本發(fā)明涉及鍍膜機技術領域，尤其涉及一種金屬化薄膜加工用喂入機構。

背景技術：

金屬化薄膜作為電容器的主要部件，其質量的好壞直接影響電容器的使用壽命。目前，金屬化薄膜主要通過真空鍍膜機加工制備，包括絕緣薄膜喂入機構、鍍膜機構、以及鍍入金屬層后的薄膜卷繞機構。然而，現(xiàn)有技術的真空鍍膜機存在以下不足之處：

由于鍍上的金屬層如鋁容易氧化，所以整個加工設備均在真空條件下進行，而作為喂入絕緣薄膜的喂入機構通常采用喂入輥，其卷繞絕緣薄膜的量有限，當喂入輥上的絕緣薄膜快退繞結束時，需要重新?lián)Q輥子或者重新卷繞薄膜，如專利申請公開的201320431310.X超高方阻金屬化膜用真空鍍膜機、專利申請201310324470.9公開的一種軟繞蒸發(fā)式真空鍍膜機均存在上述問題。專利申請200910303404.7公開的真空鍍膜機通過載盤載入薄膜配合傳送機構實現(xiàn)薄膜的不間斷喂入，但是用載盤載入薄膜畢竟量少，無法滿足工業(yè)的大量生產要求，在補料的方便性、及時性方面均有待提高。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明針對現(xiàn)有技術的不足，提供一種的自動化程度高、補料方便、及時的金屬化薄膜加工用喂入機構。

本發(fā)明通過以下技術手段實現(xiàn)解決上述技術問題的：一種金屬化薄膜加工用喂入機構，包括第一升降機構、喂入裝置；所述第一升降機構的伸縮端與所述喂入裝置配合用以帶動所述喂入裝置上下運動；

所述喂入裝置包括第一支撐架、第一轉動圓筒、喂入輥；所述第一轉動圓筒與所述第一支撐架轉動配合，且所述第一轉動圓筒能繞著自身的中心軸旋轉；若干根所述喂入輥繞著所述第一轉動圓筒的中心軸分布在所述第一轉動圓筒上且能繞著自身的中心軸旋轉；

所述喂入機構還包括第一接近感應機構；所述第一接近感應機構包括第一擋板、第一接觸件；所述第一擋板中位置較高的一端轉動配合地套設在所述第一支撐架上端的固定橫桿上，所述第一擋板中位置較低的一端與所述第一接觸件中位置較高的一端連接，所述第一接觸件中位置較低的一端能與處于喂入狀態(tài)的喂入輥中的絕緣薄膜的最外層接觸；所述第一接近開關相對所述擋板設置在所述固定橫桿上。

優(yōu)選地：所述第一轉動圓筒包括相對設置的第一左圓板、第一右圓板；所述第一左圓板、第一右圓板之間通過第一轉軸連接，所述第一轉軸的一端露出所述第一左圓板的中心與所述第一支撐架的一端轉動配合，所述第一轉軸的另一端露出所述第一右圓板的中心與所述第一支撐架的另一端轉動配合；所述喂入輥的端部與對應的圓板轉動配合。

優(yōu)選地：所述第一轉軸的另一端露出所述第一右圓板的中心與第一驅動裝置的輸入軸連接，所述第一驅動裝置的固定端設置在所述第一支撐架的另一端。

優(yōu)選地：所述第一接觸件包括第一連接桿、第一滾輪，所述第一滾輪與所述絕緣薄膜的最外層滾動接觸，所述第一連接桿位置較高的一端與所述第一擋板中位置較低的一端連接，所述第一連接桿位置較底的一端與所述第一滾輪滾動配合。

優(yōu)選地：所述喂入機構還包括第一自動輸送裝置；所述第一自動輸送裝置包括第一殼體、第一滾動輪；所述第一升降機構設置在所述第一殼體上，所述第一滾動輪安裝在上述第一殼體的底部，所述第一滾動輪通過第二驅動裝置驅動。

