所述最大圓可被拉伸以與最遠(yuǎn)離本體301的中點(diǎn)390的研磨部段的點(diǎn)相交。

如所示，環(huán)形區(qū)域306可具有在外部環(huán)形表面312處在內(nèi)部環(huán)形表面313之間延伸的環(huán)形寬度307。研磨環(huán)形區(qū)域311可具有其環(huán)形寬度308，所述環(huán)形寬度308定義為沿著徑向軸線390在內(nèi)部環(huán)形圓周314和外部環(huán)形區(qū)域314之間的距離。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，研磨部段303的布置可不同于常規(guī)研磨制品，并且可促進(jìn)研磨制品300特別是在多晶片研磨操作期間的改進(jìn)的性能。

在一個(gè)特定實(shí)施例中，研磨環(huán)形區(qū)域311可包括內(nèi)部環(huán)形區(qū)域330、外部環(huán)形區(qū)域320、以及設(shè)置在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域330和外部環(huán)形區(qū)域320之間的中心環(huán)形區(qū)域340。內(nèi)部環(huán)形區(qū)域330、外部環(huán)形區(qū)域320和中心環(huán)形區(qū)域各自可包括特定類(lèi)型和/或數(shù)目的研磨部段，所述研磨部段可促進(jìn)研磨制品300特別是在多晶片研磨操作的背景下的改進(jìn)的性能。在一個(gè)實(shí)施例中，研磨制品300可包括在研磨環(huán)形區(qū)域311的內(nèi)部環(huán)形區(qū)域330內(nèi)的第一組研磨部段331。內(nèi)部環(huán)形區(qū)域330可在內(nèi)部環(huán)形圓周314和中間環(huán)形圓周324之間延伸，限定與第一組研磨部段331的研磨部段的至少一部分相交的最外圓周。

在另一個(gè)實(shí)施例中，外部環(huán)形區(qū)域320可包括第二組研磨部段321。外部環(huán)形區(qū)域320可定義為在外部環(huán)形圓周312和中間環(huán)形圓周325之間的研磨環(huán)形區(qū)域311的區(qū)域，限定與第二組研磨部段321中的至少一個(gè)研磨部段的最內(nèi)部分相交的圓周。如進(jìn)一步所示，中心環(huán)形區(qū)域340可為在中間環(huán)形圓周324中間環(huán)形圓周325之間延伸的區(qū)域。如進(jìn)一步所示，內(nèi)部環(huán)形區(qū)域可具有環(huán)形寬度332，中心環(huán)形區(qū)域可具有環(huán)形寬度341，并且外部環(huán)形區(qū)域320可具有環(huán)形寬度322。如所示，根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，內(nèi)部環(huán)形區(qū)域330的環(huán)形寬度332可與環(huán)形寬度340和/或環(huán)形寬度322基本上相同。例如，在所示實(shí)施例中，環(huán)形寬度322、341和332可將研磨環(huán)形區(qū)域311分成基本上相等的三份。而且，應(yīng)了解，環(huán)形寬度332、341和322可相對(duì)于彼此顯著不同，這取決于研磨部段的布置以及研磨部段303的尺寸和形狀。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，第一組研磨部段330可限定包括間隔距離352的第一分布，所述間隔距離352是沿著內(nèi)部環(huán)形圓周314在兩個(gè)緊鄰的研磨部段之間的最短距離。如進(jìn)一步所示，第二組研磨部段321可限定第二分布，所述第二分布可不同于第一組研磨部段331的第一分布。此外，第二組研磨部段321可限定間隔距離351，所述間隔距離351可為在第二組研磨部段321內(nèi)沿著中間環(huán)形圓周325在兩個(gè)緊鄰的研磨部段之間的最短距離。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，在第一組研磨部段331內(nèi)的研磨部段分布可不同于在第二組研磨部段321內(nèi)的研磨部段分布。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，第一組研磨部段331可具有特定的間隔距離352，所述間隔距離352具有相對(duì)于第一組研磨部段331內(nèi)的研磨部段的平均長(zhǎng)度的特定關(guān)系。例如，在至少一個(gè)實(shí)施例中，第一組研磨部段331可具有至少0.01(al1)的間隔距離352，其中al1表示第一組研磨部段331的研磨部段的平均長(zhǎng)度。在另一個(gè)實(shí)施例中，間隔距離352可為至少0.1(al1)，例如至少0.5(al1)、至少1(al1)、至少2(al1)、至少3(al1)、至少4(al1)、至少5(al1)、至少6(al1)、至少7(al1)、至少8(al1)、至少9(al1)或甚至至少10(al1)。而且，在一個(gè)非限制性實(shí)施例中，間隔距離352可不大于100(al1)，例如不大于90(al1)、不大于90(al1)、不大于80(al1)、不大于70(al1)、不大于60(al1)、不大于50(al1)、不大于40(al1)、不大于30(al1)、不大于20(al1)、不大于15(al1)、不大于12(al1)、不大于10(al1)、不大于9(al1)、不大于8(al1)、不大于7(al1)、不大于6(al1)、不大于5(al1)、不大于4(al1)、不大于3(al1)、不大于2(al1)、不大于1(al1)、不大于0.1(al1)，例如不大于0.01(al1)。應(yīng)了解，間隔距離352可在包括上述最小值和最大值中任意者的范圍內(nèi)。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，第二組研磨部段321可具有特定的間隔距離351，所述間隔距離351具有相對(duì)于第二組研磨部段321內(nèi)的研磨部段的平均長(zhǎng)度的特定關(guān)系。例如，在至少一個(gè)實(shí)施例中，第二組研磨部段321可具有至少0.01(al2)的間隔距離351，其中al2表示第二組研磨部段321的研磨部段的平均長(zhǎng)度。在另一個(gè)實(shí)施例中，間隔距離351可為至少0.1(al2)，例如至少0.5(al2)、至少1(al2)、至少2(al2)、至少3(al2)、至少4(al2)、至少5(al2)、至少6(al2)、至少7(al2)、至少8(al2)、至少9(al2)或甚至至少10(al2)。而且，在一個(gè)非限制性實(shí)施例中，間隔距離351可不大于100(al2)，例如不大于90(al2)、不大于90(al2)、不大于80(al2)、不大于70(al2)、不大于60(al2)、不大于50(al2)、不大于40(al2)、不大于30(al2)、不大于20(al2)、不大于15(al2)、不大于12(al2)、不大于10(al2)、不大于9(al2)、不大于8(al2)、不大于7(al2)、不大于6(al2)、不大于5(al2)、不大于4(al2)、不大于3(al2)、不大于2(al2)、不大于1(al2)、不大于0.1(al2)，例如不大于0.01(al2)。應(yīng)了解，間隔距離351可在包括上述最小值和最大值中任意者的范圍內(nèi)。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，在研磨制品300的一個(gè)或多個(gè)研磨部段303的長(zhǎng)度309與研磨環(huán)形區(qū)域311的環(huán)形寬度308之間可能存在特定的關(guān)系。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，研磨制品300可包括至少一個(gè)研磨部段，其具有的長(zhǎng)度303小于研磨環(huán)形區(qū)域311的環(huán)形寬度308。例如，在一個(gè)特定實(shí)施例中，研磨制品的研磨部段303中的至少一個(gè)可具有的長(zhǎng)度309不大于環(huán)形寬度308的95％。在其他情況下，研磨制品300的至少一個(gè)研磨部段303的長(zhǎng)度309相對(duì)于環(huán)形寬度308可更小，例如不大于環(huán)形寬度308的90％、不大于85％、不大于80％、不大于75％、不大于70％、不大于65％、不大于60％、不大于55％、不大于50％、或甚至不大于45％。而且，在一個(gè)非限制性實(shí)施例中，研磨部段303中的至少一個(gè)可具有長(zhǎng)度309，其可為環(huán)形寬度308的至少約1％，例如至少約5％、至少10％、至少15％、至少20％、至少25％、至少30％、至少35％、至少40％、至少45％、至少50％、或甚至至少55％。應(yīng)了解，相對(duì)于環(huán)形寬度308的研磨部段303中的至少一個(gè)的長(zhǎng)度309可在包括上述最小百分比和最大百分比中任意者的范圍內(nèi)。

在又一個(gè)實(shí)施例中，研磨制品300的研磨部段303可包括最長(zhǎng)研磨部段，所述最長(zhǎng)研磨部段具有的長(zhǎng)度可具有相對(duì)于環(huán)形寬度308的特定關(guān)系。例如，最長(zhǎng)研磨部段可具有的長(zhǎng)度309小于環(huán)形寬度308，包括例如不大于環(huán)形寬度的95％，例如不大于環(huán)形寬度308的90％、不大于85％、不大于80％、不大于75％、不大于70％、不大于65％、不大于60％、不大于55％，或甚至不大于50％。而且，在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，研磨部段303的最長(zhǎng)研磨部段可具有環(huán)形寬度308的至少10％，例如至少15％、至少20％、至少25％、至少30％、至少35％、至少40％、至少45％、至少50％、至少55％、至少60％、至少65％、或甚至至少70％的長(zhǎng)度309。應(yīng)了解，在一個(gè)實(shí)施例中，研磨部段303的最長(zhǎng)研磨部段可具有在包括上述最小百分比和最大百分比中任意者的范圍內(nèi)的長(zhǎng)度309。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，研磨部段303可限定研磨制品300的總研磨表面積。總研磨表面積可包括所有研磨部段303的二維表面積。例如，如圖3所示，每個(gè)研磨部段303可具有如自頂而下可見(jiàn)的長(zhǎng)度309和寬度310。因此，每個(gè)研磨部段303具有研磨表面積(asa)?？傃心ケ砻娣e(tasa)是本體301的所有研磨部段303的研磨表面積總和。此外，本體301可具有研磨環(huán)形區(qū)域311的總表面積(aaar)。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，研磨制品可具有特定百分比的研磨表面積，其是相對(duì)于研磨環(huán)形區(qū)域311的總表面積的研磨部段的總研磨表面積。即，研磨表面積百分比是[(tasa/aaar)x100％]。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，研磨制品可具有不大于24％，例如不大于23％、不大于22％、21％、不大于20％、不大于19％、不大于18％、不大于70％、不大于60％、不大于50％、不大于14％、不大于13％、不大于12％、不大于11％、不大于10％、不大于9％、不大于8％、不大于7％、不大于6％、不大于5％、不大于4％、或甚至不大于3％的研磨表面積百分比。而且，在一個(gè)非限制性實(shí)施例中，本文實(shí)施例的研磨制品可具有相對(duì)于研磨環(huán)形區(qū)域311的總表面積至少2％，例如至少3％、至少4％、至少5％、至少6％、至少7％、至少80％、至少9％、至少10％、至少11％、至少12％、至少13％、至少14％、至少15％、至少16％、至少17％、至少18％、至少19％、或甚至至少20％的研磨表面積百分比。應(yīng)了解，本文實(shí)施例的研磨制品可具有在包括上述最小百分比和最大百分比中任意者的范圍內(nèi)的研磨表面積百分比。

在另外其他情況下，研磨環(huán)形區(qū)域411上的研磨部段或研磨部段403的至少一部分可具有由研磨部段的長(zhǎng)度限定的縱向軸線，所述縱向軸線可相對(duì)于相關(guān)的徑向軸線成一定角度。例如，參考圖3，研磨部段371可具有延伸穿過(guò)研磨部段371的研磨表面的中點(diǎn)372的縱向軸線375。徑向軸線374可延伸穿過(guò)研磨部段371的中點(diǎn)372，并且限定在徑向軸線374和縱向軸線375之間的角度373。角度373可限定取向角373，其在某些情況下可小于90°，例如小于80°、小于85°、小于82°、小于80°、或甚至小于75°。而且，在其他情況下，取向角373可至少為1°，例如至少5°、或甚至至少10°。應(yīng)了解，可改變?nèi)魏窝心ゲ慷?03的取向角373，以促進(jìn)改進(jìn)的性能。此外，研磨部段303可具有相對(duì)于彼此不同的取向角。另外，相同環(huán)形區(qū)域內(nèi)研磨部段303之間或不同環(huán)形區(qū)域之間的取向角可相對(duì)于彼此不同。

如所述，本體301可包括研磨部段303。每個(gè)研磨部段可具有其為經(jīng)粘結(jié)磨料的本體。形成經(jīng)粘結(jié)研磨制品的過(guò)程可包括混合物的形成?；旌衔锟蔀闈竦幕蚋傻男问健４送?，混合物可包括某些組分，包括但不限于粘結(jié)材料、研磨顆粒和填料共混物。應(yīng)了解，可將其他組分加入混合物中以促進(jìn)組分在彼此之內(nèi)的適當(dāng)分散，并且進(jìn)一步加工以形成最終形成的經(jīng)粘結(jié)研磨制品。

