本發(fā)明涉及有機(jī)el顯示器的制造等中使用的金屬掩模材料及金屬掩模。

背景技術(shù)：

平板顯示器中，與現(xiàn)在主流的液晶顯示器相比較，有機(jī)el顯示器具有下述特征：由于結(jié)構(gòu)簡單，因而可使得制品更薄；變化快速的影像的顯示順利；而且視野角寬；等等。上述有機(jī)el顯示器已在便攜終端等小型設(shè)備中量產(chǎn)化，作為下一代顯示器的有力候選，在大型顯示器中的實用化正在進(jìn)展。

作為制作有機(jī)el顯示器的el（發(fā)光）層的方法，大致包括蒸鍍法和印刷法。蒸鍍法是在真空中進(jìn)行加熱、使蒸發(fā)的el物質(zhì)以薄層附著于基板的表面的方法。另外，印刷法是通過在基板的表面上印刷el層而進(jìn)行制作的方法。蒸鍍法進(jìn)一步包括發(fā)出rgb（紅綠藍(lán)）三色的光的類型和使el層發(fā)出白色的光的類型。

蒸鍍法中，為了以規(guī)定的圖案在基板的規(guī)定的位置制作el層，包括在蒸鍍源與基板之間設(shè)置金屬掩模的彩色圖案形成（colorpatterning）工序。金屬掩模由具有與el層的圖案對應(yīng)的開口部的金屬制的板或箔形成。從蒸鍍源蒸發(fā)而脫離至真空中的el物質(zhì)抵達(dá)金屬掩模，通過了金屬掩模的開口部的el物質(zhì)附著于基板，形成具有規(guī)定的圖案的el層。

另外，在彩色圖案形成工序中，由于從蒸鍍源發(fā)出的輻射熱、并且在金屬掩模表面上附著溫度高的有機(jī)材料，因而，金屬掩模的溫度有時上升至100℃左右，為了保持基板上的成型位置的精度，金屬掩模需要使用具有與基板為同等程度以下的熱膨脹的材料。尤其是，需要針對rgb的三色逐一形成發(fā)出rgb三色的光的類型中的el層的圖案，因而抑制因金屬掩模的膨脹而導(dǎo)致的成型位置的偏離是重要的。

對于金屬掩模的厚度而言，在發(fā)出rgb三色的光的類型中，主要可使用0.02～0.08mm的箔，在使el層發(fā)出白色的光的類型中，主要可使用0.08～0.25mm的板。

作為發(fā)出rgb三色的光的類型中的彩色圖案形成工序中的其他問題，有時在基板上成型的有機(jī)材料的位置發(fā)生偏離，發(fā)生影像的顏色不均等不良情況。該工序中，從1點(diǎn)的蒸鍍源通過金屬掩模的開孔部而使有機(jī)材料附著于基板上。因此，在金屬掩模厚的情況下，在遠(yuǎn)離蒸鍍源的位置，有機(jī)材料的入射角變小時，開孔部壁成為陰影，有機(jī)材料的圖案形狀被成型成與開孔部不同的形狀，保持形狀精度變得困難。這被稱為陰影效應(yīng)，可通過使金屬掩模變薄而改善。

另一方面，為了避免上述問題而使金屬掩模變薄時，有時在操作時發(fā)生折斷，或者由于有機(jī)材料堆積于金屬掩模而使得重量增加從而導(dǎo)致金屬掩模發(fā)生形變。為了避免這樣的不良情況，需要保持金屬掩模的強(qiáng)度，使厚度變薄存在限度。

因此，作為同時實現(xiàn)金屬掩模的強(qiáng)度和開孔部的形狀精度的方法，公開了部分地設(shè)置加固金屬線而防止厚度薄的金屬掩模彎曲的技術(shù)（專利文獻(xiàn)1）、使開孔形成層變薄并將其與另外的支持層接合而制作一片金屬掩模的技術(shù)（專利文獻(xiàn)2、3）。另外，公開了控制表面粗糙度、提高蝕刻加工精度的技術(shù)（專利文獻(xiàn)4）。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開平10-50478號公報

專利文獻(xiàn)2：日本專利第4126648號公報

專利文獻(xiàn)3：日本特開2004-039628號公報

專利文獻(xiàn)4：日本特開2010-214447號公報。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明所要解決的課題

