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一種大口徑超薄光學元件研磨拋光用裝置的制作方法

文檔序號:12573754閱讀:319來源:國知局
一種大口徑超薄光學元件研磨拋光用裝置的制作方法

本實用新型涉及光學元件加工技術(shù)領域,尤其涉及一種大口徑超薄光學元件研磨拋光用裝置。



背景技術(shù):

大口徑超薄光學元件具有口徑大、厚度小、透射面形精度高、平行度高及光潔度好等特點,可用作大型高能激光裝置的屏蔽片、光柵基板及精密天文儀器的光學窗口等。然而目前的大口徑超薄光學元件加工還存在以下問題:1.研磨拋光過程中,大口徑超薄光學元件的兩表面的平行度修整依靠人工加壓,修整效率低;2.工件出現(xiàn)翹角、踏邊等不良現(xiàn)象,對研磨拋光的操作者的經(jīng)驗要求高;3.采用中部加壓方式,研磨拋光不均勻并且加工效率低;4.采用巨型雙面研磨拋光機加工則設備投資大、成本高。因此需要一種能解決上述缺陷又適用于與目前光學冷加工普遍使用的單軸研磨拋光機、雙軸研磨拋光機配套的大口徑超薄光學元件研磨拋光用裝置。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

針對現(xiàn)有技術(shù)缺陷,本實用新型提供大口徑超薄光學元件研磨拋光用裝置,該裝置與目前光學冷加工普遍使用的單軸研磨拋光機、雙軸研磨拋光機配套使用,提高平行度修整效率,改善大口徑超薄光學元件研磨拋光出現(xiàn)的翹角、踏邊現(xiàn)象,可調(diào)節(jié)加壓使研磨拋光更均勻、效率更高。

為解決上述技術(shù)問題,本實用新型采用的技術(shù)方案是:

本實用新型提供一種大口徑超薄光學元件研磨拋光用裝置,包括:基板、擋板、鐵筆接頭、配重、吸附墊片;其中,所述基板為長方形或者正方形的板材,所述基板四周通過螺絲安裝四塊所述擋板,所述基板上表面中部通過螺絲安裝所述鐵筆接頭,所述基板下表面貼有吸附墊片,所述吸附墊片吸附工件在單軸研磨拋光機或者雙軸研磨拋光機上研磨拋光。

所述基板的材料為鋁合金板材;所述基板的長度比工件的長度大1mm;所述基板的寬度比工件的寬度大1mm;所述基板的厚度為15mm;所述基板四周設置有用于安裝四塊所述擋板的螺紋孔A共12個;所述基板上表面中部設置有用于安裝所述鐵筆接頭的螺紋孔B共4個;所述基板上表面邊緣設置有4個螺紋孔C連接所述配重。

所述擋板有4個,為長方形,所述擋板的材料為尼龍、聚四氟乙烯中的一種;所述擋板上設置有3個通孔E用于與所述基板四周的螺紋孔A配合安裝。

所述鐵筆接頭的材料為304不銹鋼;所述鐵筆接頭邊緣帶有四個通孔F,所述通孔F與所述基板上表面中部的螺紋孔B配合,所述鐵筆接頭中部帶有圓形凹坑,所述圓形凹坑與單軸研磨拋光機或者雙軸研磨拋光機的鐵筆連接。

所述配重有4個,為正方形銅塊;所述配重中心設置有通孔H用于連接所述基板上表面邊緣設置的4個螺紋孔C;所述配重的邊長為100mm,厚度為25mm。

所述吸附墊片為具有彈性的硅橡膠;所述吸附墊片為方形,厚度是3mm,粘貼在所述基板上;所述吸附墊片上開有方格及凹槽,所述方格的邊長D為40mm,所述凹槽的寬度d為3mm,所述凹槽的深度為2mm。

本實用新型的工作過程是:將本實用新型吸附墊片面向上平放,將工件放置在所述吸附墊片上壓緊,工件吸附在所述吸附墊片上后,將本實用新型和工件連接到單軸研磨拋光機或者雙軸研磨拋光機上的鐵筆上進行研磨拋光;工作一段時間取下工件測量工件的四個角的厚度差,根據(jù)四個角的厚度差,調(diào)整本實用新型的配重,在厚度差大的區(qū)域添加配重的數(shù)量,厚度差小的區(qū)域減少配重的數(shù)量,當厚度差滿足要求時取下所有配重;當工件研磨拋光完成一面時,取下工件翻面后繼續(xù)研磨拋光至達到要求為止。