在適當(dāng)?shù)匦纬苫旌衔镏?，形成?jīng)粘結(jié)磨料的過(guò)程可包括形成未加工的本體，其可為未燒結(jié)的本體，其可經(jīng)歷進(jìn)一步處理以形成最終形成的經(jīng)粘結(jié)磨料。形成未加工的本體的合適方法可包括模塑、壓制、澆鑄、沖壓、印刷及其組合。任選地，未加工的本體的形成可包括未加工的本體的干燥，以促進(jìn)去除揮發(fā)物并且使本體準(zhǔn)備進(jìn)一步加工。

在形成未加工的本體后，形成經(jīng)粘結(jié)研磨制品的過(guò)程可通過(guò)加熱未加工的本體繼續(xù)，以形成最終形成的經(jīng)粘結(jié)研磨本體。未加工的本體的加熱可促進(jìn)本體的一種或多種組分包括例如粘結(jié)材料的相變。在某些情況下，加熱本體可在至少約375℃至約1000℃的溫度下進(jìn)行。在更具體的情況下，形成過(guò)程可包括熱壓，其可包括向未加工的本體施加熱和壓力，所述熱和壓力可分開(kāi)或同時(shí)施加。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，所施加的壓力可為至少約0.5噸/英寸²且不大于約3噸/英寸²。

在加工之后，最終形成的研磨制品可包括經(jīng)粘結(jié)研磨本體，所述經(jīng)粘結(jié)研磨本體包括一定含量的粘結(jié)材料、包含在粘結(jié)材料內(nèi)的一定含量的研磨顆粒、包含在粘結(jié)材料內(nèi)的填料材料、以及在經(jīng)粘結(jié)研磨本體的體積內(nèi)的一定孔隙率。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，研磨制品的本體可包括具有特定平均粒度(pa)的研磨顆粒，所述特定平均粒度(pa)可促進(jìn)改進(jìn)的性能。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，研磨顆?？删哂腥缤ㄟ^(guò)加權(quán)的平均數(shù)計(jì)算的不大于約150微米的平均粒度。在又一個(gè)實(shí)施例中，研磨顆粒的平均粒度可較小，例如不大于約125微米、不大于約100微米、不大于約80微米、或甚至不大于約50微米。而且，在另一個(gè)非限制性實(shí)施例中，研磨顆粒的平均粒度可為至少約0.1微米，例如至少約0.5微米、至少約1微米、至少約5微米、或甚至至少約10微米。應(yīng)了解，研磨顆粒的平均粒度可在包括上述最小值和最大值中任意者的范圍內(nèi)。

根據(jù)又一個(gè)方面，研磨顆?？删哂幸欢ǖ目v橫比(l:w)，其是作為最長(zhǎng)尺寸的顆粒的長(zhǎng)度(l)與寬度(w)的測(cè)量，所述寬度(w)是垂直于長(zhǎng)度的顆粒的第二最長(zhǎng)尺寸。研磨顆粒的縱橫比可促進(jìn)本文中研磨制品的特征和性能。對(duì)于至少一個(gè)實(shí)施例，研磨顆?？删哂兄辽偌s1.2:1，例如至少約1.3:1、至少約1.4:1、至少約1.5:1、或甚至至少約1.6:1的縱橫比(l:w)。而且，在一個(gè)非限制性實(shí)施例中，研磨顆?？删哂胁淮笥诩s20:1，例如不大于約10:1的縱橫比。應(yīng)了解，研磨顆粒可具有在包括上述最小比率和最大比率中任意者的范圍內(nèi)的縱橫比。

此外，研磨顆粒可具有相對(duì)于可包含在經(jīng)粘結(jié)磨料內(nèi)的填料顆粒的特定硬度。例如，研磨顆?？删哂写笥诩?xì)填料顆粒的硬度。在某些情況下，研磨顆?？删哂邢鄬?duì)于莫氏硬度至少約7的硬度。在其他實(shí)施例中，研磨顆粒可具有約7.5，例如至少約8、至少約8.5、或甚至至少約9的莫氏硬度。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，研磨顆?？砂o(wú)機(jī)材料。在某些情況下，研磨顆粒可包括天然存在的材料。而且，在其他情況下，研磨顆?？捎珊铣刹牧闲纬伞Ｒ恍┦纠匝心ヮw?？砂ú牧侠缪趸铩⑻蓟?、氮化物、硼化物、碳氧化物、氮氧化物、硼氧化物、含碳材料、金剛石及其組合。研磨顆粒可包括超級(jí)研磨材料，并且更特別地，可基本上由超級(jí)研磨材料組成。對(duì)于至少一個(gè)實(shí)施例，研磨顆?？砂ń饎偸２⑶以诹硗馄渌闆r下，研磨顆粒可包括立方氮化硼。根據(jù)至少一個(gè)非限制性實(shí)施例，研磨顆粒基本上可由金剛石組成。

在一些實(shí)施例中，研磨顆?？砂ㄖ辽僖欢ê康亩嗑Ы饎偸?。對(duì)于利用包括金剛石的研磨顆粒的實(shí)施例，研磨顆粒可具有特定含量的多晶金剛石。例如，相對(duì)于研磨顆粒的總含量，多晶金剛石的含量可為至少約20％，例如至少約25％、至少約30％、至少約40％、至少約50％、至少約60％、至少約70％、至少約80％、或甚至至少約90％。在至少一個(gè)實(shí)施例中，研磨顆粒的基本上所有的金剛石都是多晶金剛石材料。

根據(jù)一個(gè)方面，經(jīng)粘結(jié)磨料可包括包含在粘結(jié)材料內(nèi)的填料。填料可以一定的含量存在，以促進(jìn)研磨制品的改進(jìn)的性能。例如，本體可包括以相對(duì)于粘結(jié)材料的總體積不大于約10體積％的量存在的填料含量。在其他情況下，填料的含量可較小，例如不大于約9體積％、不大于約8體積％、不大于約7體積％、不大于約6體積％、或甚至不大于約5.5體積％。而且，在另一個(gè)非限制性實(shí)施例中，研磨制品可包括以相對(duì)于粘結(jié)材料的總體積至少約0.2體積％的量存在的填料，例如至少約0.5體積％、至少約1體積％、至少約2體積％、或甚至至少約3體積％。應(yīng)了解，填料的含量可在包括上述最小百分比和最大百分比中任意者的范圍內(nèi)存在。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，脆性填料可為具有一定莫氏硬度的顆粒，所述莫氏硬度例如不大于約5、不大于約4、不大于約3.5、不大于約3、不大于約2、或甚至不大于約1。而且，包含在粘結(jié)材料內(nèi)的填料可具有至少約0.1，例如至少約1、至少約1.5、或甚至至少約2的莫氏硬度。應(yīng)了解，填料可具有在上述最小值和最大值中任意者的范圍內(nèi)的莫氏硬度。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，經(jīng)粘結(jié)研磨本體可具有一定含量的孔隙率，以促進(jìn)適當(dāng)?shù)男阅?。例如，用作研磨部段的?jīng)粘結(jié)磨料的孔隙率可為相對(duì)于本體的總體積不大于約20體積％。在其他情況下，孔隙率可不大于約15體積％、不大于約12體積％、不大于約10體積％、不大于約8體積％、不大于約5體積％、或甚至不大于約3體積％。而且，在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，孔隙率可為相對(duì)于經(jīng)粘結(jié)磨料的本體的總體積至少約0.1體積％，例如至少約0.5體積％、至少約1體積％、或甚至至少約1.5體積％。應(yīng)了解，本體可具有在包括上述最小百分比和最大百分比中任意者的范圍內(nèi)的孔隙率含量。

根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，研磨本體可具有一定含量的孔隙率，其為封閉的孔隙率。例如，本體的大部分孔隙率可為封閉的孔隙率，其可由不一定彼此連接的離散孔限定。在又一個(gè)實(shí)施例中，本體內(nèi)的基本上所有的孔隙率都可為封閉的孔隙率。

在某些情況下，研磨制品的本體可為具有粘結(jié)基質(zhì)的經(jīng)粘結(jié)研磨本體，所述粘結(jié)基質(zhì)限定圍繞并包含研磨顆粒、填料和孔隙率的材料的三維基質(zhì)。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，粘結(jié)材料可包括金屬或金屬合金。在特定實(shí)施例中，粘結(jié)材料可包括過(guò)渡金屬元素，并且更具體地，可包括過(guò)渡金屬元素，例如銅、錫、銀、鎳及其組合。在至少一個(gè)實(shí)施例中，粘結(jié)材料可包括青銅，所述青銅包括銅和錫的組合。例如，包括青銅的粘結(jié)材料可包括的銅含量不小于錫含量。在另外其他替代實(shí)施例中，青銅可包括的銅含量大于錫含量。

在一個(gè)方面，經(jīng)粘結(jié)研磨本體可包括具有至少約0.2的錫/銅比(sn/cu)的粘結(jié)材料，如通過(guò)銅和錫的重量或重量百分比測(cè)量的。在其他實(shí)施例中，青銅可包括至少約0.23，例如至少約0.25、至少約0.28、至少約0.3、至少約0.33、至少約0.35、至少約0.38、至少約0.4、至少約0.43、至少約0.45、至少約0.48、至少約0.5、至少約0.53、至少約0.55、至少約0.58、至少約0.6、至少約0.63、至少約0.65、至少約0.68、至少約0.7、至少約0.73、至少約0.75、至少約0.78、至少約0.8、或甚至至少約0.9的錫/銅比。在另一個(gè)非限制性實(shí)施例中，粘結(jié)材料可包括不大于約0.93、不大于約0.9、不大于約0.88、不大于約0.85、不大于約0.83、不大于約0.8、不大于約0.78、不大于約0.75、不大于約0.73、不大于約0.7、不大于約0.68、不大于約0.65、不大于約0.63、不大于約0.6、不大于約0.58、不大于約0.55、不大于約0.53、不大于約0.5、不大于約0.48、不大于約0.45、不大于約0.43、不大于約0.4、不大于約0.3、不大于約0.2的錫/銅比。應(yīng)了解，粘結(jié)材料可包括具有在包括上述最小值和最大值中任意者的范圍內(nèi)的錫/銅比的青銅。

在至少一個(gè)方面，經(jīng)粘結(jié)磨料可包括相對(duì)于經(jīng)粘結(jié)磨料的本體的總體積的特定含量的粘結(jié)材料。例如，經(jīng)粘結(jié)磨料可包括相對(duì)于本體的總體積至少約50體積％的粘結(jié)材料，例如至少約55體積％、至少約60體積％、至少約65體積％、至少約70體積％、至少約75體積％、至少約80體積％、至少約85體積％、至少約90體積％、至少約92體積％、至少約94體積％、至少約96體積％、至少約97體積％、或甚至至少約98體積％。而且，在另一個(gè)非限制性實(shí)施例中，經(jīng)粘結(jié)磨料可包括相對(duì)于本體的總體積不大于約99.5體積％的粘結(jié)材料，例如不大于約99體積％、不大于約98體積％、不大于約97體積％、不大于約96體積％、或甚至不大于約95體積％。應(yīng)了解，經(jīng)粘結(jié)研磨本體可包括在包括上述最小百分比和最大百分比中任意者的范圍內(nèi)的粘結(jié)材料含量。

在另一個(gè)實(shí)施例中，用作研磨部段的經(jīng)粘結(jié)磨料可包括相對(duì)于經(jīng)粘結(jié)磨料的本體的總體積的特定含量的研磨顆粒。例如，在某些情況下，經(jīng)粘結(jié)研磨本體可包括相對(duì)于本體的總體積至少約0.1體積％的研磨顆粒，例如至少約0.25體積％的研磨顆粒、至少約0.5體積％、至少約0.6體積％、至少約0.7體積％、至少約0.8體積％、至少約0.9體積％、至少約1體積％、至少約2體積％、至少約3體積％、至少約4體積％、或甚至至少約5體積％。在又一個(gè)非限制性實(shí)施例中，經(jīng)粘結(jié)磨料可包括相對(duì)于經(jīng)粘結(jié)磨料的本體的總體積不大于約15體積％的研磨顆粒，例如不大于約12體積％、不大于約10體積％、不大于約8體積％、不大于約7體積％、不大于約6體積％、不大于約5體積％、不大于約4體積％、不大于約3體積％、不大于約2體積％、不大于約1.5體積％。應(yīng)了解，相對(duì)于經(jīng)粘結(jié)研磨本體的總體積的研磨顆粒含量可在包括上述最小百分比和最大百分比中任意者的范圍內(nèi)。