然而，在專利文獻(xiàn)1中公開的技術(shù)的情況下，由于有機(jī)材料不附著于成為加固金屬線的陰影的部分，因而產(chǎn)生與陰影效應(yīng)類似的現(xiàn)象，在基板上形成的有機(jī)材料的形狀精度變差。另外，在專利文獻(xiàn)2、3中公開的技術(shù)的情況下，為了制造1片金屬掩模需要2片金屬箔，而且需要精度良好地將這些金屬箔接合，因而金屬掩模的成型工序變得復(fù)雜，導(dǎo)致制造成本上升。

因此，作為解決上述問題的對策，已知有下述方法：使用具有保持強(qiáng)度的程度的厚度的材料，利用半蝕刻使開孔部周邊變薄，然后使開孔部成型。由此，使用1片金屬箔，即可抑制陰影效應(yīng)，而且確保材料的強(qiáng)度，抑制因有機(jī)材料的附著而導(dǎo)致的形變的發(fā)生。另外，通過利用蝕刻法制作開孔部，與利用鍍覆法直接制作具有規(guī)定的開孔部的掩模（箔、板）的情況相比，可降低制造成本。

另一方面，在利用蝕刻等方法由金屬掩模材料制作金屬掩模的工序中，利用肉眼或ccd照相機(jī)等監(jiān)視金屬掩模材料的表面有無缺陷，將有缺陷的金屬掩模材料從工序中剔除。

另外，雖然未抵達(dá)基板上而被遮蔽的蒸鍍物質(zhì)堆積于金屬掩模的開口部以外的部位，但通過洗滌可作為金屬掩模重復(fù)利用。關(guān)于如上所述地反復(fù)使用的金屬掩模的表面有無缺陷，也利用肉眼或ccd照相機(jī)等進(jìn)行監(jiān)視，將有缺陷的金屬掩模從工序中剔除。

作為金屬掩模的缺陷，可舉出在表面上附著的異物、局部的變色及光澤不良，通過利用ccd照相機(jī)等對表面進(jìn)行圖像放大拍攝而得到的圖像，檢查無法通過肉眼確認(rèn)的微小的上述缺陷?？扇菀椎貦z測缺陷中的與金屬掩模材料色調(diào)不同的異物及局部變色。另外，對于色調(diào)與金屬掩模材料相同的異物、例如金屬片而言，與色調(diào)不同的異物、局部變色相比，檢測變得困難。此外，對于局部的光澤不良而言，由于輪廓不清晰，并且色調(diào)與金屬掩模材料相同，因此，在ccd照相機(jī)圖像上進(jìn)行識別進(jìn)一步變得困難。

因此，金屬掩模材料的表面的凹凸及花紋明顯時，利用肉眼檢查難以檢測上述的局部的光澤不良等輕微且微弱的缺陷，而且即使是ccd照相機(jī)圖像，可能也無法檢測，關(guān)于這點(diǎn)，在專利文獻(xiàn)4記載的技術(shù)中，通過使表面粗糙度適度增大，雖然提高蝕刻加工精度，但由于表面的凹凸，因而對于利用ccd照相機(jī)圖像精度良好地檢測上述的局部的光澤不良而言是不充分的。

因此，本發(fā)明的課題在于提供不僅提高蝕刻加工精度、而且可精度良好地檢測自身的缺陷的金屬掩模材料及金屬掩模。

用于解決課題的手段

本發(fā)明人等反復(fù)進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過將60度光澤度g60控制在規(guī)定的范圍，從而可具有不僅可提高蝕刻加工精度、而且可精度良好地檢測自身的缺陷的適度的表面凹凸。

即，本發(fā)明的金屬掩模材料由fe-ni系合金的軋制箔形成，所述fe-ni系合金的軋制箔含有合計30～45質(zhì)量%的ni和co、其中含有0～6質(zhì)量%的co，且余量由fe及無法避免的雜質(zhì)構(gòu)成，厚度t為0.02～0.08mm，沿軋制平行方向及軋制垂直方向按照jis-b0601測得的算術(shù)平均粗糙度ra為0.01～0.20μm，并且，沿軋制平行方向及軋制垂直方向按照jis-z8741測得的60度光澤度g60為200～600。

