本實用新型屬于一種光學(xué)制造設(shè)備的部件，主要用于光學(xué)平面拋光機(jī)精磨或拋光的冷卻機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)：

在光電行業(yè)中，大量的晶體基片和光學(xué)面板需要進(jìn)行雙面平面的精磨和拋光加工，隨著現(xiàn)代科技的發(fā)展，對晶體基片和光學(xué)面板的面積要求越來越大，厚度越來越薄，平面度和表面粗糙度越來越高，目前晶體基片的直徑要求已達(dá)到200mm，厚度要求達(dá)到0.2mm，平面度要求達(dá)到0.004mm，這就對其加工的機(jī)床提出新的更高的要求。

現(xiàn)有的晶體基片和光學(xué)面板平面拋光機(jī)，它的冷卻系統(tǒng)機(jī)構(gòu)比較陳舊，尤其是中盤的結(jié)構(gòu)（見圖1），采用迷宮式的冷卻循環(huán)方式。其工作過程：冷卻液從進(jìn)水口A進(jìn)入，順著五個環(huán)型槽的位置和方向(見小箭頭方向)向中盤的四周逆時針流動，在遇到Z型槽時，冷卻液自然從Z型槽的位置向出水口B流出，從而實現(xiàn)對機(jī)床的冷卻。由于冷卻液做圓周流動，冷卻液流動的行程較長，而且各個環(huán)型槽的行程也不等，在流動過程中，受冷卻液流動速度及機(jī)床轉(zhuǎn)動速度的影響，出現(xiàn)中盤和上盤盤面不同直徑區(qū)域的溫度不均勻，進(jìn)水口和出水口的冷卻液溫差較大，上盤和中盤盤面之間變形，接觸不平，使拋光墊脫膠，從而造成加工后的晶體基片或光學(xué)面板的尺寸精度、平面度精度不能保障，時常出現(xiàn)超差，生產(chǎn)效率偏低，不能滿足現(xiàn)行生產(chǎn)的要求。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的主要任務(wù)和目的是，根據(jù)現(xiàn)有的光學(xué)平面拋光機(jī)冷卻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)存在的缺陷，通過改進(jìn)，設(shè)計一種新的冷卻系統(tǒng)機(jī)構(gòu)，從根本上消除系統(tǒng)的冷卻液流動的行程較長、中盤和上盤盤面溫度不均勻以及進(jìn)水口出水口的冷卻液溫差較大的現(xiàn)象，達(dá)到保障被加工件的精度質(zhì)量，提高生產(chǎn)效率，滿足現(xiàn)行生產(chǎn)的要求。

本實用新型的主要技術(shù)方案：本實用新型包含中盤、下盤、螺栓、螺釘、銷、小密封圈、隔熱圈、擋水圈、大密封圈，具體結(jié)構(gòu)，由中盤和下盤通過螺栓、螺釘、小密封圈、大密封圈密封連接，下盤底部粘接隔熱圈，在下盤和隔熱圈外通過螺釘安裝一個擋水圈；所述的中盤的結(jié)構(gòu)，在中盤上均布8—14個扇形循環(huán)槽，扇形循環(huán)槽一邊有一個進(jìn)水槽，另一邊有一個出水槽。

本實用新型通過實際應(yīng)用證明：完全達(dá)到設(shè)計目的，在工作時，中盤的進(jìn)水口和出水口之間的循環(huán)行程比以前迷宮式冷卻循環(huán)方式的行程大大縮短，使中盤和上盤盤面的溫度均勻一致；在工作中，由于溫度不均勻造成的上盤和中盤盤面之間變形接觸不平的現(xiàn)象得到了有效的控制；在工件的尺寸精度、平面度以及表面粗糙度方面，合格率由原來的88%提高到97%以上；生產(chǎn)效率提高一倍以上，實踐中能夠滿足現(xiàn)行生產(chǎn)的要求。

附圖說明

下面結(jié)合附圖，對本實用新型作進(jìn)一步詳細(xì)地描述。

圖1，是現(xiàn)有的平面拋光機(jī)冷卻系統(tǒng)的中盤結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2，是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3，是本實用新型的中盤1的立體圖。

圖4，是本實用新型的中盤1的剖視俯視圖，主要表示扇形冷卻循環(huán)槽結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖5，是本實用新型裝入光學(xué)平面拋光機(jī)應(yīng)用的示意圖。

圖6，是圖5標(biāo)記D的放大圖。

具體實施方式

參照圖2、3、4，對本實用新型的主要技術(shù)方案進(jìn)行說明：本實用新型包含中盤1、下盤2、螺栓3、螺釘4、銷5、小密封圈6、隔熱圈7、擋水圈8、大密封圈9，具體結(jié)構(gòu)：由中盤1和下盤2通過螺栓3、螺釘4、小密封圈6、大密封圈9密封連接，下盤2底部粘接隔熱圈7，在下盤2和隔熱圈7外通過螺釘4安裝一個擋水圈8；所述的中盤1的結(jié)構(gòu)，在中盤上均布8—14個扇形循環(huán)槽11，扇形循環(huán)槽一邊有一個進(jìn)水槽10，另一邊有一個出水槽12。所述的中盤1的結(jié)構(gòu)，在中盤上可均布12個扇形循環(huán)槽11。所述的中盤1的結(jié)構(gòu)，在中盤上可均布8個扇形循環(huán)槽11。所述的中盤1的結(jié)構(gòu)，在中盤上可均布14個扇形循環(huán)槽11。

由于加工工件直徑在50mm～150mm之間的較多，中盤組件的直徑在1330～1390mm之間，因此目前中盤1的扇形循環(huán)槽11生產(chǎn)的多為12個。扇形循環(huán)槽11的數(shù)量是根據(jù)中盤組件的直徑大小而定。

參照圖2、5、6，本實用新型的工作過程：首先將本實用新型與拋光機(jī)床的主軸盤13通過螺栓3、螺釘4同軸固定連接（見圖5），并與機(jī)床的進(jìn)水管組14和出水管組15接通（見圖6），上面與拋光機(jī)床的上盤16配合連接（見圖5）；工作時，冷卻液通過進(jìn)水管組14從進(jìn)水槽10進(jìn)入扇形循環(huán)槽11內(nèi)（見圖4），而后順著箭頭方向沿著出水槽12通過出水管組15流出，如此反復(fù)循環(huán)，從而實現(xiàn)對機(jī)床的中、上盤的冷卻。

本實用新型已用于數(shù)控大四軸晶體拋光機(jī)和普通數(shù)控單軸晶體拋光機(jī)等多種平面精磨和拋光設(shè)備，效果較好。