研磨制品可包括有限含量的某些材料，包括例如磷、鋅、銻、鉻、鈷、硅及其組合。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，前述材料中的任何一種的含量可相對(duì)于粘結(jié)材料的總體積不大于約1體積％，例如不大于約0.08體積％，例如不大于約0.05體積％、或甚至不大于約0.01體積％。而且，在某些非限制性實(shí)施例中，粘結(jié)材料可包括相對(duì)于粘結(jié)材料的總體積的痕量，例如至少約0.001體積％。

在另一個(gè)實(shí)施例中，研磨制品可配置成進(jìn)行某些材料去除操作。例如，研磨制品可配置為接觸和研磨某些晶片的表面或材料的基材，包括但不限于無(wú)定形、單晶或多晶材料。在特定情況下，研磨制品可配置成研磨特別硬的材料，例如藍(lán)寶石。在另外其他情況下，本文的研磨制品可被配置用于研磨具有至少約1500-3000kg/mm²的維氏硬度的材料。

圖4包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的一部分的圖示。如所示，研磨制品400可包括本體401，所述本體401包括基材402和聯(lián)接至基材402的研磨部段403。如進(jìn)一步所示，研磨制品400可包括設(shè)置在內(nèi)部環(huán)形表面413和外部環(huán)形表面412之間的環(huán)形表面406。此外，研磨制品400可包括設(shè)置在內(nèi)部環(huán)形圓周414和外部環(huán)形圓周412之間的研磨環(huán)形區(qū)域411，其基于研磨部段403在環(huán)形表面406上的定位。另外，在一個(gè)實(shí)施例中，研磨環(huán)形區(qū)域411可包括內(nèi)部環(huán)形區(qū)域430、和外部環(huán)形區(qū)域420、以及設(shè)置在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域430和外部環(huán)形區(qū)域420之間的中心環(huán)形區(qū)域440。如本文實(shí)施例所述，內(nèi)部環(huán)形區(qū)域43可定義為在內(nèi)部環(huán)形圓周414和中間環(huán)形圓周424之間的區(qū)域。此外，中心環(huán)形區(qū)域440可定義為在中間環(huán)形圓周424中間環(huán)形圓周425之間的區(qū)域。最后，外部環(huán)形區(qū)域420可定義為在中間環(huán)形圓周425和外部環(huán)形圓周412之間的區(qū)域。

如圖4的實(shí)施例所示且根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，研磨制品400可包括可具有相對(duì)于彼此的不同尺寸的研磨部段403。例如，研磨部段403可包括第一類(lèi)研磨部段431，其可具有相對(duì)于其他研磨部段例如第二類(lèi)研磨部段421的不同長(zhǎng)度。利用具有不同形狀、尺寸和輪廓的研磨部段可能促進(jìn)改進(jìn)的性能。特別地，研磨部段403的至少一部分，例如第一類(lèi)研磨部段431可具有相對(duì)于研磨部段403的另一部分(例如第二類(lèi)研磨部段421)的更大長(zhǎng)度。在一個(gè)實(shí)施例中，研磨部段403可包括第一研磨部段，例如限定第一長(zhǎng)度(l1)的第一類(lèi)研磨部段431的研磨部段之一。研磨部段403還可包括第二研磨部段，例如可具有第二長(zhǎng)度(l2)的第二類(lèi)研磨部段421的研磨部段之一。在至少一個(gè)實(shí)施例中，第一長(zhǎng)度可不同于第二長(zhǎng)度。此外，在某些情況下，第一長(zhǎng)度可大于第二長(zhǎng)度。在一個(gè)特定實(shí)施例中，第一部段的第一長(zhǎng)度和第二部段的第二長(zhǎng)度可限定至少1.1:1，例如至少1.2:1、至少1.5:1、至少2:1、至少3:1、至少4:1、至少5:1、至少6:1、至少7:1、至少8:1、至少9:1、至少10:1的比率(l1:l2)。而且，在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，第一長(zhǎng)度與第二長(zhǎng)度的比率(l1:l2)可不大于100:1，例如不大于90:1、不大于80:1、不大于70:1、不大于60:1、不大于50:1、不大于40:1、不大于30:1、不大于20:1、不大于10:1、不大于8:1、不大于6:1、或甚至不大于4:1。應(yīng)了解，第一長(zhǎng)度與第二長(zhǎng)度的比率可在包括上述最小比率和最大比率中任意者的范圍內(nèi)。

根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，研磨制品400的研磨部段403可基于它們的尺寸分成分開(kāi)的部分或類(lèi)型，包括例如不同長(zhǎng)度的研磨部段。例如，研磨部段403可包括可具有平均第一長(zhǎng)度(al1)的第一類(lèi)研磨部段431。研磨制品400可包括可具有第二平均長(zhǎng)度(al2)的第二類(lèi)研磨部段403。在一種特定情況下，平均第一長(zhǎng)度可不同于平均第二長(zhǎng)度。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，第一平均長(zhǎng)度和第二平均長(zhǎng)度可限定至少1.1:1，例如至少1.2:1、至少1.5:1、至少2:1、至少3:1、至少4:1、至少5:1、至少6:1、至少7:1、至少8:1、至少9:1、至少10:1的比率(al1:al2)。而且，在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，平均第一長(zhǎng)度與平均第二長(zhǎng)度的比率(al1:al2)可不大于100:1，例如不大于90:1、不大于80:1、不大于70:1、不大于60:1、不大于50:1、不大于40:1、不大于30:1、不大于20:1、不大于10:1、不大于8:1、不大于6:1、或甚至不大于4:1。應(yīng)了解，第一長(zhǎng)度與第二長(zhǎng)度的比率可在包括的范圍內(nèi)。

根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，不同類(lèi)型的研磨部段，包括例如第一類(lèi)研磨部段431和第二類(lèi)部段421，可設(shè)置在研磨制品400的研磨環(huán)形區(qū)域411的不同區(qū)域中。例如，在一個(gè)實(shí)施例，內(nèi)部環(huán)形區(qū)域430或外部環(huán)形區(qū)域420包括相對(duì)于在相同研磨制品400上使用的另一類(lèi)研磨部段不同含量的一類(lèi)或多類(lèi)研磨部段。特別地，如圖4所示，內(nèi)部環(huán)形區(qū)域430可包括相對(duì)于第一類(lèi)研磨部段431的含量的更大含量的第二類(lèi)研磨部段421。值得注意的是，非常少并且在一些情況下無(wú)第一類(lèi)研磨部段431設(shè)置(部分或整個(gè))在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域430內(nèi)。此外，在另一個(gè)實(shí)施例中，第二類(lèi)研磨部段421可設(shè)置在外部環(huán)形區(qū)域420中。更具體地，外部環(huán)形區(qū)域420可包括相對(duì)于第一類(lèi)研磨部段431的含量的更大含量的第二類(lèi)研磨部段421。在某些情況下，例如圖4所示，外部環(huán)形區(qū)域420可包括相對(duì)于第二類(lèi)研磨部段421的非常少至無(wú)第一類(lèi)研磨部段431的含量。

此外，應(yīng)了解，中心環(huán)形區(qū)域440可包括相對(duì)于彼此，并且相對(duì)于在其他區(qū)域(例如內(nèi)部環(huán)形區(qū)域430和外部環(huán)形區(qū)域420)中的第一類(lèi)研磨部段和第二類(lèi)研磨部段431和421的含量，特定含量的第一類(lèi)研磨部段431或第二類(lèi)研磨部段421。一個(gè)特定實(shí)施例，中心環(huán)形區(qū)域440可包括相對(duì)于第二類(lèi)研磨部段421的含量的更大含量的第一類(lèi)研磨部段431。特別地，中心環(huán)形區(qū)域440可基本上不含第二類(lèi)研磨部段421，例如圖4所示。即，中心環(huán)形區(qū)域440可完全僅由第一類(lèi)研磨部段431組成。

至少一個(gè)實(shí)施例，相比于與內(nèi)部環(huán)形圓周414相交的第一類(lèi)研磨部段431的含量，更大含量的第二類(lèi)研磨部段421可與研磨環(huán)形區(qū)域411的內(nèi)部環(huán)形圓周414相交。對(duì)于另一個(gè)實(shí)施例，相對(duì)于與研磨環(huán)形區(qū)域411的外部環(huán)形圓周412相交的第一類(lèi)研磨部段431的含量，更大含量的第二類(lèi)研磨部段421可與研磨環(huán)形區(qū)域411的外部環(huán)形圓周421相交。此外，在至少一個(gè)實(shí)施例中，第一類(lèi)研磨部段431可與研磨環(huán)形區(qū)域411的內(nèi)部環(huán)形圓周414和/或外部環(huán)形圓周412間隔開(kāi)。對(duì)于一個(gè)實(shí)施例，相比于與內(nèi)部環(huán)形圓周414或外部環(huán)形圓周412相交的第二類(lèi)研磨部段421的含量，更大含量的第一類(lèi)研磨部段431可與內(nèi)部環(huán)形圓周414或外部環(huán)形圓周412間隔開(kāi)。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，研磨部段403可包括具有第一研磨表面積asa1的第一類(lèi)研磨部段431，以及具有第二研磨表面積(asa2)的第二類(lèi)研磨部段421。在至少一個(gè)實(shí)施例中，asa1可大于asa2。在又一個(gè)實(shí)施例中，第一類(lèi)研磨部段和第二類(lèi)研磨部段431和421可限定至少1.1:1，例如至少1.2:1、至少1.5:1、至少2:1、至少3:1、至少4:1、至少5:1、至少6:1、至少7:1、至少8:1、至少9:1、或甚至至少10:1的研磨表面積比(asa1:asa2)。而且，在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，第一類(lèi)研磨部段和第二類(lèi)研磨部段431和421可限定不大于100:1，例如不大于90:1、不大于80:1、不大于70:1、不大于60:1、不大于60:1、不大于50:1、不大于40:1、不大于30:1、不大于20:1、不大于10:1、不大于8:1、不大于6:1、或甚至不大于4:1的研磨表面積比(asa1:asa2)。應(yīng)了解，第一類(lèi)研磨部段和第二類(lèi)研磨部段431和421可限定在包括上述最小比率和最大比率中任意者的范圍內(nèi)的研磨表面積比(asa1:asa2)。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，與包含在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域440內(nèi)的一個(gè)或多個(gè)研磨部段相比，包含在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域430或外部環(huán)形區(qū)域420內(nèi)的研磨部段可具有不同的研磨表面積。本文提及包含在特定區(qū)域中的研磨部段是提及具有在區(qū)域之一內(nèi)的大部分表面積，并且在特定情況下，完全包含在該區(qū)域內(nèi)的研磨部段。更具體地，如圖4所示，與包含在中心環(huán)形區(qū)域440內(nèi)的第一類(lèi)研磨部段431相比，在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域430內(nèi)的第二類(lèi)研磨部段421可具有較小的表面積。此外，在一個(gè)實(shí)施例中，與包含在中心環(huán)形區(qū)域440內(nèi)的第一類(lèi)研磨部段431相比，在外部環(huán)形區(qū)域420內(nèi)的第二類(lèi)研磨部段421可具有較小的表面積。應(yīng)了解，本文實(shí)施例的研磨制品也可具有相對(duì)于包含在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域420和外部環(huán)形區(qū)域420內(nèi)的研磨部段在研磨表面積中的差異。

研磨部段403可布置成在研磨環(huán)形區(qū)域411內(nèi)相對(duì)于彼此的特定分布，這可促進(jìn)改進(jìn)的性能。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，研磨部段403可限定相對(duì)于在各個(gè)環(huán)形區(qū)域內(nèi)的研磨部段放置的交替圖案。更具體地，交替圖案可指在外部環(huán)形區(qū)域420和中心環(huán)形區(qū)域440之間的研磨部段的相對(duì)放置。如圖4所示，第一類(lèi)研磨部段431和第二類(lèi)研磨部段421的布置在第一類(lèi)研磨部段431和第二類(lèi)研磨部段421之間圍繞本體401周向交替運(yùn)動(dòng)。更具體地，包含在外部環(huán)形區(qū)域420中的第二類(lèi)研磨部段421中的至少一個(gè)研磨部段可設(shè)置在中心環(huán)形區(qū)域440內(nèi)的第一類(lèi)研磨部段431中的兩個(gè)緊鄰的研磨部段之間。