另外，本發(fā)明的金屬掩模是使用前述金屬掩模材料形成的。

發(fā)明的效果

通過本發(fā)明，可提供不僅提高蝕刻加工精度、而且可精度良好地檢測自身的缺陷的金屬掩模材料及金屬掩模。

附圖說明

[圖1]為表示基于精軋后的結(jié)晶粒分?jǐn)喽纬傻幕y的光學(xué)顯微鏡圖像的圖。

具體實施方式

以下，對本發(fā)明的實施方式涉及的金屬掩模材料進(jìn)行說明。需要說明的是，只要沒有特別說明，“%”表示“質(zhì)量%”。

（合金成分）

使用玻璃作為有機(jī)el的基板，需要調(diào)整合金成分，使得在基板上設(shè)置的金屬掩模的熱膨脹系數(shù)成為玻璃的熱膨脹系數(shù)10×10^-6/℃以下。熱膨脹系數(shù)可通過在fe中添加規(guī)定濃度的ni及/或co而進(jìn)行調(diào)整，形成ni和co合計為30～45%、并且co為0～6%的fe-ni系合金。ni和co的合計濃度及co的濃度落在上述范圍之外時，金屬掩模的熱膨脹系數(shù)變得大于玻璃的熱膨脹系數(shù)，因而不合適。優(yōu)選使ni和co合計為34～38%，并且使co為0～6%。

（厚度）

本發(fā)明的金屬掩模材料的厚度為0.02～0.08mm，優(yōu)選為0.02～0.04mm。金屬掩模材料的厚度不足0.02mm時，不僅操作性差，而且由于有機(jī)材料的堆積而容易在金屬掩模上發(fā)生形變或變形，因此有時在基板上形成的有機(jī)材料的位置精度差。金屬掩模材料的厚度超過0.08mm時，有時顯著發(fā)生陰影效應(yīng)。

（算術(shù)平均粗糙度ra）

針對本發(fā)明的金屬掩模材料的表面沿軋制平行方向及軋制垂直方向按照jis-b0601測得的算術(shù)平均粗糙度ra為0.01～0.20μm，優(yōu)選為0.01～0.08μm。使ra不足0.01μm而過度降低表面粗糙度時，由于表面平滑，因此，容易在利用蝕刻由金屬掩模材料制造金屬掩模的線型的材料導(dǎo)引輥（通箔輥、通板輥）上發(fā)生滑動，產(chǎn)生損傷。另外，使ra超過0.20μm而過度增大表面粗糙度時，在ccd照相機(jī)圖像上識別輪廓不清晰、并且色調(diào)與金屬掩模材料相同的局部的光澤不良變得困難。

另外，針對本發(fā)明的金屬掩模材料的表面沿軋制平行方向及軋制垂直方向按照jis-b0601測得的最大高度ry優(yōu)選為0.1～2.0μm。

（60度光澤度g60）

本發(fā)明的金屬掩模材料的表面的沿軋制平行方向及軋制垂直方向按照jis-z8741測得的60度光澤度g60為200～600，優(yōu)選為400～600。金屬掩模材料的g60不足200時，表面的凹凸及花紋明顯，利用ccd照相機(jī)圖像檢測輪廓不清晰、并且色調(diào)與金屬掩模材料相同的局部的光澤不良變得困難。金屬掩模材料的g60超過600時，表面變得過于平滑，由于表面控制因子（例如軋制輥的形狀、表面粗糙度、軋制油的粘度、在軋制輥表面與金屬掩模材料表面之間形成的油膜的厚度、及軋制前的金屬掩模材料的表面粗糙度）的偏差的影響，g60大幅變化，難以確保表面的均勻性，容易產(chǎn)生外觀上的品質(zhì)不良（例如條紋、不均）。

（金屬掩模材料的制造方法）

本發(fā)明的金屬掩模材料例如可按照下述方式制造，但并非意在受如下所示的方法的限制。

首先，在熔融爐中將原料熔融，得到上述fe-ni系合金組成的熔融金屬。此時，熔融金屬的氧濃度高時，氧化物等晶出物的生成量增多，有時成為蝕刻不良的原因，因此，利用常規(guī)的脫氧方法、例如添加碳并利用真空感應(yīng)熔化等來提高熔融金屬的純度，然后鑄造成鑄塊。然后，在熱軋、磨削除去氧化層后，反復(fù)進(jìn)行冷軋和退火而精加工成規(guī)定的厚度。對于冷軋和退火而言，例如，可依序進(jìn)行中間再結(jié)晶退火、中間冷軋、最終再結(jié)晶退火、精冷軋、消除應(yīng)力退火的工序。