本實用新型的優(yōu)點是:本實用新型采用吸附上盤,上盤及卸盤操作方便,并且添加了配重,可以提高平行度修整效率,改善大口徑超薄光學元件研磨拋光出現(xiàn)的翹角、踏邊現(xiàn)象,可調(diào)節(jié)加壓使研磨拋光更均勻、效率更高。

附圖說明

圖1是本實用新型的一種大口徑超薄光學元件研磨拋光用裝置的等軸測視圖;

圖2是本實用新型的一種大口徑超薄光學元件研磨拋光用裝置的俯視圖;

圖3是圖2的A-A方向的剖視圖;

圖4是本實用新型的一種大口徑超薄光學元件研磨拋光用裝置的仰視圖;

圖中零部件及編號:1-基板,101-螺紋孔A,102-螺紋孔B,2-擋板,201-通孔E,3-鐵筆接頭,301-通孔F,302-圓形凹坑,4-配重,5-吸附墊片。

具體實施方式

下面結(jié)合實施例和附圖對本實用新型進行進一步說明。

如圖1、圖2、圖3、圖4,一種大口徑超薄光學元件研磨拋光用裝置,包括:基板1、擋板3、鐵筆接頭3、配重4、吸附墊片5;其中,所述基板1為長方形或者正方形的板材,所述基板1四周通過螺絲安裝四塊所述擋板2,所述基板1上表面中部通過螺絲安裝所述鐵筆接頭3,所述基板1下表面貼有吸附墊片5,所述吸附墊片5吸附工件6在單軸研磨拋光機或者雙軸研磨拋光機上研磨拋光。

所述基板1的材料為鋁合金板材;所述基板1的長度比工件6的長度大1mm;所述基板1的寬度比工件6的寬度大1mm;所述基板1的厚度為15mm;所述基板1四周設置有用于安裝四塊所述擋板2的螺紋孔A101共12個;所述基板1上表面中部設置有用于安裝所述鐵筆接頭3的螺紋孔B102共4個;所述基板1上表面邊緣設置有4個螺紋孔C連接所述配重。

所述擋板2有4個,為長方形,所述擋板2的材料為尼龍、聚四氟乙烯中的一種;所述擋板2上設置有3個通孔E201用于與所述基板1四周的螺紋孔A101配合安裝。

所述鐵筆接頭3的材料為304不銹鋼;所述鐵筆接頭3邊緣帶有四個通孔F301,所述通孔F301與所述基板1上表面中部的螺紋孔B102配合,所述鐵筆接頭3中部帶有圓形凹坑302,所述圓形凹坑302與單軸研磨拋光機或者雙軸研磨拋光機的鐵筆連接。

所述配重4有4個,為正方形銅塊;所述配重4中心設置有通孔H用于連接所述基板1上表面邊緣設置的4個螺紋孔C;所述配重4的邊長為100mm,厚度為25mm。

所述吸附墊片5為具有彈性的硅橡膠;所述吸附墊片5為方形,厚度是3mm,粘貼在所述基板1上;所述吸附墊片5上開有方格及凹槽,所述方格的邊長D為40mm,所述凹槽的寬度d為3mm,所述凹槽的深度為2mm。

所述工件6的尺寸為430mm×430mm×3mm、330mm×330mm×2mm、200mm×200mm×2mm中的任一種;所述工件6的材料為高硼硅浮法玻璃、K9玻璃、熔石英玻璃中的任一種。

本實用新型的工作過程是:將本實用新型吸附墊片面向上平放,將工件6放置在所述吸附墊片5上壓緊,工件6吸附在所述吸附墊片5上后,將本實用新型和工件6連接到單軸研磨拋光機或者雙軸研磨拋光機上的鐵筆上進行研磨拋光;工作一段時間取下工件6測量工件6的四個角的厚度差,根據(jù)四個角的厚度差,調(diào)整本實用新型的配重,在厚度差大的區(qū)域添加配重4的數(shù)量,厚度差小的區(qū)域減少配重4的數(shù)量,當厚度差滿足要求時取下所有配重4;當工件6研磨拋光完成一面時,取下工件6翻面后繼續(xù)研磨拋光至達到要求為止。

以上所述僅為本實用新型實施例,并非因此限定本實用新型的專利范圍,凡是利用本說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運用在其它相關(guān)的技術(shù)領域,均同理包括的本實用新型的專利保護范圍之內(nèi)。

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