在另一個(gè)實(shí)施例中，交替圖案也可用于設(shè)置在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域430和中心環(huán)形區(qū)域440中的研磨部段。例如，如圖4所示，內(nèi)部環(huán)形區(qū)域440可包括與設(shè)置在中心環(huán)形區(qū)域440上的第一類(lèi)研磨部段431相比，具有較短長(zhǎng)度的第一類(lèi)研磨部段421。此外，在中心環(huán)形區(qū)域440中的第一類(lèi)研磨部段421和在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域430中的第二類(lèi)研磨部段421的布置圍繞本體401周向交替運(yùn)動(dòng)。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，包含在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域430中的第二類(lèi)研磨部段421中的至少一個(gè)研磨部段可設(shè)置在中心環(huán)形區(qū)域440內(nèi)的第一類(lèi)研磨部段431中的兩個(gè)緊鄰的研磨部段之間。應(yīng)了解，盡管此處的實(shí)施例一般已提及在給定的研磨環(huán)形區(qū)域內(nèi)的三個(gè)環(huán)形區(qū)域(即，內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、中心環(huán)形區(qū)域和外部環(huán)形區(qū)域)，考慮本文實(shí)施例的研磨制品可利用更多數(shù)目或更少數(shù)目的研磨區(qū)域。此外，在使用非圓形工具例如非圓形基材(例如包括具有多邊形或橢圓形二維形狀的基材)的程度上，本文中對(duì)圓周的提及應(yīng)理解為同樣與這些工具有關(guān)。此外，對(duì)圓周和/或環(huán)形區(qū)域的提及可應(yīng)用于這些工具，并且可被修改為具有如由基材的二維形狀和研磨部段的布置所指定的類(lèi)似多邊形或橢圓形形狀。

圖5包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的一部分的自頂而下圖示。研磨制品500可包括本體501，所述本體501包括基材502和聯(lián)接至基材502的環(huán)形表面506的研磨部段503。圖5的實(shí)施例示出了可在相同的研磨制品中利用的各類(lèi)研磨部段?；谥辽僖粋€(gè)研磨部段特征，各類(lèi)研磨部段可彼此不同，所述研磨部段特征包括但不限于研磨顆粒的平均粒度、磨料含量、研磨顆粒的最大和/或最小粒度、粘結(jié)體組成、粘結(jié)體含量、平均孔徑、孔隙率含量、最小和/或最大孔徑、填料組成、填料的平均粒度、一種或多種填料的最大和最小粒度、部段的二維形狀、部段的研磨區(qū)域、部段的尺寸、部段的放置、部段的取向角、在研磨環(huán)形區(qū)域的環(huán)形表面包括一個(gè)或多個(gè)環(huán)形區(qū)域(例如內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、中心環(huán)形區(qū)域、外部環(huán)形區(qū)域等)上的部段分布。

在至少一個(gè)實(shí)施例中，研磨制品500可包括內(nèi)部環(huán)形區(qū)域530，該內(nèi)部環(huán)形區(qū)域530包括第一類(lèi)研磨部段531，其具有如自頂而下可見(jiàn)的第一二維形狀，包括特別是圓形二維形狀。此外，研磨制品可包括基本上包含在中心環(huán)形區(qū)域540內(nèi)的第二類(lèi)研磨部段541。第二類(lèi)研磨部段541可具有相對(duì)于在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域530內(nèi)的第一類(lèi)研磨部段531不同的二維形狀。如所示，第二類(lèi)研磨部段541可具有大致矩形的二維形狀。研磨制品500可具有本文實(shí)施例的研磨制品的任何特征，包括環(huán)形表面506、內(nèi)部環(huán)形表面513、以及在外部環(huán)形圓周512和內(nèi)部環(huán)形圓周514之間的研磨環(huán)形表面511。

此外，在一個(gè)實(shí)施例中，研磨制品500可包括第三類(lèi)研磨部段521，其基本上包含在外部環(huán)形區(qū)域520內(nèi)，并且具有與第一類(lèi)研磨部段和第二類(lèi)研磨部段531和541相比不同的二維形狀。第三類(lèi)研磨部段520可具有橢圓形的二維形狀。在一個(gè)特定實(shí)施例中，研磨部段503可至少包括具有第一二維形狀的第一類(lèi)研磨部段，例如可具有相對(duì)于第二類(lèi)研磨部段和第三類(lèi)研磨部段541和521不同的二維形狀和/或研磨區(qū)域的第一類(lèi)研磨部段531。應(yīng)注意，研磨部段的二維形狀中的差異可基于部段的尺寸和/或輪廓。應(yīng)了解，本文提及研磨部段的長(zhǎng)度是提及具有圓形形狀的研磨部段的直徑。根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，研磨部段可具有選自多邊形、不規(guī)則多邊形、橢圓形、圓形、具有從中心區(qū)域延伸的一個(gè)或多個(gè)臂的本體、具有至少一個(gè)彎曲部分的形狀及其組合的二維形狀。

在更具體的方面，圖6a-6l包括可用于本文實(shí)施例的研磨制品中的各種研磨部段的二維圖示。應(yīng)當(dāng)注意，圖6a-6l所示的研磨部段不是詳盡的，并且可利用研磨部段的其他形狀。應(yīng)了解，它們可用于具有合適的各種取向和/或尺寸的各個(gè)環(huán)形區(qū)域，以促進(jìn)研磨制品的所需性能。

根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例、至少一個(gè)研磨部段可跨越環(huán)形表面的內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、中心環(huán)形區(qū)域和外部環(huán)形區(qū)域。至少一個(gè)研磨部段還可包括位于環(huán)形表面的內(nèi)部環(huán)形區(qū)域或外部環(huán)形區(qū)域中的第一端部部分。至少一個(gè)研磨部段還可包括位于環(huán)形表面的中心環(huán)形區(qū)域中的中心部分。至少一個(gè)研磨部段的第一端部部分可不同于至少一個(gè)研磨部段的中心部分。此外，第一端部部分可具有縱向軸線，并且中心部分可具有縱向軸線。

根據(jù)某些實(shí)施例，第一端部部分的縱向軸線可以相對(duì)于中心部分的縱向軸線的特定角度取向。例如，第一端部部分的縱向軸線和中心部分的縱向軸線之間的角度可小于約180度，例如小于約170度、小于約160度、小于約150度、小于約140度、小于約130度、小于約120度、小于約110度、小于約100度、小于約90度、小于約85度、小于約80度、小于約75度、小于約70度、小于約65度、小于約60度、小于約55度、小于約50度、小于約45度、小于約40度、小于約35度或甚至小于約30度。根據(jù)另外其他實(shí)施例，第一端部部分的縱向軸線和中心部分的縱向軸線之間的角度可為至少約10度，例如至少約15度、至少約20度、至少約25度、至少約30度、至少約35度、至少約40度、至少約45度、至少約50度、至少約55度或甚至至少約60度。應(yīng)了解，第一端部部分的縱向軸線和中心部分的縱向軸線之間的角度可為上述最小值或最大值中任意者之間的任何值。還應(yīng)了解，第一端部部分的縱向軸線和中心部分的縱向軸線之間的角度可在上述最小值和最大值中任意者之間的范圍內(nèi)。

根據(jù)又一個(gè)實(shí)施例，至少一個(gè)研磨部段還可包括位于環(huán)形表面的內(nèi)部環(huán)形區(qū)域或外部環(huán)形區(qū)域中的第二端部部分。至少一個(gè)研磨部段的第二端部部分可不同于至少一個(gè)研磨部段的第一端部部分和至少一個(gè)研磨部段的中心部分。此外，第二端部部分可具有縱向軸線。

根據(jù)某些實(shí)施例，第二端部部分的縱向軸線可以相對(duì)于中心部分的縱向軸線的特定角度取向。例如，第二端部部分的縱向軸線和中心部分的縱向軸線之間的角度可小于約180度，例如小于約170度、小于約160度、小于約150度、小于約140度、小于約130度、小于約120度、小于約110度、小于約100度、小于約90度、小于約85度、小于約80度、小于約75度、小于約70度、小于約65度、小于約60度、小于約55度、小于約50度、小于約45度、小于約40度、小于約35度或甚至小于約30度。根據(jù)另外其他實(shí)施例，第二端部部分的縱向軸線和中心部分的縱向軸線之間的角度可為至少約10度，例如至少約15度、至少約20度、至少約25度、至少約30度、至少約35度、至少約40度、至少約45度、至少約50度、至少約55度或甚至至少約60度。應(yīng)了解，第二端部部分的縱向軸線和中心部分的縱向軸線之間的角度可為上述最小值或最大值中任意者之間的任何值。還應(yīng)了解，第二端部部分的縱向軸線和中心部分的縱向軸線之間的角度可在上述最小值和最大值中任意者之間的范圍內(nèi)。

根據(jù)另外其他實(shí)施例，至少一個(gè)研磨部段的第一端部部分的縱向軸線可平行于至少一個(gè)研磨部段的第二端部部分的縱向軸線。根據(jù)另外其他實(shí)施例，第一端部部分的縱向軸線可以相對(duì)于第二端部部分的縱向軸線的特定角度取向。應(yīng)了解，由于第一端部部分和第二端部部分可不一定連接，所以確定在第一端部部分的縱向軸線和第二端部部分的縱向軸線之間的特定角度可能需要延伸兩個(gè)軸線直到它們相交，以確定它們之間的角度。例如，在第一端部部分的縱向軸線和第二端部部分的縱向軸線之間的角度可小于約90度，例如小于約85度、小于約80度、小于約75度、小于約70度、小于約65度、小于約60度、小于約55度、小于約50度、小于約45度、小于約40度、小于約35度或甚至小于約30度。根據(jù)另外其他實(shí)施例，在第一端部部分的縱向軸線和第二端部部分的縱向軸線之間的角度可為至少約5度，例如至少約10度、至少約15度、至少約20度、至少約25度、至少約30度、至少約35度、至少約40度、至少約45度、至少約50度、至少約55度或甚至至少約60度。應(yīng)了解，第一端部部分的縱向軸線和中心部分的縱向軸線之間的角度可為上述最小值或最大值中任意者之間的任何值。還應(yīng)了解，第二端部部分的縱向軸線和中心部分的縱向軸線之間的角度可在上述最小值和最大值中任意者之間的范圍內(nèi)。

根據(jù)另外其他實(shí)施例，第一端部部分可具有第一研磨表面積pasa1，并且第二端部部分可具有第二研磨表面積(pasa2)。在至少一個(gè)實(shí)施例中，pasa1可大于pasa2。在又一個(gè)實(shí)施例中，研磨部段的第一部分和第二部分可限定至少1.1:1，例如至少1.2:1、至少1.5:1、至少2:1、至少3:1、至少4:1、至少5:1、至少6:1、至少7:1、至少8:1、至少9:1、或甚至至少10:1的研磨表面積比(pasa1:pasa2)。而且，在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，研磨部段的第一部分和第二部分可限定不大于100:1，例如不大于90:1、不大于80:1、不大于70:1、不大于60:1、不大于60:1、不大于50:1、不大于40:1、不大于30:1、不大于20:1、不大于10:1、不大于8:1、不大于6:1、或甚至不大于4:1的研磨表面積比(pasa1:pasa2)。應(yīng)了解，研磨部段的第一部分和第二部分可限定上述最小值和最大值中任意者之間的任何值的研磨表面積比(pasa1:pasa2)。還應(yīng)了解，研磨部段的第一部分和第二部分可限定在上述最小比率和最大比率中任意者之間的范圍內(nèi)的任何值的研磨表面積比(pasa1:pasa2)。

根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，研磨部段的第一端部部分可具有相對(duì)于中心部分的長(zhǎng)度的不同長(zhǎng)度。利用具有不同形狀、尺寸和輪廓的端部部分和中心部分的研磨部段可促進(jìn)改進(jìn)的性能。特別地，研磨部段的中心部分可具有相對(duì)于研磨部段的第一端部部分的更大長(zhǎng)度。在一個(gè)實(shí)施例中，第一端部部分可限定第一端部部分長(zhǎng)度(pl1)。中心部分可限定中心部分長(zhǎng)度(plc)。在至少一個(gè)實(shí)施例中，第一端部部分長(zhǎng)度可不同于中心部分長(zhǎng)度。此外，在某些情況下，中心部分長(zhǎng)度可大于第一端部部分長(zhǎng)度。在一個(gè)特定實(shí)施例中，中心部分長(zhǎng)度和第一端部部分長(zhǎng)度可限定至少1.1:1，例如至少1.2:1、至少1.5:1、至少2:1、至少3:1、至少4:1、至少5:1、至少6:1、至少7:1、至少8:1、至少9:1、至少10:1的比率(plc:pl1)。而且，在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，中心部分長(zhǎng)度與第一端部部分長(zhǎng)度的比率(plc:pl1)可不大于100:1，例如不大于90:1、不大于80:1、不大于70:1、不大于60:1、不大于50:1、不大于40:1、不大于30:1、不大于20:1、不大于10:1、不大于8:1、不大于6:1、或甚至不大于4:1。應(yīng)了解，中心部分長(zhǎng)度與第一端部部分長(zhǎng)度的比率可在包括上述最小比率和最大比率中任意者的范圍內(nèi)。

