1.一種去除小型真空感應爐澆注過程夾雜物的裝置，包括裝置本體，其特征在于，所述裝置本體由導流隔墻(3)分隔成兩個區(qū)域，一個區(qū)域為鋼液駐留區(qū)，鋼液駐留區(qū)的底部設(shè)有澆注下水口(4)，另一個區(qū)域為鋼水緩沖區(qū)，導流隔墻(3)在下部開有導流孔(6)，連通鋼液駐留區(qū)和鋼水緩沖區(qū)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述去除小型真空感應爐澆注過程夾雜物的裝置，其特征在于，所述裝置本體的底部為平面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述去除小型真空感應爐澆注過程夾雜物的裝置，其特征在于，所述裝置本體為容器，包括裝置外殼(1)和裝置內(nèi)襯(2)，裝置內(nèi)襯(2)上設(shè)置導流隔墻固定槽(5)，導流隔墻(3)豎直設(shè)置在導流隔墻固定槽(5)中。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述去除小型真空感應爐澆注過程夾雜物的裝置，其特征在于，所述裝置外殼(1)采用鋼板加固框架。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述去除小型真空感應爐澆注過程夾雜物的裝置，其特征在于，所述導流隔墻(3)的下沿在裝置底面以下，側(cè)沿在裝置內(nèi)壁表面以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述去除小型真空感應爐澆注過程夾雜物的裝置，其特征在于，所述導流孔(6)與裝置本體底部的距離為0-30mm，孔的高度為13-43mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述去除小型真空感應爐澆注過程夾雜物的裝置，其特征在于，所述導流孔(6)有兩個，位于同一水平面上，兩孔的中心距為34-154mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述去除小型真空感應爐澆注過程夾雜物的裝置，其特征在于，所述下水口(4)與導流隔墻(3)的水平距離為30-60mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述去除小型真空感應爐澆注過程夾雜物的裝置，其特征在于，所述鋼液駐留區(qū)與鋼水緩沖區(qū)的容積比例為(1:2)～(9:10)。