本實(shí)用新型涉及有機(jī)發(fā)光顯示器的制造工藝領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸鍍用的掩膜版。

背景技術(shù)：

有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode，簡稱OLED)顯示器是一種有機(jī)薄膜電致發(fā)光器件，其具有制備工藝簡單、成本低、易形成柔性結(jié)構(gòu)、視角寬等優(yōu)點(diǎn)。因此，利用有機(jī)發(fā)光二極管的顯示技術(shù)已成為一種重要的顯示技術(shù)。

有機(jī)發(fā)光二極管顯示器核心部件為每個(gè)子像素中的有機(jī)發(fā)光層。子像素中的有機(jī)發(fā)光層的形成一般采用蒸鍍的方式，如圖1所示，蒸鍍設(shè)備包括蒸鍍源5’、掩膜版2’等部件。蒸鍍過程中，玻璃基板1’與掩膜版2’重疊在一起，真空高溫狀態(tài)下(溫度可達(dá)到650℃)，需要蒸鍍的材料從下方經(jīng)加熱氣化而沉積在基板未被掩膜版2’遮擋的特定區(qū)域內(nèi)。常用掩膜版材料是鐵鎳合金，具有磁性，且熱膨脹系數(shù)低。

圖1示出了蒸鍍過程因顆粒物引起的混色蒸鍍的原理。蒸鍍過程中，當(dāng)玻璃基板1’上存在微小的顆粒物6’(粒徑為5～10μm)，會使得掩膜版2’和玻璃基板1’產(chǎn)生不平行狀態(tài)，在部分區(qū)域掩膜版2’與玻璃基板1’之間存在空隙；當(dāng)蒸鍍時(shí)，一個(gè)子像素3’a或4’a會因?yàn)殚g隙的存在，產(chǎn)生多余的部分3’b或4’b,另外有機(jī)材料會由間隙擴(kuò)散，而蒸鍍到其相鄰的子像素區(qū)域，導(dǎo)致一種顏色的有機(jī)材料形成在相鄰的子像素區(qū)域，如圖中的3’c或4’c，從而導(dǎo)致混色。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決以上提到的問題，本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種蒸鍍工藝用掩膜版，包括：金屬掩模基體，具有多個(gè)開口區(qū)以形成特定的圖形；磁性彈性膜，所述磁性彈性膜具有與金屬掩模基體相對應(yīng)的開口與圖形，并對位形成于金屬掩?；w背離蒸鍍源的一側(cè)。

所述磁性彈性膜可選為磁性高分子材料，所述磁性高分子材料可選為磁性材料與高分子材料的形成的高分子復(fù)合材料，其中作為基體的高分子材料可選為可光學(xué)刻蝕的高分子材料。磁性彈性膜的開口與金屬掩模基體對應(yīng)，且金屬掩模基體的開口范圍在磁性彈性膜對應(yīng)的開口范圍內(nèi)。磁性彈性膜與金屬掩?；w通過磁性吸引力或粘結(jié)力結(jié)合，或同時(shí)通過以上兩種作用力結(jié)合。

本實(shí)用新型提供的掩膜版中，高分子膜由于具有磁性，可與金屬掩?；w具有牢固的結(jié)合，另外由于膜的彈性，可容納玻璃基板上較大粒徑的顆粒物，保證玻璃基板與掩膜版緊密貼合，從而有效防止蒸鍍過程中玻璃基板與掩膜版非緊密貼合狀態(tài)導(dǎo)致的混色蒸鍍。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中蒸鍍過程因顆粒物引起的混色蒸鍍的示意圖；

圖2為本實(shí)用新型的一實(shí)施例的蒸鍍掩膜版結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型的一實(shí)施例的磁性彈性膜材料的一種組成結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本實(shí)用新型的一實(shí)施例的磁性彈性膜材料的另一種組成結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本實(shí)用新型的一實(shí)施例中磁性彈性膜與金屬掩?；w的對位貼合工藝的第一步；

圖6為本實(shí)用新型的一實(shí)施例中磁性彈性膜與金屬掩?；w的對位貼合工藝的第二步；

圖7為本實(shí)用新型的一實(shí)施例中磁性彈性膜與金屬掩?；w的對位貼合工藝的第三步；

圖8為本實(shí)用新型的一實(shí)施例中磁性彈性膜與金屬掩模基體的對位貼合工藝的第四步；

圖9為本實(shí)用新型的一實(shí)施例中磁性彈性膜與金屬掩模基體的對位貼合工藝的第五步；

圖10為本實(shí)用新型的一實(shí)施例中磁性彈性膜與金屬掩?；w的對位貼合工藝的第六步；

圖11為本實(shí)用新型的另一實(shí)施例中磁性彈性膜與金屬掩?；w的開口的位置、尺寸關(guān)系示意圖；

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本實(shí)用新型，但是本實(shí)用新型還可以采用其他不同于在此描述的其它方式來實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本實(shí)用新型內(nèi)涵的情況下做類似推廣，因此本實(shí)用新型不受下面公開的具體實(shí)施例的限制。