根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，研磨部段的第二端部部分可具有相對(duì)于中心部分的長(zhǎng)度的不同長(zhǎng)度。特別地，研磨部段的中心部分可具有相對(duì)于研磨部段的第二端部部分的更大長(zhǎng)度。在一個(gè)實(shí)施例中，第二端部部分可限定第二端部部分長(zhǎng)度(pl2)。中心部分可限定中心部分長(zhǎng)度(plc)。在至少一個(gè)實(shí)施例中，第二端部部分長(zhǎng)度可不同于中心部分長(zhǎng)度。此外，在某些情況下，中心部分長(zhǎng)度可大于第二端部部分長(zhǎng)度。在一個(gè)特定實(shí)施例中，中心部分長(zhǎng)度和第二端部部分長(zhǎng)度可限定至少1.1:1，例如至少1.2:1、至少1.5:1、至少2:1、至少3:1、至少4:1、至少5:1、至少6:1、至少7:1、至少8:1、至少9:1、至少10:1的比率(plc:pl2)。而且，在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，中心部分長(zhǎng)度與第二端部部分長(zhǎng)度的比率(plc:pl2)可不大于100:1，例如不大于90:1、不大于80:1、不大于70:1、不大于60:1、不大于50:1、不大于40:1、不大于30:1、不大于20:1、不大于10:1、不大于8:1、不大于6:1、或甚至不大于4:1。應(yīng)了解，中心部分長(zhǎng)度與第二端部部分長(zhǎng)度的比率可在包括上述最小比率和最大比率中任意者的范圍內(nèi)。

根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，研磨部段的第一端部部分可具有相對(duì)于第二端部部分的長(zhǎng)度的不同長(zhǎng)度。利用具有不同形狀、尺寸和輪廓的端部部分的研磨部段可促進(jìn)改進(jìn)的性能。特別地，研磨部段的第一端部部分可具有相對(duì)于研磨部段的第二端部部分的更大長(zhǎng)度。在一個(gè)實(shí)施例中，第一端部部分可限定第一端部部分長(zhǎng)度(pl1)。第二端部部分可限定第二端部部分長(zhǎng)度(pl2)。在至少一個(gè)實(shí)施例中，第一端部部分長(zhǎng)度可不同于第二端部部分長(zhǎng)度。此外，在某些情況下，第一端部部分長(zhǎng)度可大于第二端部部分長(zhǎng)度。在一個(gè)特定實(shí)施例中，第一端部部分長(zhǎng)度和第二端部部分長(zhǎng)度可限定至少1.1:1，例如至少1.2:1、至少1.5:1、至少2:1、至少3:1、至少4:1、至少5:1、至少6:1、至少7:1、至少8:1、至少9:1、至少10:1的比率(pl1:pl2)。而且，在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，第一端部部分長(zhǎng)度與第二端部部分長(zhǎng)度的比率(pl1:pl2)可不大于100:1，例如不大于90:1、不大于80:1、不大于70:1、不大于60:1、不大于50:1、不大于40:1、不大于30:1、不大于20:1、不大于10:1、不大于8:1、不大于6:1、或甚至不大于4:1。應(yīng)了解，第一端部部分長(zhǎng)度與第二端部部分長(zhǎng)度的比率可在包括上述最小比率和最大比率中任意者的范圍內(nèi)。

根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，研磨部段的中心部分可具有相對(duì)于環(huán)形表面的環(huán)形寬度的特定長(zhǎng)度。例如，至少一個(gè)研磨部段的中心部分可具有環(huán)形寬度的至少10％的長(zhǎng)度，例如至少15％、或至少20％、或至少25％、或至少30％、或至少35％、或至少40％、或至少45％、或至少50％、或至少55％、或至少60％、或至少65％、或甚至至少70％。

根據(jù)另外其他實(shí)施例，研磨部段中的至少一個(gè)部段是大致旗形的。根據(jù)另外其他實(shí)施例，研磨部段是大致旗形的。根據(jù)另外其他實(shí)施例，研磨部段中的至少一個(gè)部段是大致z形的。根據(jù)又一個(gè)實(shí)施例，研磨部段是大致z形的。

圖7包括根據(jù)接觸面積測(cè)試的卡盤(pán)的接觸面積相對(duì)于旋轉(zhuǎn)角度的曲線的一般化圖示。在多晶片研磨過(guò)程的操作期間，由于卡盤(pán)、卡盤(pán)上的晶片布置和研磨制品之間的取向，與晶片接觸的研磨表面積變化。本申請(qǐng)的申請(qǐng)人已注意到，接觸面積中的顯著變化可導(dǎo)致對(duì)晶片的損害。如圖7a所示，第一研磨制品701證實(shí)如由接觸面積中的峰-峰變化定義的最大接觸面積變化711。

接觸面積測(cè)試是使用python編寫(xiě)的計(jì)算算法的多晶片研磨過(guò)程的標(biāo)準(zhǔn)化模擬。如圖7b所示產(chǎn)生了如布置在多晶片研磨工業(yè)中的卡盤(pán)上的5個(gè)晶片的標(biāo)準(zhǔn)布置的縮放圖像(即，圍繞卡盤(pán)中心的中心點(diǎn)同等間隔開(kāi)的五邊形圖案)，其中白色區(qū)域鑒定晶片，并且黑色區(qū)域鑒定不包括晶片的區(qū)域。白色區(qū)域給出值1，并且黑色區(qū)域給出值0。表示研磨制品的研磨環(huán)形區(qū)域的第二圖像按比例產(chǎn)生，如圖7c所示。研磨環(huán)形區(qū)域的邊緣在表示卡盤(pán)中心的圖像的中心點(diǎn)上集中，如工業(yè)中的多晶片研磨操作的代表。白色區(qū)域給出值1，并且黑色區(qū)域給出值0。使用該程序，晶片圍繞卡盤(pán)的中心點(diǎn)(即，圖像的中心)旋轉(zhuǎn)，具有2*pi/(n*50)的環(huán)形步長(zhǎng)，其中n表示根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)化接觸面積測(cè)試具有值5的晶片數(shù)目。

使用該程序，對(duì)于每個(gè)位置，研磨環(huán)形區(qū)域和晶片之間的總重疊面積通過(guò)重疊且相乘晶片和研磨環(huán)形的圖像來(lái)計(jì)算。在圖7b和7c的圖像的白色區(qū)域之間不存在重疊時(shí)，乘數(shù)值為0(0x0或0x1)。在圖7b和7c的兩個(gè)圖像的白色區(qū)域之間存在重疊時(shí)，所得到的值為1。然后通過(guò)經(jīng)由晶片圖像的至少一次完全旋轉(zhuǎn)(即，360度)，將每個(gè)步驟的總重疊面積相乘來(lái)計(jì)算總研磨重疊面積。在圖7d中提供了在旋轉(zhuǎn)期間圖像之間的重疊中所分析差異的代表性映射。然后將所得到的總研磨重疊面積乘以研磨制品的研磨表面積百分比，該研磨表面積百分比是研磨環(huán)形區(qū)域內(nèi)的研磨部段總表面積的百分比。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，根據(jù)接觸面積測(cè)試，本文實(shí)施例的研磨制品可具有不大于0.150的標(biāo)準(zhǔn)化的最大接觸面積變化(nmcav)。標(biāo)準(zhǔn)化的最大接觸面積變化通過(guò)將根據(jù)接觸面積測(cè)試的最大接觸面積變化除以研磨制品的總研磨表面積來(lái)計(jì)算?？傃心ケ砻娣e是研磨制品上的研磨部段的表面積總和。在又一個(gè)實(shí)施例中，nmcav可較小，例如不大于0.149、不大于0.148、不大于0.147、不大于0.146、不大于0.145、不大于0.144、不大于0.143、不大于0.142、不大于0.141、不大于0.140、不大于0.139、不大于0.138、不大于0.137、不大于0.136、不大于0.135、不大于0.134、不大于0.133、不大于0.132、不大于0.131、不大于0.130、不大于0.129、不大于0.128、不大于0.127、不大于0.126、不大于0.125、不大于0.124、不大于0.123、不大于0.122、不大于0.121、不大于0.120、不大于0.119、不大于0.118、不大于0.117、不大于0.116、不大于0.115、不大于0.114、不大于0.113、不大于0.112、不大于0.111、不大于0.110、不大于0.109、不大于0.108、不大于0.107、不大于0.106、不大于0.105、不大于0.104、不大于0.103、不大于0.102、不大于0.101、不大于0.100、不大于0.095、不大于0.090、不大于0.085、不大于0.080、不大于0.075、不大于0.070、不大于0.065、不大于0.060、不大于0.055、不大于0.050、不大于0.045、不大于0.040、不大于0.035、不大于0.030、不大于0.025、不大于0.020、不大于0.015、不大于0.010、或甚至不大于0.005。而且，在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，nmcav可為至少0.0001，例如至少0.0002、至少0.0004、至少0.0006、至少0.0008、至少0.001、至少0.005、至少0.01、至少0.02、至少0.04、至少0.05、至少0.06、或甚至至少0.07。應(yīng)了解，nmcav可在包括上述最小值和最大值中任意者的范圍內(nèi)。

圖8包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的圖像。研磨制品800可包括本體801，所述本體801包括基材802和聯(lián)接至基材802的環(huán)形表面806的研磨部段803。研磨部段803可包含在凹穴815中，并且可粘結(jié)到凹穴815內(nèi)的基材802。研磨制品可包括在研磨環(huán)形區(qū)域811內(nèi)的各個(gè)環(huán)形區(qū)域中的各類(lèi)研磨部段，所述研磨環(huán)形區(qū)域811由環(huán)形表面806上的研磨部段803的最內(nèi)部和最外點(diǎn)限定。研磨制品800可包括內(nèi)部環(huán)形區(qū)域，所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域包括第一類(lèi)研磨部段831，所述第一類(lèi)研磨部段831各自具有與彼此相比基本上相同的矩形二維形狀。此外，研磨制品包括基本上包含在中心環(huán)形區(qū)域內(nèi)的第二類(lèi)研磨部段841。第二類(lèi)研磨部段841中的每個(gè)研磨部段可具有大致矩形的二維形狀，但與第一類(lèi)研磨部段831中的研磨部段相比更長(zhǎng)。此外，研磨制品800可包括外部環(huán)形區(qū)域，所述外部環(huán)形區(qū)域包括第三類(lèi)研磨部段821，所述第三類(lèi)研磨部段821各自可具有與彼此相比基本上相同的矩形二維形狀。第一類(lèi)研磨部段和第三類(lèi)研磨部段831和821中的研磨部段可具有基本上相同的尺寸和形狀，并且與第二類(lèi)研磨部段831相比，在長(zhǎng)度和研磨面積中顯著更小。根據(jù)接觸面積測(cè)試，研磨制品具有小于24％的研磨表面積百分比和大約0.098的nmcav。

圖9包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的圖像。研磨制品900可包括本體901，所述本體901包括基材902和聯(lián)接至基材902的環(huán)形表面906的研磨部段903。研磨部段903可包含在凹穴915中，并且可粘結(jié)到凹穴915內(nèi)的基材902。研磨制品900可包括在研磨環(huán)形區(qū)域911內(nèi)的各個(gè)環(huán)形區(qū)域中的各類(lèi)研磨部段，所述研磨環(huán)形區(qū)域911由環(huán)形表面906上的研磨部段903的最內(nèi)部和最外點(diǎn)限定。研磨制品900可包括內(nèi)部環(huán)形區(qū)域，所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域包括第一類(lèi)研磨部段931，所述第一類(lèi)研磨部段931各自具有與彼此相比基本上相同的矩形二維形狀。此外，研磨制品包括基本上包含在外部環(huán)形區(qū)域內(nèi)的第二類(lèi)研磨部段921。第二類(lèi)研磨部段921中的每個(gè)研磨部段可具有大致矩形的二維形狀，并且特別可具有與彼此相比基本上相同的矩形二維形狀。第一類(lèi)研磨部段和第二類(lèi)研磨部段931和921中的研磨部段可具有基本上相同的尺寸和形狀，并且可通過(guò)中心環(huán)形區(qū)域彼此間隔開(kāi)，所述中心環(huán)形區(qū)域基本上不含任何研磨部段。根據(jù)接觸面積測(cè)試，研磨制品具有小于24％的研磨表面積百分比和大約0.098的nmcav。