（中間再結(jié)晶退火）

優(yōu)選進(jìn)行結(jié)晶粒度編號gsno.（jisg0551“鋼-結(jié)晶粒度的顯微鏡試驗方法”中規(guī)定的編號）成為9.0～11.0的再結(jié)晶退火。通過增大結(jié)晶粒度編號gsno.，在最終再結(jié)晶退火中可得到（200）取向的金屬組織。對于在最終再結(jié)晶退火中（200）取向的金屬組織而言，在精冷軋中不易產(chǎn)生結(jié)晶粒的分?jǐn)嗷y，能可靠地使60度光澤度g60成為200以上。結(jié)晶粒度編號gsno.小時，即結(jié)晶粒大時，有時無法獲得在最終再結(jié)晶退火中（200）充分取向的金屬組織，因此使結(jié)晶粒度編號gsno.的下限為9.0。另一方面，結(jié)晶粒度編號gsno.過大時，即結(jié)晶粒過小時，將會在再結(jié)晶組織中分散生成未再結(jié)晶部，成為在最終再結(jié)晶退火中產(chǎn)生不均勻的再結(jié)晶組織的原因，因此使結(jié)晶粒度編號gsno.的上限為11.0。

此處，提高中間再結(jié)晶退火的溫度或延長時間時，gsno.變小，降低溫度或縮短時間時，gsno.變大。

（中間冷軋）

優(yōu)選進(jìn)行使用下式定義的加工度為85%以上的冷軋。

加工度＝{（軋制前的板厚-軋制后的板厚）/（軋制前的板厚）}×100（%）。

通過提高加工度，從而在最終再結(jié)晶退火中可得到（200）取向的金屬組織，如上所述，60度光澤度g60變高。加工度小時，在最終再結(jié)晶退火中有時無法得到（200）充分取向的金屬組織，因此，使加工度的下限為85%。另一方面，即使加工度過高，也不會進(jìn)一步增大最終再結(jié)晶退火中的（200）的取向度，而且硬度過高，生產(chǎn)率降低，因此使加工度的上限為90%。

（最終再結(jié)晶退火）

在最終再結(jié)晶退火中，進(jìn)行結(jié)晶粒度編號gsno.成為9.0～11.0的再結(jié)晶退火時，基于與中間再結(jié)晶退火的情況同樣的理由，能可靠地使60度光澤度g60為200以上。

（精冷軋）

金屬掩模材料的表面性狀（算術(shù)平均粗糙度ra及60度光澤度g60）根據(jù)在精冷軋中生成的表面凹凸的不同而發(fā)生變化。精冷軋中，軋制輥痕被轉(zhuǎn)印至材料，導(dǎo)致產(chǎn)生表面凹凸。另外，在精冷軋中，軋制油流入到軋制輥與材料之間，產(chǎn)生油坑（oilpit），這也導(dǎo)致產(chǎn)生表面凹凸。即，在軋制輥與材料之間存在油膜，在油膜局部地厚的部分，軋制輥與材料的接觸變得不充分，不轉(zhuǎn)印軋制輥痕而呈現(xiàn)坑狀的凹凸，這成為油坑。作為軋制油局部地變厚的原因，可舉出軋制輥表面的凹凸及材料的加工性的偏差。尤其是，表面變得平滑時，偏差的影響的敏感性提高，容易產(chǎn)生油膜的厚度的偏差。

此外，在精冷軋作用下，結(jié)晶粒分?jǐn)喽a(chǎn)生花紋，對60度光澤度g60有很大影響。

圖1表示精冷軋后的因結(jié)晶粒分?jǐn)喽鴮?dǎo)致的花紋的光學(xué)顯微鏡圖像。因結(jié)晶粒分?jǐn)喽鴮?dǎo)致的花紋沿軋制方向rd斷續(xù)分布成一列，如圖1的箭頭所指示的的那樣，各花紋是沿與軋制方向rd交叉的方向延伸的條紋狀。需要說明的是，圖1中，沿軋制方向rd生成2列清晰的花紋。

