本實(shí)用新型涉及冶金行業(yè)煉鋼真空精煉領(lǐng)域，尤其涉及一種新型RH提升氣體閥站。

背景技術(shù)：

RH提升氣閥站是RH真空精煉裝置的重要組成部分，是實(shí)現(xiàn)鋼液在真空室和鋼水罐中建立循環(huán)的動(dòng)力來源，提升氣體使用氬氣。真空室插入管中提升氣噴咀的數(shù)量按照插入管內(nèi)徑的不同，一般設(shè)有12~20個(gè)，對(duì)應(yīng)外部提升氣閥站中設(shè)有4~10個(gè)控制回路，當(dāng)然也有只設(shè)2個(gè)控制回路的。每個(gè)控制回路目前一般采用一體式流量控制器，或者采用分體式的流量計(jì)和流量調(diào)節(jié)閥，實(shí)現(xiàn)大范圍、準(zhǔn)確的流量控制，通常采用進(jìn)口儀表設(shè)備，當(dāng)控制回路較多時(shí)，整體費(fèi)用高昂。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種低成本、高精度的RH提升氣體閥站。

本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的：

本實(shí)用新型提供一種RH提升氣體閥站，其特征在于，包括：一氬氣供應(yīng)主管，所述氬氣供應(yīng)主管上具有一氬氣切斷閥；至少一控流單元，每一所述控流單元具有一進(jìn)氣端以及一出氣端，所述進(jìn)氣端與所述氬氣供應(yīng)主管連接，每一所述控流單元包括至少兩級(jí)管路，每級(jí)管路上具有一電磁閥和一限流孔板；一真空室插入管，與所述出氣端連接。

進(jìn)一步地，包括一氮?dú)夤?yīng)主管，所述氮?dú)夤?yīng)主管上具有一氮?dú)馇袛嚅y，所述氮?dú)夤?yīng)主管與所述進(jìn)氣端連接。

進(jìn)一步地，所述氬氣供應(yīng)主管與所述氮?dú)夤?yīng)主管匯合至一氣體供應(yīng)總管，所述氣體供應(yīng)總管與所述進(jìn)氣端連接。

進(jìn)一步地，當(dāng)所述控流單元為多個(gè)時(shí)，所述氣體供應(yīng)總管分成多個(gè)分支結(jié)構(gòu)并分別與多個(gè)所述控流單元的進(jìn)氣端連接。

進(jìn)一步地，當(dāng)所述控流單元為多個(gè)時(shí)，多個(gè)所述控流單元為相同的。

進(jìn)一步地，同一控流單元的每級(jí)管路上的限流孔板限制的氣體流量不同。

本實(shí)用新型具有以下有益效果：

本實(shí)用新型RH提升氣體閥站采用以限流孔板為核心元件的控流單元來分級(jí)調(diào)控提升氣體流量，替代造價(jià)昂貴的以一體式流量控制器為核心元件的無級(jí)調(diào)控提升氣體流量的控流單元，實(shí)現(xiàn)極低成本、高精度的提升氣體流量控制。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的RH提升氣體閥站的示意圖；

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的RH提升氣體閥站的控流單元的放大圖。

附圖標(biāo)記說明：1-氬氣供應(yīng)主管、11-氬氣切斷閥、2、氮?dú)夤?yīng)主管、21-氮?dú)馇袛嚅y、10-氣體供應(yīng)總管、3a-第一控流單元、3b-第二控流單元、3c-第三控流單元、3d-第四控流單元、31-Ⅰ級(jí)電磁閥、32-Ⅱ級(jí)電磁閥、33-Ⅲ級(jí)電磁閥、34-Ⅰ級(jí)限流孔板、35-Ⅱ級(jí)限流孔板、36-Ⅲ級(jí)限流孔板、4-真空室插入管。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

如圖1所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種RH提升氣體閥站，包括一氬氣供應(yīng)主管1、一氮?dú)夤?yīng)主管2、四個(gè)控流單元3a、3b、3c、3d以及一真空室插入管4。

如圖1所示，所述氬氣供應(yīng)主管1用于提供氬氣作為真空室插入管4的提升氣體，其上具有一氬氣切斷閥11，所述氮?dú)夤?yīng)主管2用于提供氮?dú)庾鳛檎婵帐也迦牍?的防堵塞氣體，其上具有一氮?dú)馇袛嚅y21，所述氬氣供應(yīng)主管1與所述氮?dú)夤?yīng)主管2匯合至一氣體供應(yīng)總管10并與四個(gè)所述控流單元3a、3b、3c、3d連接。在其他實(shí)施例中也可以不設(shè)所述氮?dú)夤?yīng)主管2，相應(yīng)地也不需要設(shè)所述氣體供應(yīng)總管10。