圖10包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的圖像。研磨制品1000可包括本體1001，所述本體1001包括基材1002和聯(lián)接至基材1002的環(huán)形表面1006的研磨部段1003。研磨部段1003可包含在凹穴1015中，并且可粘結(jié)到凹穴1015內(nèi)的基材1002。研磨制品1000可包括跨越研磨環(huán)形區(qū)域1011內(nèi)的各個(gè)環(huán)形區(qū)域的各種旗形的研磨部段1003。研磨制品1000可包括內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、中心環(huán)形區(qū)域和外部環(huán)形區(qū)域。此外，研磨部段1003包括基本上包含在外部環(huán)形區(qū)域內(nèi)的第一端部部分1021、以及基本上包含在中心環(huán)形區(qū)域內(nèi)的中心部分1031。第一端部部分1021各自具有縱向軸線，并且中心部分1031各自具有縱向軸線。第一端部部分1021的縱向軸線與中心部分1031的縱向軸線之間的角度1041小于180度。

圖11包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的研磨制品的圖像。研磨制品1100可包括本體1101，所述本體1101包括基材1102和聯(lián)接至基材1102的環(huán)形表面1106的研磨部段1103。研磨部段1103可包含在凹穴1115中，并且可粘結(jié)到凹穴1115內(nèi)的基材1102。研磨制品1100可包括跨越研磨環(huán)形區(qū)域1111內(nèi)的各個(gè)環(huán)形區(qū)域的各種z形的研磨部段1103。研磨制品1100可包括內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、中心環(huán)形區(qū)域和外部環(huán)形區(qū)域。此外，研磨部段1103包括基本上包含在外部環(huán)形區(qū)域內(nèi)的第一端部部分1121、基本上包含在中心環(huán)形區(qū)域內(nèi)的中心部分1131和基本上包含在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域內(nèi)的第二端部部分1141。第一端部部分1121各自具有縱向軸線，中心部分1131各自具有縱向軸線，并且第二端部部分1141各自具有縱向軸線。在第一端部部分1121的縱向軸線和中心部分1131的縱向軸線之間的角度1151小于180度。在第二端部部分1141的縱向軸線和中心部分1131的縱向軸線之間的角度1161小于180度。

本文實(shí)施例的研磨制品代表了從現(xiàn)有技術(shù)的偏離，并且可特別適合于進(jìn)行多晶片研磨操作。在比較本實(shí)施例的研磨制品與常規(guī)研磨制品時(shí)，已注意到本文實(shí)施例的研磨制品促進(jìn)了改進(jìn)的多晶片研磨操作，伴隨對(duì)晶片的較小損害和提高的生產(chǎn)率。

許多不同方面和實(shí)施例是可能的。這些方面和實(shí)施例中的一些在本文描述。在閱讀本說(shuō)明書(shū)后，技術(shù)人員應(yīng)了解這些方面和實(shí)施例僅是舉例說(shuō)明性的，并且不限制本發(fā)明的范圍。實(shí)施例可根據(jù)如下文列出的任何一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例。

實(shí)施例1.一種研磨制品，所述研磨制品包括：本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括聯(lián)接至所述環(huán)形表面的研磨部段，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域、以及相對(duì)于研磨環(huán)形區(qū)域的總表面積不大于24％的研磨表面積百分比。

實(shí)施例2.一種研磨制品，所述研磨制品包括：本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括聯(lián)接至所述環(huán)形表面的研磨部段，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域，所述研磨環(huán)形區(qū)域具有內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、外部環(huán)形區(qū)域、以及設(shè)置在所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域和所述外部環(huán)形區(qū)域之間的中心環(huán)形區(qū)域，并且其中與所述中心環(huán)形區(qū)域中的研磨部段相比，在所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域或外部環(huán)形區(qū)域中的至少一個(gè)研磨部段具有不同的研磨表面積。

實(shí)施例3.一種研磨制品，所述研磨制品包括：本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括：具有第一研磨表面積(asa1)、聯(lián)接至所述環(huán)形表面的第一研磨部段；具有第二研磨表面積(asa2)、聯(lián)接至所述環(huán)形表面的第二研磨部段；并且其中asa1>asa2。

實(shí)施例4.一種研磨制品，所述研磨制品包括：本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括聯(lián)接至所述環(huán)形表面的研磨部段，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域，所述研磨環(huán)形區(qū)域具有內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、外部環(huán)形區(qū)域、以及設(shè)置在所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域和所述外部環(huán)形區(qū)域之間的中心環(huán)形區(qū)域，并且其中所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域包含限定第一分布的第一組研磨部段，并且所述中心區(qū)域包含限定第二分布的第二組研磨部段，其中所述第一分布不同于所述第二分布。

實(shí)施例5.一種研磨制品，所述研磨制品包括：本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括聯(lián)接至所述環(huán)形表面的研磨部段，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域，所述研磨環(huán)形區(qū)域具有定義為沿著徑向軸線在內(nèi)部環(huán)形圓周和外部環(huán)形圓周之間的距離的環(huán)形寬度，并且其中至少一個(gè)研磨部段延伸不大于所述環(huán)形寬度的95％。

實(shí)施例6.一種研磨制品，所述研磨制品包括：本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括研磨部段，所述研磨部段包括包含在粘結(jié)材料內(nèi)的研磨顆粒，所述研磨部段聯(lián)接至所述本體的環(huán)形表面，并且相對(duì)于彼此布置，以限定根據(jù)接觸面積測(cè)試不大于0.150的標(biāo)準(zhǔn)化的最大接觸面積變化(nmcav)。

實(shí)施例7.實(shí)施例1、2、3、4、5和6中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段具有選自多邊形、不規(guī)則多邊形、橢圓形、圓形、具有從中心區(qū)域延伸的一個(gè)或多個(gè)臂的本體、具有至少一個(gè)彎曲部分的形狀及其組合的二維形狀。

實(shí)施例8.實(shí)施例1、2、3、4、5和6中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段包括第一類(lèi)研磨部段和第二類(lèi)研磨部段，所述第一類(lèi)研磨部段包括第一二維形狀，所述第二類(lèi)研磨部段具有第二二維形狀，其中所述第一二維形狀在尺寸、輪廓及其組合的至少一個(gè)中不同于所述第二二維形狀。

實(shí)施例9.實(shí)施例1、2、3、4、5和6中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段包括具有第一長(zhǎng)度(l1)的第一研磨部段和具有第二長(zhǎng)度(l2)的第二研磨部段，并且其中l(wèi)1不同于l2。

實(shí)施例10.實(shí)施例9的研磨制品，其中l(wèi)1>l2。

實(shí)施例11.實(shí)施例9的研磨制品，其中所述第一研磨部段和第二研磨部段限定至少1.1:1、或至少1.2:1、或至少1.5:1、或至少2:1、或至少3:1、或至少4:1、或至少5:1、或至少6:1、或至少7:1、或至少8:1、或至少9:1、或至少10:1的比率(l1:l2)。

實(shí)施例12.實(shí)施例9的研磨制品，其中所述第一研磨部段和第二研磨部段限定不大于100:1、或不大于90:1、或不大于80:1、或不大于70:1、或不大于60:1、或不大于50:1、或不大于40:1、或不大于30:1、或不大于20:1、或不大于10:1、或不大于8:1、或不大于6:1、或不大于4:1的比率(l1:l2)。

實(shí)施例13.實(shí)施例1、2、3、4、5和6中任一項(xiàng)的研磨制品，其中所述研磨部段包括第一部分和第二部分，所述第一部分包括具有平均第一長(zhǎng)度(al1)的第一類(lèi)研磨部段，所述第二部分包括具有平均第二長(zhǎng)度(al2)的第二類(lèi)研磨部段，其中所述平均第一長(zhǎng)度不同于所述平均第二長(zhǎng)度。

實(shí)施例14.實(shí)施例13的研磨制品，其中al1>al2。

實(shí)施例15.實(shí)施例13的研磨制品，其中所述平均第一長(zhǎng)度和平均第二長(zhǎng)度限定至少1.1:1、或至少1.2:1、或至少1.5:1、或至少2:11、或至少3:1、或至少4:1、或至少5:1、或至少6:1、或至少7:1、或至少8:1、或至少9:1、或至少10:1的比率(al1:al2)。

實(shí)施例16.實(shí)施例13的研磨制品，其中所述平均第一長(zhǎng)度和平均第二長(zhǎng)度限定不大于100:1、或不大于90:1、或不大于80:1、或不大于70:1、或不大于60:1、或不大于50:1、或不大于40:1、或不大于30:1、或不大于20:1、或不大于10:1、或不大于8:1、或不大于6:1、或不大于4:1的比率(al1:al2)。

實(shí)施例17.實(shí)施例13的研磨制品，其中所述研磨環(huán)形區(qū)域包括內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、外部環(huán)形區(qū)域、以及設(shè)置在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域和外部環(huán)形區(qū)域之間的中心環(huán)形區(qū)域，并且其中所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域或外部環(huán)形區(qū)域包括與第一類(lèi)研磨部段的含量相比更大含量的第二類(lèi)研磨部段。

實(shí)施例18.實(shí)施例13的研磨制品，其中所述研磨環(huán)形區(qū)域包括內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、外部環(huán)形區(qū)域、以及設(shè)置在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域和外部環(huán)形區(qū)域之間的中心環(huán)形區(qū)域，并且其中所述中心環(huán)形區(qū)域包括與第二類(lèi)研磨部段的含量相比更大含量的第一類(lèi)研磨部段。

實(shí)施例19.實(shí)施例13的研磨制品，其中與第一類(lèi)研磨部段的含量相比，更大含量的第二類(lèi)研磨部段與研磨環(huán)形區(qū)域的內(nèi)部環(huán)形圓周相交。

實(shí)施例20.實(shí)施例13的研磨制品，其中與第一類(lèi)研磨部段的含量相比，更大含量的第二類(lèi)研磨部段與研磨環(huán)形區(qū)域的外部環(huán)形圓周相交。

實(shí)施例21.實(shí)施例13的研磨制品，其中與第二類(lèi)研磨部段的含量相比，更大含量的第一類(lèi)研磨部段與研磨環(huán)形區(qū)域的內(nèi)部環(huán)形圓周或外部環(huán)形圓周間隔開(kāi)。

實(shí)施例22.實(shí)施例2、3、4、5和6中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域、以及相對(duì)于研磨環(huán)形區(qū)域的總表面積不大于24％的研磨表面積百分比。

實(shí)施例23.實(shí)施例1和22中任何一個(gè)的研磨制品，其中研磨表面積百分比不大于23％、或不大于22％、或不大于21％、或不大于20％、或不大于19％、或不大于18％、或不大于17％、或不大于16％、或不大于15％、或不大于14％。

實(shí)施例24.實(shí)施例1、2、3、4、5和6中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段包括最長(zhǎng)研磨部段，所述最長(zhǎng)研磨部段具有的長(zhǎng)度小于所述研磨環(huán)形區(qū)域的環(huán)形寬度，其中所述最長(zhǎng)研磨部段具有不大于環(huán)形寬度的95％、或不大于90％、或不大于85％、或不大于80％、或不大于75％、或不大于70％、或不大于65％、或不大于60％、或不大于55％、或不大于50％的長(zhǎng)度。

實(shí)施例25.實(shí)施例24的研磨制品，其中所述最長(zhǎng)研磨部段具有環(huán)形寬度的至少10％、或至少15％、或至少20％、或至少25％、或至少30％、或至少35％、或至少40％、或至少45％、或至少50％、或至少55％、或至少60％、或至少65％、或至少70％的長(zhǎng)度。

實(shí)施例26.實(shí)施例1、3、4、5和6中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域，所述研磨環(huán)形區(qū)域具有內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、外部環(huán)形區(qū)域、以及設(shè)置在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域和外部環(huán)形區(qū)域之間的中心環(huán)形區(qū)域，并且其中所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域或外部環(huán)形區(qū)域中的至少一個(gè)研磨部段具有與所述中心環(huán)形區(qū)域中的研磨部段相比不同的研磨表面積。