優(yōu)選地：在所述真空室中設置有第二接近開關，所述第二接近開關用以監(jiān)測所述喂入機構在所述真空室中的位置，所述真空室外側靠近所述真空室的進入端處設置有第三接近開關，所述第三接近開關用以監(jiān)測所述喂入機構在真空室外的位置；在所述真空室的進入端處設置有進室門。

優(yōu)選地：所述真空室中設置有與所述第一自動輸送裝置配合的第一導軌；所述第一滾動輪的底部嵌入至所述導軌中。

優(yōu)選地：所述第一滾動輪包括第一主動輪、若干第一從動輪，所述第一主動輪由所述第二驅動裝置驅動，所述第一從動輪由所述第一主動輪帶動；在所述第一殼體上設置有第一安裝架，所述第二驅動裝置的固定端設置在所述第一安裝架上。

本發(fā)明的優(yōu)點在于：本發(fā)明具有自動化程度高、補料方便、及時的優(yōu)點。

進一步，由于本發(fā)明第一升降機構通過第一支撐架支撐喂入裝置，能夠實現(xiàn)喂入裝置的上下移動，若第一驅動裝置的轉動精度下降，能通過第一升降機構對喂入裝置的高度進行調節(jié)，從而保證每次喂入的喂入輥其高度、位置一致，避免由此導致的張力不穩(wěn)的現(xiàn)象。

進一步，本發(fā)明的第一升降機構優(yōu)選為伺服油缸或者伺服氣缸，由控制器控制。進一步，由于第一滾動輪的底部嵌入至導軌中，保證第一滾動輪不會偏離，實現(xiàn)運動軌跡一致的技術效果。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的結構示意圖。

圖2為本發(fā)明中喂入機構靠近第三接近開關狀態(tài)下結構示意圖。

圖3為本發(fā)明中喂入裝置的結構示意圖。

圖4為本發(fā)明中喂入輥在工作狀態(tài)下的結構示意圖。

圖5為本發(fā)明中第一接近開關未與第一擋板相對狀態(tài)下的的結構示意圖。

圖6為本發(fā)明中第一接近開關與第一擋板相對狀態(tài)下的的結構示意圖。

圖7為本發(fā)明中自動輸送裝置的結構示意圖。

具體實施方式

為進一步描述本發(fā)明，下面結合實施例對其作進一步說明。

如圖1所示，本發(fā)明公開一種金屬化薄膜加工用喂入機構，包括第一升降機構101、喂入裝置。第一升降機構101的伸縮端與喂入裝置配合用以帶動喂入裝置上下運動。

如圖1所示，真空室401包括進入端的進室門4011。

如圖1所示，喂入裝置包括第一支撐架、第一轉動圓筒1022、喂入輥1023。第一轉動圓筒1022與第一支撐架轉動配合，且第一轉動圓筒1022能繞著自身的中心軸旋轉。若干根喂入輥1023繞著第一轉動圓筒1022的中心軸分布在第一轉動圓筒1022上且喂入輥1023能繞著自身的中心軸旋轉。

如圖3所示，作為優(yōu)選的方案，第一轉動圓筒1022包括相對設置的第一左圓板10221、第一右圓板10222。第一左圓板10221、第一右圓板10222之間通過第一轉軸10223連接，第一轉軸10223的一端露出第一左圓板10221的中心與第一支撐架的一端轉動配合，第一轉軸10223的另一端露出第一右圓板10222的中心與第一支撐架的另一端轉動配合。喂入輥1023的端部與對應的圓板轉動配合。

上述的各轉動連接均優(yōu)選通過第一軸承（圖中未畫出）來實現(xiàn)。如第一轉軸10223的端部通過第一軸承與第一支撐架對應的端部連接。喂入輥1023的端部通過第二軸承與對應的圓板連接。

上述的各轉動連接也優(yōu)選是第一轉軸10223的端部穿過第一支撐架對應端部上的通孔，喂入輥1023的端部穿過對應圓板的上的通孔，端部能在對應的通孔里旋轉實現(xiàn)。當然，第一轉軸10223的端部與第一支撐架之間、喂入輥1023的端部與對應圓板的轉動方式也能采用其他現(xiàn)有的技術來實現(xiàn)。