如圖1和圖2所示，四個(gè)所述控流單元3a、3b、3c、3d為相同的，其包括第一控流單元3a、第二控流單元3b、第三控流單元3c、第四控流單元3d，每一所述控流單元3a、3b、3c、3d具有一進(jìn)氣端以及一出氣端，所述氣體供應(yīng)總管10分成四個(gè)分支結(jié)構(gòu)并分別與第一控流單元3a、第二控流單元3b、第三控流單元3c、第四控流單元3d的進(jìn)氣端連接，四個(gè)所述出氣端均與所示真空室插入管4連接。每一所述控流單元3a、3b、3c、3d包括并行設(shè)置的三級(jí)管路，分別為Ⅰ級(jí)管路、Ⅱ級(jí)管路、Ⅲ級(jí)管路，每級(jí)管路上具有一電磁閥和一限流孔板，具體為：所述Ⅰ級(jí)管路上具有一Ⅰ級(jí)電磁閥31、一Ⅰ級(jí)限流孔板34，所述Ⅱ級(jí)管路上具有一Ⅱ級(jí)電磁閥32、一Ⅱ級(jí)限流孔板35，所述Ⅲ級(jí)管路上具有一Ⅲ級(jí)電磁閥33、一Ⅲ級(jí)限流孔板36。通過使用不同規(guī)格的限流孔板來限制每級(jí)管路的氣體流量，并通過電磁閥控制相應(yīng)管路的打開和關(guān)閉。本實(shí)施例中設(shè)定Ⅰ級(jí)管路氣體流量為 Q1，Ⅱ級(jí)管路氣體流量為Q2，Ⅲ級(jí)管路氣體流量為Q3，且Q1<Q2<Q3。

本實(shí)用新型實(shí)施例的RH提升氣體閥站的使用方法如下：真空室插入管工作狀態(tài)下，氬氣作為提升氣體時(shí)，氬氣切斷閥11開啟，氮?dú)馇袛嚅y12關(guān)閉，鋼液處理初期，防止鋼液噴濺嚴(yán)重，提升氣體流量為4×Q1，此時(shí)第一控流單元3a、第二控流單元3b、第三控流單元3c、第四控流單元3d均開啟Ⅰ級(jí)管路，具體為Ⅰ級(jí)電磁閥31 開啟，Ⅱ級(jí)電磁閥32關(guān)閉，Ⅲ級(jí)電磁閥33關(guān)閉；氣體流經(jīng)Ⅰ級(jí)限流孔板34。鋼液處理中期，為提高環(huán)流效率，提升氣體流量為4×Q2，此時(shí)第一控流單元3a、第二控流單元3b、第三控流單元3c、第四控流單元3d均開啟Ⅱ級(jí)管路，具體為Ⅰ級(jí)電磁閥31關(guān)閉、Ⅱ級(jí)電磁閥32開啟、Ⅲ級(jí)電磁閥33關(guān)閉；氣體流經(jīng)Ⅱ級(jí)限流孔板35。鋼液處理后期，為調(diào)整鋼中合金均勻度，提升氣體流量為4×Q3，此時(shí)第一控流單元3a、第二控流單元3b、第三控流單元3c、第四控流單元3d均開啟Ⅲ級(jí)管路，具體為Ⅰ級(jí)電磁閥31關(guān)閉，Ⅱ級(jí)電磁閥32關(guān)閉，Ⅲ級(jí)電磁閥33開啟；氣體流經(jīng)Ⅲ級(jí)限流孔板36。

真空室插入管非工作狀態(tài)下，氮?dú)庾鳛檎婵帐也迦牍芊蓝氯麣怏w時(shí)，氬氣切斷閥11關(guān)閉，氮?dú)馇袛嚅y12開啟，防堵塞氣體流量為4×Q1，此時(shí)第一控流單元3a、第二控流單元3b、第三控流單元3c、第四控流單元3d均開啟Ⅰ級(jí)管路，具體為Ⅰ級(jí)電磁閥31 開啟，Ⅱ級(jí)電磁閥32 關(guān)閉，Ⅲ級(jí)電磁閥33關(guān)閉；氣體流經(jīng)Ⅰ級(jí)限流孔板34 。

本實(shí)施例中控流單元的數(shù)量以及每一控流單元的管路數(shù)量均是是示例性的，在實(shí)際應(yīng)用中，需要根據(jù)真空室插入管所需提升氣體流量來確定控流單元的數(shù)量，并由每個(gè)控流單元所需控制的真空室插入管上的吹氣管數(shù)量決定每個(gè)控流單元的管路數(shù)量。

以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。