此處，圖1的符號g表示通過冷軋而沿軋制方向rd延伸的橢圓狀的1個結(jié)晶粒?？芍?jǐn)嗷y在該結(jié)晶粒g的內(nèi)部產(chǎn)生。

需要說明的是，圖1中，由于使光學(xué)顯微鏡圖像的焦點(diǎn)對焦于結(jié)晶粒分?jǐn)嗷y，因而焦點(diǎn)位置與結(jié)晶粒分?jǐn)嗷y存在較大不同的油坑、軋制輥痕的轉(zhuǎn)印等表面凹凸并未在圖1中呈現(xiàn)。

從生產(chǎn)率的觀點(diǎn)考慮，以高加工度進(jìn)行箔的冷軋，因此，結(jié)晶粒被延長得較長，將會容易被分?jǐn)?。如圖1所示，所述分?jǐn)嗪蟮慕Y(jié)晶粒在表面上形成花紋，導(dǎo)致60度光澤度g60的降低。

此處，結(jié)晶粒的分?jǐn)喟l(fā)生難易度受結(jié)晶粒的取向影響，根據(jù)結(jié)晶粒的取向的不同，分?jǐn)嚯y易度不同。這是因為，結(jié)晶的變形能力根據(jù)結(jié)晶取向的不同而不同。而且，本發(fā)明的金屬掩模材料的合金系中的主要的衍射峰為（200）面、（220）面、（311）面及（111）面，但（200）面的結(jié)晶粒最難分?jǐn)唷Ｒ虼?，通過如上所述利用中間再結(jié)晶退火及最終再結(jié)晶退火而沿（200）面取向，從而不易在進(jìn)行精冷軋后發(fā)生結(jié)晶粒的分?jǐn)?，可使?0度光澤度g60為200以上。

優(yōu)選使精冷軋的加工度成為70%以上。加工度高時，由于壓縮加工的效果，通過精冷軋而產(chǎn)生的結(jié)晶粒的分?jǐn)嗷y變小，60度光澤度g60變高。另一方面，即使加工度過高，基于壓縮加工的使結(jié)晶粒的分?jǐn)嗷y微弱化的效果也會飽和，而且硬度變高，生產(chǎn)率降低，因此，加工度的上限為90%。

此處，通過使用盡可能細(xì)徑的軋制輥進(jìn)行冷軋，從而軋制油的卷入變少，軋制材料的表面變得平滑。即，使用細(xì)徑的軋制輥時，可抑制油坑的產(chǎn)生，進(jìn)而可縮小結(jié)晶粒的分?jǐn)嗷y。另外，與軋制輥徑同樣，通過使軋制速度為低速，從而軋制油的卷入變少，軋制材料的表面變得平滑。即，使軋制速度為低速時，可抑制油坑的產(chǎn)生，進(jìn)而可縮小結(jié)晶粒分?jǐn)嗷y。

需要說明的是，根據(jù)制造的金屬掩模材料的厚度、寬度改變冷軋的軋制輥的直徑和軋制速度，在可控制ra和g60的范圍內(nèi)適當(dāng)控制軋制輥的直徑和軋制速度即可，優(yōu)選使軋制速度為60m/分鐘以下。

需要說明的是，油坑和結(jié)晶粒分?jǐn)嗷y是由于分別不同的因子而產(chǎn)生的，因此，優(yōu)選一邊確認(rèn)油坑及結(jié)晶粒分?jǐn)嗷y的產(chǎn)生情況，一邊設(shè)定可抑制兩者的制造條件。

（消除應(yīng)力退火）

此外，最后于200～400℃進(jìn)行消除應(yīng)力退火是優(yōu)選的。消除應(yīng)力退火的時間例如可設(shè)定為1～24小時。

實施例

以下，示出本發(fā)明的實施例，但這些實施例是為了更好地理解本發(fā)明而提供的，并不意在限制本發(fā)明。

（1）金屬掩模材料的制造

利用真空感應(yīng)熔化，將在fe中添加36質(zhì)量%的ni而成的原料熔融，鑄造厚度為50mm的鑄塊。將其熱軋至8mm，磨削除去表面的氧化膜后，反復(fù)進(jìn)行冷軋和退火，制成冷軋材料，然后，在表1所示的條件下依序進(jìn)行中間再結(jié)晶退火、中間冷軋、最終再結(jié)晶退火、精冷軋的工序，精加工成表1的實施例1～8、比較例1～4的制品厚度的金屬掩模材料。此外，于300℃進(jìn)行消除應(yīng)力退火12小時。另外，作為實施例9，制造在fe中添加31質(zhì)量%的ni及5質(zhì)量%的co而成的組成的原料。實施例9的制造工序與其他實施例同樣。