如圖3所示，作為優(yōu)選的方案，第一轉軸10223的另一端露出第一右圓板10222的中心與第一驅動裝置1024的輸入軸連接，第一驅動裝置1024的固定端設置在第一支撐架的另一端。

如圖4所示，作為優(yōu)選的方案：喂入機構還包括第一接近感應機構。第一接近感應機構包括第一擋板1031、第一接觸件。第一擋板1031中位置較高的一端轉動配合地套設在第一支撐架上端的固定橫桿10213上，第一擋板1031中位置較低的一端與第一接觸件中位置較高的一端連接，第一接觸件中位置較低的一端能與處于喂入狀態(tài)的喂入輥1023中的絕緣薄膜501的最外層接觸。第一接近開關1033相對第一擋板1031設置在固定橫桿10213上。

如圖3、4所示，作為優(yōu)選的方案：第一接觸件包括第一連接桿10321、第一滾輪10322，第一滾輪10322與絕緣薄膜501的最外層滾動接觸。第一連接桿10321位置較高的一端與第一擋板1031中位置較低的一端連接，第一連接桿10321位置較底的一端通過銷軸（圖中未標出）與第一滾輪10322轉動配合。

如圖1、7所示，作為優(yōu)選的方案：喂入機構還包括第一自動輸送裝置，第一自動輸送裝置包括第一殼體1041、第一滾動輪1042。第一升降機構101設置在第一殼體1041上，第一滾動輪1042安裝在第一殼體1041的底部，第一滾動輪1042通過第二驅動裝置1043驅動。在真空室401中設置有第二接近開關105，第二接近開關105用以監(jiān)測喂入機構在真空室401中的位置，真空室401外側靠近真空室401的進入端處設置有第三接近開關106，第三接近開關106用以監(jiān)測喂入機構在真空室401外的位置。

如圖7所示，作為優(yōu)選的方案：真空室401中設置有與第一自動輸送裝置配合的第一導軌107。第一滾動輪1042的底部嵌入至第一導軌107中。

如圖1所示，本發(fā)明的第一驅動裝置1024、第二驅動裝置1043通過控制器驅動，在真空室401內或者室外設置操作臺701，在操作臺701內設置該控制器。本發(fā)明的第一驅動裝置1024、第二驅動裝置1043優(yōu)選為伺服馬達或者伺服電機。

如圖1、2、5、6所示，將纏繞有絕緣薄膜501的各個喂入輥1023依次放置在第一轉動圓筒1022上，將距離鍍膜機構最近的喂入輥1023中的絕緣薄膜501喂入進行鍍膜處理，當該喂入輥1023中的絕緣薄膜501接近退繞完全時，第一擋板1031旋轉至與第一接近開關1033對應的位置，第一接近開關1033發(fā)出信號至控制器，控制器驅動第二驅動裝置1043轉動、驅動進室門4011開啟、控制真空箱內其他元件停止工作，第二驅動裝置1043轉動帶動第一滾動輪1042沿著第一導軌107向真空室401的進入端移動，將喂入裝置移出真空室401。當喂入裝置移動至靠近第三接近開關106的位置時候，第三接近開關106發(fā)出信號至控制器，控制器控制第二驅動裝置1043停止轉動，同時驅動第一驅動裝置1024轉動，第一驅動裝置1024轉動帶動第一轉動圓筒1022轉動一定的角度，該角度為相鄰兩個喂入輥1023之間的角度。需要補充是本實施例相鄰兩個喂入輥1023之間的角度均相同。此時，工作人員將上述快退繞完全的喂入輥1023中剩余絕緣薄膜501的終端與下一個需要喂入的喂入輥1023中絕緣薄膜501的始端連接，再通過操作操作臺701上的啟動按鈕，通過控制器驅動第二驅動裝置1043反向轉動，第二驅動裝置1043轉動帶動第一滾動輪1042沿著第一導軌107向真空室401的進入端移動，當喂入裝置移動至靠近第二接近開關105的位置時候，第二接近開關105發(fā)出信號至控制器，控制器控制第二驅動裝置1043停止轉動，同時，驅動進室門4011關閉、控制真空箱內其他元件開始工作。

