技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種基于磁控濺射的NiO電致變色薄膜生產(chǎn)工藝，該工藝基于立式連續(xù)真空磁控濺射設(shè)備實(shí)現(xiàn)，所述工藝包括：在玻璃基板上先利用直流磁控濺射方式沉積ITO納米膜層，然后在ITO納米膜層上利用直流磁控濺射方式沉積NiO陽(yáng)極電致變色薄膜層。本發(fā)明具有薄膜與基片附著力強(qiáng)、濺射所獲得的薄膜純度高、致密性和成膜均勻性好、濺射工藝可重復(fù)性高等有益效果。

技術(shù)研發(fā)人員：張忠義
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市三鑫精美特玻璃有限公司
文檔號(hào)碼：201611223413
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.27
技術(shù)公布日：2017.05.17