實(shí)施例27.實(shí)施例2和26中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域或外部環(huán)形區(qū)域中的所述至少一個(gè)研磨部段包含與所述中心環(huán)形區(qū)域中的研磨部段相比更小的表面積。

實(shí)施例28.實(shí)施例1、2、4、5和6中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括聯(lián)接至所述環(huán)形表面的第一研磨部段以及聯(lián)接至所述環(huán)形表面的第二研磨部段，所述第一研磨部段具有第一研磨表面積(asa1)，所述第二研磨部段具有第二研磨表面積(asa2)，并且其中asa1>asa2。

實(shí)施例29.實(shí)施例3和28中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述本體包含至少1.1:1、或至少1.2:1、或至少1.5:1、或至少2:1、或至少3:1、或至少4:1、或至少5:1、或至少6:1、或至少7:1、或至少8:1、或至少9:1、或至少10:1的研磨表面積比(asa1:asa2)。

實(shí)施例30.實(shí)施例3和28中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述本體包含不大于100:1、或不大于90:1、或不大于80:1、或不大于70:1、或不大于60:1、或不大于60:1、或不大于50:1、或不大于40:1、或不大于30:1、或不大于20:1、或不大于10:1、或不大于8:1、或不大于6:1、或不大于4:1的研磨表面積比(asa1:asa2)。

實(shí)施例31.實(shí)施例1、2、3、5和6中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域，所述研磨環(huán)形區(qū)域具有內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、外部環(huán)形區(qū)域、以及設(shè)置在所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域和所述外部環(huán)形區(qū)域之間的中心環(huán)形區(qū)域，并且其中所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域包含限定第一分布的第一組研磨部段，并且所述中心區(qū)域包含限定第二分布的第二組研磨部段，其中所述第一分布不同于所述第二分布。

實(shí)施例32.實(shí)施例4和31中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述第一組研磨部段之間的間隔距離不同于第二組研磨部段之間的間隔距離。

實(shí)施例33.實(shí)施例4和31中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述第一組研磨部段之間的間隔距離為至少0.01(al1)，其中al1表示至少0.1(al1)、或至少0.5(al1)、或至少1(al1)、或至少2(al1)、或至少3(al1)、或至少4(al1)、或至少5(al1)、或至少6(al1)、或至少7(al1)、或至少8(al1)、或至少9(al1)、或至少10(al1)的第一組研磨部段的平均長(zhǎng)度。

實(shí)施例34.實(shí)施例4和31中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述第一組研磨部段之間的間隔距離不大于100(al1)，其中al1表示不大于90(al1)、或不大于90(al1)、或不大于80(al1)、或不大于70(al1)、或不大于60(al1)、或不大于50(al1)、或不大于40(al1)、或不大于30(al1)、或不大于20(al1)、或不大于15(al1)、或不大于12(al1)、或不大于10(al1)、或不大于9(al1)、或不大于8(al1)、或不大于7(al1)、或不大于6(al1)、或不大于5(al1)、或不大于4(al1)、或不大于3(al1)、或不大于2(al1)、或不大于1(al1)、或不大于0.1(al1)、或不大于0.01(al1)的第一組研磨部段的平均長(zhǎng)度。

實(shí)施例35.實(shí)施例4和31中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述第二組研磨部段之間的間隔距離為至少0.01(al2)，其中al2表示至少0.1(al2)、或至少0.5(al2)、或至少1(al2)、或至少2(al2)、或至少3(al2)、或至少4(al2)、或至少5(al2)、或至少6(al2)、或至少7(al2)、或至少8(al2)、或至少9(al2)、或至少10(al2)的第二組研磨部段的平均長(zhǎng)度。

實(shí)施例36.實(shí)施例4和31中任何一個(gè)的研磨制品，其中第二組研磨部段之間的間隔距離不大于100(al2)，其中al2表示不大于90(al2)、或不大于90(al2)、或不大于80(al2)、或不大于70(al2)、或不大于60(al2)、或不大于50(al2)、或不大于40(al2)、或不大于30(al2)、或不大于20(al2)、或不大于15(al2)、或不大于12(al2)、或不大于10(al2)、或不大于9(al2)、或不大于8(al2)、或不大于7(al2)、或不大于6(al2)、或不大于5(al2)、或不大于4(al2)、或不大于3(al2)、或不大于2(al2)、或不大于1(al2)、或不大于0.1(al2)、或不大于0.01(al2)的第二組研磨部段的平均長(zhǎng)度。

實(shí)施例37.實(shí)施例1、2、3和4中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域，所述研磨環(huán)形區(qū)域具有定義為沿著徑向軸線在內(nèi)部環(huán)形圓周和外部環(huán)形圓周之間的距離的環(huán)形寬度，并且其中至少一個(gè)研磨部段延伸不大于所述環(huán)形寬度的95％。

實(shí)施例38.實(shí)施例5和37中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述至少一個(gè)研磨部段延伸不大于環(huán)形寬度的90％、或不大于環(huán)形寬度的85％、或不大于80％、或不大于75％、或不大于70％、或不大于65％、或不大于60％、或不大于55％、或不大于50％、或不大于45％。

實(shí)施例39.實(shí)施例5和37中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述至少一個(gè)研磨部段延伸環(huán)形寬度的至少1％、或至少5％、或至少10％、或至少15％、或至少20％、或至少25％、或至少30％、或至少35％、或至少40％、或至少45％、或至少50％、或至少55％。

實(shí)施例40.實(shí)施例1、2、3、4和5中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段聯(lián)接至所述本體的環(huán)形表面，并且相對(duì)于彼此布置，以限定根據(jù)接觸面積測(cè)試不大于0.270的標(biāo)準(zhǔn)化的最大接觸面積變化(nmcav)。

實(shí)施例41.實(shí)施例6和40中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述標(biāo)準(zhǔn)化的最大接觸面積變化(nmcav)不大于0.149、不大于0.148、不大于0.147、不大于0.146、不大于0.145、不大于0.144、不大于0.143、不大于0.142、不大于0.141、不大于0.140、不大于0.139、不大于0.138、不大于0.137、不大于0.136、不大于0.135、不大于0.134、不大于0.133、不大于0.132、不大于0.131、不大于0.130、不大于0.129、不大于0.128、不大于0.127、不大于0.126、不大于0.125、不大于0.124、不大于0.123、不大于0.122、不大于0.121、不大于0.120、不大于0.119、不大于0.118、不大于0.117、不大于0.116、不大于0.115、不大于0.114、不大于0.113、不大于0.112、不大于0.111、不大于0.110、不大于0.109、不大于0.108、不大于0.107、不大于0.106、不大于0.105、不大于0.104、不大于0.103、不大于0.102、不大于0.101、不大于0.100、不大于0.095、不大于0.090、不大于0.085、不大于0.080、不大于0.075、不大于0.070、不大于0.065、不大于0.060、不大于0.055、不大于0.050、不大于0.045、不大于0.040、不大于0.035、不大于0.030、不大于0.025、不大于0.020、不大于0.015、不大于0.010、或甚至不大于0.005。而且，在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，nmcav可為至少0.0001。

實(shí)施例42.實(shí)施例6和40中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述nmcav為至少0.0001、至少0.0002、至少0.0004、至少0.0006、至少0.0008、至少0.001、至少0.005、至少0.01、至少0.02、至少0.04、至少0.05、至少0.06、至少0.07。

實(shí)施例43.實(shí)施例1、2、3、4、5和6中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段的至少一部分包括相對(duì)于相關(guān)的徑向軸線成一定角度的縱向軸線。

實(shí)施例44.實(shí)施例1、2、3、4、5和6中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段限定相對(duì)于在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域和中心環(huán)形區(qū)域中的研磨部段放置的交替圖案。

實(shí)施例45.實(shí)施例1、2、3、4、5和6中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段限定相對(duì)于在外部環(huán)形區(qū)域和中心環(huán)形區(qū)域中的研磨部段放置的交替圖案。

實(shí)施例46.實(shí)施例1、2、3、4、5和6中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段包括包含在粘結(jié)材料的三維體積中的研磨顆粒的經(jīng)粘結(jié)研磨部段。

實(shí)施例47.實(shí)施例46的研磨制品，其中所述研磨顆粒包含無(wú)機(jī)材料，其中所述研磨顆粒包含天然存在的材料，其中所述研磨顆粒包含合成材料，其中所述研磨顆粒包括選自下述的材料：氧化物、碳化物、氮化物、硼化物、碳氧化物、氮氧化物、硼氧化物、含碳材料、金剛石及其組合，其中所述研磨顆粒包含超級(jí)研磨材料，其中所述研磨顆粒基本上由金剛石組成，其中所述研磨顆粒包含具有多晶金剛石的含量。

實(shí)施例48.實(shí)施例46的研磨制品，其中每個(gè)研磨部段包括本體，所述本體包含相對(duì)于本體的總體積至少約0.1體積％、至少約0.25體積％的研磨顆粒、至少約0.5體積％、至少約0.6體積％、至少約0.7體積％、至少約0.8體積％、至少約0.9體積％、至少約1體積％、至少約2體積％、至少約3體積％、至少約4體積％、至少約5體積％的研磨顆粒。

實(shí)施例49.實(shí)施例46的研磨制品，其中每個(gè)研磨部段具有本體，所述本體包含相對(duì)于本體的總體積不大于約15體積％、不大于約12體積％、不大于約10體積％、不大于約8體積％、不大于約7體積％、不大于約6體積％、不大于約5體積％、不大于約4體積％、不大于約3體積％、不大于約2體積％、不大于約1.5體積％的研磨顆粒。

實(shí)施例50.實(shí)施例46的研磨制品，其中每個(gè)研磨部段包括配置成研磨無(wú)定形、單晶或多晶材料的本體，其中所述本體配置成研磨晶片，其中所述本體配置成研磨藍(lán)寶石，其中所述本體配置用于研磨具有至少約1500-3000kg/mm2的維氏硬度的材料。

實(shí)施例51.實(shí)施例46的研磨制品，其中所述粘結(jié)材料包括青銅，所述青銅包括銅(cu)和錫(sn)，其中所述青銅包含按重量計(jì)不大于約0.93、不大于約0.9、不大于約0.88、不大于約0.85、不大于約0.83、不大于約0.8、不大于約0.78、不大于約0.75、不大于約0.73、不大于約0.7、不大于約0.68、不大于約0.65、不大于約0.63、不大于約0.6、不大于約0.58、不大于約0.55、不大于約0.53、不大于約0.5、不大于約0.48、不大于約0.45、不大于約0.43、不大于約0.4、不大于約0.3、不大于約0.2的錫/銅比(sn/cu)。

實(shí)施例52.實(shí)施例46的研磨制品，其中每個(gè)研磨部段包括本體，所述本體包括相對(duì)于本體的總體積至少約50體積％、至少約55體積％、至少約60體積％、至少約65體積％、至少約70體積％、至少約75體積％、至少約80體積％、至少約85體積％、至少約90體積％、至少約92體積％、至少約94體積％、至少約96體積％、至少約97體積％、至少約98體積％的粘結(jié)材料。

實(shí)施例53.實(shí)施例46的研磨制品，其中每個(gè)研磨部段包括本體，所述本體包括相對(duì)于本體的總體積不大于約99.5體積％、不大于約99體積％、不大于約98體積％、不大于約97體積％、不大于約96體積％、不大于約95體積％的粘結(jié)材料。

實(shí)施例54.一種研磨制品，所述研磨制品包括：本體，所述本體具有環(huán)形表面，所述環(huán)形表面包括聯(lián)接至所述環(huán)形表面的研磨部段，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域，所述研磨環(huán)形區(qū)域具有內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、外部環(huán)形區(qū)域、以及設(shè)置在所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域和所述外部環(huán)形區(qū)域之間的中心環(huán)形區(qū)域，并且其中至少一個(gè)研磨部段跨越所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域、所述中心環(huán)形區(qū)域和所述外部環(huán)形區(qū)域；其中在所述內(nèi)部環(huán)形區(qū)域或所述外部環(huán)形區(qū)域中的所述至少一個(gè)研磨部段的第一端部部分不同于在所述中心環(huán)形區(qū)域中的所述至少一個(gè)研磨部段的中心部分，并且其中所述第一端部部分的縱向軸線與所述中心部分的縱向軸線之間的角度小于180度。

實(shí)施例55.實(shí)施例54的研磨制品，其中所述至少一個(gè)研磨部段還包括在內(nèi)部環(huán)形區(qū)域或外部環(huán)形區(qū)域中的第二端部部分，并且其中所述第二端部部分的縱向軸線與所述中心部分的縱向軸線之間的角度小于180度。

