1.真空濺射鍍膜機膜厚調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，包括立式爐體、若干設置于所述立式爐體內(nèi)的靶材、垂直設置于所述立式爐體內(nèi)的中空充氣架，所述中空充氣架的中心線與所述立式爐體的中心線相重合，所述中空充氣架相對所述立式爐體相轉(zhuǎn)動設置，所述中空充氣架由電機驅(qū)動轉(zhuǎn)動，所述中空充氣架的側壁上開設有若干正對所述靶材的出氣孔，所述中空充氣架的兩端閉合，所述中空充氣架通過送氣管道與氣體控制柜上的氣體調(diào)節(jié)閥相連通，所述送氣管道與所述中空充氣架之間通過球形接頭相連接；所述中空充氣架的上下兩端與所述立式爐體之間通過轉(zhuǎn)動軸承相連接。
2.根據(jù)權利要求1所述的真空濺射鍍膜機膜厚調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述送氣管道上設置有用于監(jiān)測氣體充入多少的流量控制閥。
3.根據(jù)權利要求1所述的真空濺射鍍膜機膜厚調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述中空充氣架的橫截面呈矩形。