1.多元多層納米膜粉末冶金氣門座，其特征在于：應(yīng)用多弧離子金屬AIP設(shè)備，將爐內(nèi)溫度控制在100-300℃，采用多弧離子鍍多層納米膜制備工藝，在氣門座工作表面生成單層膜TiN或CrN、復(fù)合膜（TiCr）N或多層膜TiN－CrN，具有12個(gè)靶位。
2.權(quán)利要求1所述的多元多層納米膜粉末冶金氣門座的制備方法，其特征是，所述制備方法包括以下步驟：
①首先選擇經(jīng)過(guò)高壓水霧化低合金粉末為基礎(chǔ)粉末，再添加合金粉，經(jīng)過(guò)混料機(jī)40-50分鐘混合均勻，在自動(dòng)粉末成型機(jī)上進(jìn)行壓制成型；
②將壓制成型的氣門座生坯置入推桿式燒結(jié)爐，在氨分解氣氛中進(jìn)行燒結(jié)，燒結(jié)溫度1100-1500℃，燒結(jié)時(shí)間50-60分鐘；采用銅溶浸工藝，使燒結(jié)坯密度≥7.6g/㎝3，燒結(jié)坯硬度HRC≥35；所述燒結(jié)坯包括以下組分：C 0.8-1.2wt%，Cr 4.0-6.0wt%，Mo 5.0-7.0wt%，Ni1.0-2.0wt%，Co 0.2-0.5wt%，Cu 12-30wt%，納米Fe 0.1-0.3wt%，余量為Fe；
③將經(jīng)過(guò)金屬切削加工氣門座燒結(jié)坯置入多弧離子鍍AIP設(shè)備進(jìn)行涂層處理，將爐內(nèi)溫度控制在100-300℃，陰極材料采用鈦、鉻、鈷或釩金屬，反應(yīng)氣體為氮?dú)夂吞細(xì)浠衔餁怏w，真空室接地作陽(yáng)極，真空室內(nèi)采用真空弧光放電，在陰極材料表面產(chǎn)生多弧光輝點(diǎn)，使陰極材料蒸發(fā)，形成原子和離子；在電場(chǎng)作用下，原子和離子高速轟擊氣門座工作表面，與此同時(shí)，高真空室通入反應(yīng)氣體，即可在氣門座工作表面生成多元多層納米膜涂層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多元多層納米膜粉末冶金氣門座的制備方法，其特征是，所述多元多層納米膜粉末冶金氣門座納米膜表面顯微硬度，即HV（0.050）為1100-2500，納米膜總厚4-6um，納米膜共計(jì)11-12層，納米膜基結(jié)合力：≥30N。