在有些實施例中，上述的其他元件中對真空室401進行真空處理的真空泵優(yōu)先工作，當真空室401中的真空度達到設定范圍后，通過設置在真空室401內的壓力傳感器如真空傳感器發(fā)出信號至控制器，通過控制器再驅動其他元件工作。當真空室401中的真空度未達到設定范圍，其他元件停止工作。

如圖1所示，另外，由于本發(fā)明第一升降機構101通過第一支撐架108支撐喂入裝置，能夠實現(xiàn)喂入裝置的上下移動，若第一驅動裝置1024的轉動精度下降，能通過第一升降機構101對喂入裝置的高度進行調節(jié)，從而保證每次喂入的喂入輥1023其高度、位置一致，避免由此導致的張力不穩(wěn)的現(xiàn)象。

進一步，本發(fā)明的第一升降機構101優(yōu)選為伺服油缸或者伺服氣缸，由控制器控制。進一步，由于第一滾動輪1042的底部嵌入至導軌中，保證第一滾動輪1042不會偏離，實現(xiàn)運動軌跡一致的技術效果。

作為優(yōu)選方案：本發(fā)明的進室門4011為自動密封門，具體可以是單向門、雙向門、卷閘門、卷簾門、折疊門的一種，或者其他現(xiàn)有技術的自動密封門。如專利申請201220092640.6公開的雙向密封門、專利申請201521020622.7公開的一種自動提升密封門、專利申請200820193008.4公開的自動升降密封門裝置、專利申請201420166265.4公開的智能運輸車雙密封門。

優(yōu)選地，本發(fā)明的各個升降機構、驅動裝置、接近開關分別與控制器連接。通過上述的自動化控制，實現(xiàn)絕緣薄膜501的快速、高效補入、預熱、鍍膜、卷繞，節(jié)約了操作時間、節(jié)省了工人的勞動負荷。

如圖3所示，本發(fā)明提供一種第一支撐架、第二支撐架的結構，均包括固定橫桿10213、左支桿10211、右支桿10212。其中，左支桿10211包括對應支撐架的一端，右支桿10212包括對應支撐架的另一端。當然，本發(fā)明第一支撐架、第二支撐架的結構不僅僅限于此種結構，任何現(xiàn)有技術提供的支撐架或者經現(xiàn)有技術啟示得到的能達到本發(fā)明支撐架作用的支撐架均應該在本發(fā)明的保護范圍內。

如圖7所示，作為優(yōu)選的方案：各個滾動輪包括主動輪、若干從動輪，主動輪由對應的驅動裝置驅動，具體的：通過驅動裝置直接驅動或者在驅動裝置與主動輪之間設置裝載齒輪的齒輪箱1044，驅動裝置轉動帶動齒輪箱中的齒輪轉動，再由齒輪帶動主動輪轉動，而從動輪由主動輪帶動。在殼體上設置有安裝架1045，驅動裝置的固定端設置在安裝架上。本發(fā)明的自動輸送裝置的驅動方式也不限于該實施例提及的結構，或者是現(xiàn)有技術的兩輪驅動、四輪驅動或者其他現(xiàn)有的驅動方式。

當然，本發(fā)明也可以通過非自動化實現(xiàn)。比如，使用透明玻璃制造真空室401或者在真空室401上安裝觀測窗或者在真空室401上安裝監(jiān)控器，通過工作人員直接觀察室內實際情況，通過操作臺701手動控制各個部件的工作情況。

以上僅為本發(fā)明創(chuàng)造的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明創(chuàng)造，凡在本發(fā)明創(chuàng)造的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發(fā)明創(chuàng)造的保護范圍之內。