實(shí)施例56.實(shí)施例55的研磨制品，其中所述第一端部部分的縱向軸線平行于所述第二端部部分的縱向軸線。

實(shí)施例57.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述至少一個(gè)研磨部段的第一端部部分具有第一研磨表面積(pasa1)，并且所述至少一個(gè)研磨部段的中心部分具有第二研磨表面積(pasa2)；并且其中pasa1>pasa2。

實(shí)施例58.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述第一端部部分具有第一長(zhǎng)度(pl1)，并且所述中心部分具有第二長(zhǎng)度(plc)，并且其中pl1不同于plc。

實(shí)施例59.實(shí)施例58的研磨制品，其中plc>pl1。

實(shí)施例60.實(shí)施例58的研磨制品，其中所述至少一個(gè)部段的第一端部部分和中心部分限定至少1.1:1、或至少1.2:1、或至少1.5:1、或至少2:1、或至少3:1、或至少4:1、或至少5:1、或至少6:1、或至少7:1、或至少8:1、或至少9:1、或至少10:1的比率(plc:pl1)。

實(shí)施例61.實(shí)施例58的研磨制品，其中所述至少一個(gè)部段的第一端部部分和中心部分限定不大于100:1、或不大于90:1、或不大于80:1、或不大于70:1、或不大于60:1、或不大于50:1、或不大于40:1、或不大于30:1、或不大于20:1、或不大于10:1、或不大于8:1、或不大于6:1、或不大于4:1的比率(plc:pl1)。

實(shí)施例62.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域、以及相對(duì)于研磨環(huán)形區(qū)域的總表面積不大于24％的研磨表面積百分比。

實(shí)施例63.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨表面積百分比不大于23％、或不大于22％、或不大于21％、或不大于20％、或不大于19％、或不大于18％、或不大于17％、或不大于16％、或不大于15％、或不大于14％。

實(shí)施例64.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段包括最長(zhǎng)研磨部段，所述最長(zhǎng)研磨部段具有的長(zhǎng)度小于所述研磨環(huán)形區(qū)域的環(huán)形寬度，其中所述最長(zhǎng)研磨部段具有不大于環(huán)形寬度的95％、或不大于90％、或不大于85％、或不大于80％、或不大于75％、或不大于70％、或不大于65％、或不大于60％、或不大于55％、或不大于50％的長(zhǎng)度。

實(shí)施例65.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中至少一個(gè)研磨部段的中心部分具有環(huán)形寬度的至少10％、或至少15％、或至少20％、或至少25％、或至少30％、或至少35％、或至少40％、或至少45％、或至少50％、或至少55％、或至少60％、或至少65％、或至少70％的長(zhǎng)度。

實(shí)施例66.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段限定研磨環(huán)形區(qū)域，所述研磨環(huán)形區(qū)域具有定義為沿著徑向軸線在內(nèi)部環(huán)形圓周和外部環(huán)形圓周之間的距離的環(huán)形寬度，并且其中至少一個(gè)研磨部段延伸不大于所述環(huán)形寬度的95％。

實(shí)施例67.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段聯(lián)接至所述本體的環(huán)形表面，并且相對(duì)于彼此布置，以限定根據(jù)接觸面積測(cè)試不大于0.270的標(biāo)準(zhǔn)化的最大接觸面積變化(nmcav)。

實(shí)施例68.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述標(biāo)準(zhǔn)化的最大接觸面積變化(nmcav)不大于0.149、不大于0.148、不大于0.147、不大于0.146、不大于0.145、不大于0.144、不大于0.143、不大于0.142、不大于0.141、不大于0.140、不大于0.139、不大于0.138、不大于0.137、不大于0.136、不大于0.135、不大于0.134、不大于0.133、不大于0.132、不大于0.131、不大于0.130、不大于0.129、不大于0.128、不大于0.127、不大于0.126、不大于0.125、不大于0.124、不大于0.123、不大于0.122、不大于0.121、不大于0.120、不大于0.119、不大于0.118、不大于0.117、不大于0.116、不大于0.115、不大于0.114、不大于0.113、不大于0.112、不大于0.111、不大于0.110、不大于0.109、不大于0.108、不大于0.107、不大于0.106、不大于0.105、不大于0.104、不大于0.103、不大于0.102、不大于0.101、不大于0.100、不大于0.095、不大于0.090、不大于0.085、不大于0.080、不大于0.075、不大于0.070、不大于0.065、不大于0.060、不大于0.055、不大于0.050、不大于0.045、不大于0.040、不大于0.035、不大于0.030、不大于0.025、不大于0.020、不大于0.015、不大于0.010、或甚至不大于0.005。

實(shí)施例69.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述nmcav為至少0.0001、至少0.0002、至少0.0004、至少0.0006、至少0.0008、至少0.001、至少0.005、至少0.01、至少0.02、至少0.04、至少0.05、至少0.06、至少0.07。

實(shí)施例70.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段的中心部分的縱向軸線相對(duì)于相關(guān)的徑向軸線成一定角度。

實(shí)施例71.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述研磨部段包括包含在粘結(jié)材料的三維體積中的研磨顆粒的經(jīng)粘結(jié)研磨部段。

實(shí)施例72.實(shí)施例71的研磨制品，其中所述研磨顆粒包含無(wú)機(jī)材料，其中所述研磨顆粒包含天然存在的材料，其中所述研磨顆粒包含合成材料，其中所述研磨顆粒包括選自下述的材料：氧化物、碳化物、氮化物、硼化物、碳氧化物、氮氧化物、硼氧化物、含碳材料、金剛石及其組合，其中所述研磨顆粒包含超級(jí)研磨材料，其中所述研磨顆粒基本上由金剛石組成，其中所述研磨顆粒包含具有多晶金剛石的含量。

實(shí)施例73.實(shí)施例71的研磨制品，其中每個(gè)研磨部段包括本體，所述本體包含相對(duì)于本體的總體積至少約0.1體積％、至少約0.25體積％的研磨顆粒、至少約0.5體積％、至少約0.6體積％、至少約0.7體積％、至少約0.8體積％、至少約0.9體積％、至少約1體積％、至少約2體積％、至少約3體積％、至少約4體積％、至少約5體積％的研磨顆粒。

實(shí)施例74.實(shí)施例71的研磨制品，其中每個(gè)研磨部段具有本體，所述本體包含相對(duì)于本體的總體積不大于約15體積％、不大于約12體積％、不大于約10體積％、不大于約8體積％、不大于約7體積％、不大于約6體積％、不大于約5體積％、不大于約4體積％、不大于約3體積％、不大于約2體積％、不大于約1.5體積％的研磨顆粒。

實(shí)施例75.實(shí)施例71的研磨制品，其中每個(gè)研磨部段包括配置成研磨無(wú)定形、單晶或多晶材料的本體，其中所述本體配置成研磨晶片，其中所述本體配置成研磨藍(lán)寶石，其中所述本體配置用于研磨具有至少約1500-3000kg/mm²的維氏硬度的材料。

實(shí)施例76.實(shí)施例71的研磨制品，其中所述粘結(jié)材料包括青銅，所述青銅包括銅(cu)和錫(sn)，其中所述青銅包含按重量計(jì)不大于約0.93、不大于約0.9、不大于約0.88、不大于約0.85、不大于約0.83、不大于約0.8、不大于約0.78、不大于約0.75、不大于約0.73、不大于約0.7、不大于約0.68、不大于約0.65、不大于約0.63、不大于約0.6、不大于約0.58、不大于約0.55、不大于約0.53、不大于約0.5、不大于約0.48、不大于約0.45、不大于約0.43、不大于約0.4、不大于約0.3、不大于約0.2的錫/銅比(sn/cu)。

實(shí)施例77.實(shí)施例71的研磨制品，其中每個(gè)研磨部段包括本體，所述本體包括相對(duì)于本體的總體積至少約50體積％、至少約55體積％、至少約60體積％、至少約65體積％、至少約70體積％、至少約75體積％、至少約80體積％、至少約85體積％、至少約90體積％、至少約92體積％、至少約94體積％、至少約96體積％、至少約97體積％、至少約98體積％的粘結(jié)材料。

實(shí)施例78.實(shí)施例71的研磨制品，其中每個(gè)研磨部段包括本體，所述本體包括相對(duì)于本體的總體積不大于約99.5體積％、不大于約99體積％、不大于約98體積％、不大于約97體積％、不大于約96體積％、不大于約95體積％的粘結(jié)材料。

實(shí)施例79.實(shí)施例54和55中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述至少一個(gè)部段是大致旗形的。

實(shí)施例80.實(shí)施例54、55和56中任何一個(gè)的研磨制品，其中所述至少一個(gè)部段具有大致z形。

實(shí)施例81.一種使用來(lái)自實(shí)施例1、2、3、4、5、6、55、55和56中任何一個(gè)的任何一種研磨制品從多個(gè)基材去除材料的方法。

實(shí)例

根據(jù)本文所述的實(shí)施例制備四個(gè)樣品研磨砂輪(sgw1、sgw2、sgw3和sgw4)。樣品研磨砂輪sgw1包括以大致對(duì)半拆分部段設(shè)計(jì)布置的研磨部段，如圖8所示。樣品研磨砂輪sgw2包括以大致完全拆分部段設(shè)計(jì)布置的研磨部段，如圖9所示。樣品研磨砂輪sgw3包括在設(shè)計(jì)中為大致旗形并且如圖10所示布置的研磨部段。研磨砂輪sgw4包括在設(shè)計(jì)中為大致z形并且如圖11所示布置的研磨部段。

還制備了比較研磨砂輪(cgw1)。比較研磨砂輪cgw1包括一般如圖12所示布置的直的單個(gè)尺寸的研磨部段。

研磨砂輪sgw1、sgw2、sgw3、sgw4和cgw1通過(guò)根據(jù)下表1所示的參數(shù)測(cè)量總厚度變化(ttv)來(lái)測(cè)試研磨性能。

表1-研磨性能測(cè)試參數(shù)

通過(guò)樣品研磨砂輪sgw1、sgw2、sgw3和sgw4以及比較研磨砂輪cgw1各自實(shí)現(xiàn)的研磨性能在下表2中概括。

表2-研磨性能概括

圖12示出了比較樣品研磨砂輪sgw1、sgw2、sgw3和sgw4的研磨性能與比較研磨砂輪cgw1的研磨性能的圖。如圖12所示，與比較研磨砂輪cgw1相比，所有四個(gè)樣品研磨砂輪sgw1、sgw2、sgw3和sgw4都顯示改進(jìn)的(即較低的)ttv性能。特別地，樣品研磨砂輪sgw2顯示在ttv研磨性能中超過(guò)比較研磨砂輪cgw1的接近2x改進(jìn)(即，在研磨測(cè)試期間少大約50％的ttv)。此外，樣品研磨砂輪sgw1、sgw3和sgw4顯示在ttv研磨性能中超過(guò)比較研磨砂輪cgw1的至少3x改進(jìn)(即，在研磨測(cè)試期間少大約66％的ttv)。

如上公開(kāi)的主題被認(rèn)為是說(shuō)明性的而非限制性的，所附權(quán)利要求旨在涵蓋落入本發(fā)明的真實(shí)范圍內(nèi)的所有這種修改、增強(qiáng)和其他實(shí)施例。因此，在法律允許的最大程度內(nèi)，本發(fā)明的范圍將由如下權(quán)利要求及其等同形式的最廣允許解釋確定，不應(yīng)由如上具體實(shí)施方式限制或限定。

提供說(shuō)明書(shū)摘要以符合專(zhuān)利法，在了解說(shuō)明書(shū)摘要不用于解釋或限定權(quán)利要求的范圍或含義的情況下提交說(shuō)明書(shū)摘要。另外，在如上附圖的詳細(xì)描述中，為了簡(jiǎn)化本公開(kāi)內(nèi)容，各個(gè)特征可在單個(gè)實(shí)施例中組合在一起或進(jìn)行描述。本公開(kāi)內(nèi)容不解釋為反映如下意圖：所要求保護(hù)的實(shí)施例需要比在每個(gè)權(quán)利要求中明確記載的更多的特征。相反，如下述權(quán)利要求所反映，本發(fā)明的主題可涉及比所公開(kāi)的實(shí)施例中的任意者的全部特征更少的特征。因此，如下權(quán)利要求引入附圖的詳細(xì)描述，每個(gè)權(quán)利要求本身分別限定所要求保護(hù)的主題。