需要說明的是，使中間再結(jié)晶退火中的結(jié)晶粒度編號gsno.為10.0。另外，逐個實施例地調(diào)整軋制輥的表面粗糙度，使得制品表面的算術(shù)平均粗糙度ra成為0.07～0.08（0.065～0.084）。

針對消除應(yīng)力退火后的各實施例及比較例的金屬掩模材料，進(jìn)行以下的評價。

（1）算術(shù)平均粗糙度ra

如上所述進(jìn)行測定。測定中，使用接觸式表面粗糙度計（小坂研究所制se-3400），求出以n≥3進(jìn)行測定而得到的平均值。

（2）60度光澤度g60

如上所述進(jìn)行測定。測定中，使用日本電色工業(yè)株式會社制的手持型光澤度計pg-1，求出以n≥3進(jìn)行測定而得到的平均值。

（3）表面缺陷的誤測定是否存在

針對各實施例及比較例的金屬掩模材料，逐一故意制成5級的表面缺陷，用ccd照相機(jī)測定表面缺陷。

具體而言，在各金屬掩模材料的表面上貼合50mm×50mm的耐酸膠帶，在其中央設(shè)置10mm×10mm的開口部，使表面部分露出。在該露出部上，涂布下述的5種濃度的蝕刻液，形成表面凹凸，制成表面缺陷。該露出部與周圍相比，肉眼可確認(rèn)模糊的狀態(tài)，因此，將其視為基準(zhǔn)表面缺陷。

蝕刻液包括47波美度的氯化鐵水溶液本身、用水將其分別稀釋成2倍、4倍、8倍、16倍的溶液合計5種，用鑷子夾持浸滲有蝕刻液的脫脂棉，用脫脂棉摩擦露出部15秒而進(jìn)行蝕刻。蝕刻后，用浸滲有水的布拭去蝕刻液，剝離耐酸膠帶，完成操作。需要說明的是，在使用未進(jìn)行稀釋的氯化鐵水溶液進(jìn)行了蝕刻的情況下，露出部的金屬光澤完全喪失，呈現(xiàn)白色，隨著稀釋率的提高，露出部的模糊變?nèi)酢Ａ硗?，在稀釋率?2倍的情況下，無法通過肉眼確認(rèn)露出部的模糊，因此，視為未形成表面缺陷，使用稀釋率為16倍以下的上述蝕刻液。因此，利用上述的5種蝕刻液進(jìn)行蝕刻時，可形成肉眼可確認(rèn)的表面缺陷，如果沒有受到金屬掩模材料的表面凹凸的影響，則本來應(yīng)當(dāng)被ccd檢測為表面缺陷。

接下來，對于上述5種表面缺陷，利用ccd照相機(jī)，拍攝256級（±128）的像素數(shù)據(jù)。此處，將遮擋反射光的狀態(tài)作為最暗的反射，將其亮度設(shè)定為-128，將來自金屬掩模材料的表面中恒常部（露出部周圍的部位）的反射設(shè)定為±0。而且，將亮度在±20的范圍內(nèi)的反射定義為恒常部的正常的反射，將亮度超出±20的范圍的反射定義為表面缺陷的異常的反射，對能否在露出部檢測到該異常反射進(jìn)行了確認(rèn)。

針對各實施例及比較例的金屬掩模材料，將上述的5種表面缺陷全部被檢測到的情況判斷為“不存在表面缺陷的誤測定”，將未能檢測到5種中1種以上的表面缺陷的情況判斷為“存在表面缺陷的誤測定”。

[表1]

由表1表明，ra為0.01～0.20μm、g60為200～600的各實施例的情況下，未發(fā)生表面缺陷的誤測定。

另一方面，在精冷軋的加工度不足70%的比較例1、及精冷軋的軋制速度超過60m/分鐘的比較例2的情況下，g60變得不足200，發(fā)生了表面缺陷的誤測定。

在在最終再結(jié)晶退火的結(jié)晶粒徑（gsno.）不足9.0的條件下進(jìn)行最終再結(jié)晶退火的比較例3、及使中間冷軋的加工度不足85%的比較例4的情況下，g60變得不足200，發(fā)生了表面缺陷的誤測定。