如背景技術(shù)部分所述，基板上的顆粒物會使得金屬掩?；w與玻璃基板處于不平行狀態(tài)，導(dǎo)致有機(jī)原料蒸鍍到其它像素區(qū)域，產(chǎn)生混色。有鑒于此，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種蒸鍍工藝用掩膜版11，如圖2所示，掩膜版11包括金屬掩?；w2與磁性彈性膜7，磁性彈性膜7形成于金屬掩模基體2背離蒸鍍源5的一側(cè)，蒸鍍過程中金屬掩?；w2通過磁性彈性膜7與玻璃基板1接觸。

磁性彈性膜7具有與金屬掩模基體2相同的開口，即磁性彈性膜與金屬掩?；w的開口其形狀、尺寸大小、位置均相同，且根據(jù)磁性彈性膜7與金屬掩?；w2的開口對二者進(jìn)行對位貼合。相同的開口設(shè)置保證磁性彈性膜7不改變蒸鍍區(qū)域的位置與范圍。

磁性彈性膜7由磁性高分子材料構(gòu)成。具體的，所述磁性高分子材料為由磁性材料與高分子基體材料組成的復(fù)合材料，磁性材料為磁性聚丁二炔衍生物，高分子基體材料為聚酰亞胺類樹脂材料，圖3為該復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)示意圖。聚丁二炔衍生物為高分子聚合物，本身同樣具有彈性，且與聚酰亞胺類樹脂的相容性較好，在制備過程中可以混合得更加均勻，使得彈性膜具有較為均勻的力學(xué)性能。

聚丁二炔衍生物可通過熱聚合或固相聚合的方式制備，可選的，將三苯甲基自由基或氮氧自由基取代丁二炔的H得到成分為1,4-雙(2,2,6,6-四甲基-4-羥基-1-氧自由基哌啶基)丁二炔的黑色磁性聚合物粉末，本實(shí)用新型實(shí)施例中制備聚丁二炔衍生物的原料以及方法以及產(chǎn)物均不以此為限。關(guān)于磁性復(fù)合材料的制備，可將以上制備的聚丁二炔衍生物粉末與聚酰亞胺預(yù)聚體混合，通過模壓或者注射成型，將樹脂或聚酰亞胺涂布在基板上，經(jīng)過一系列光熱處理，使聚酰亞胺預(yù)聚體發(fā)生聚合固化，制成含聚丁二炔衍生物的磁性高分子彈性膜。為保證聚丁二炔衍生物與聚酰亞胺預(yù)聚體混合后的流動性，該混合物的粘度可選為5～3500CPS，該混合物的固含量(聚丁二炔衍生物與聚酰亞胺預(yù)聚體占總重的比例)可選為10～30wt％。聚酰亞胺固化工藝的干燥方式可采用紅外干燥或熱風(fēng)干燥，處理溫度為90～140℃，通過干燥方式、干燥溫度的調(diào)節(jié)可以調(diào)節(jié)彈性膜的硬度、彈性。

考慮磁性彈性膜厚度對蒸鍍效果的影響，為防止膜厚太小不能有效容納顆粒物或或膜厚太大產(chǎn)生蒸鍍陰影區(qū)，本實(shí)施例中可通過膜的制備工藝的調(diào)整，磁性彈性膜成膜之后的干膜的厚度d控制在15-40μm范圍內(nèi)，但不以此為限。

考慮磁性彈性膜的熱膨脹、收縮對開口尺寸的影響，為防止磁性彈性膜的熱膨脹、收縮而改變開口尺寸，及其導(dǎo)致的遮擋開口的后果，磁性彈性膜材料的熱膨脹系數(shù)范圍可選為30～40ppm/k，但不以此為限。

考慮磁性彈性膜容納顆粒物的效果、膜的變形程度對貼合效果的影響，以及磁性彈性膜本身力學(xué)性能的要求，為防止磁性彈性膜太軟而被顆粒物破壞，或磁性彈性膜太硬而無法有效容納顆粒物而導(dǎo)致混色，可通過膜的制備工藝的調(diào)整，將磁性彈性膜的楊氏模量控制在6～7Gpa的范圍，將硬度控制在0.35～0.45GPa的范圍，但不以此為限。

此外，為防止蒸鍍過程中玻璃基板上的電路元器件受到靜電損傷，所用磁性彈性膜對靜電具有導(dǎo)通或耗散作用，磁性彈性膜材料的介電常數(shù)可選為3.3～3.5/KHz，但不以此為限。

圖4～圖9為磁性彈性膜的制備以及與金屬掩?；w2的光刻以及對位貼合過程。金屬掩?；w2與玻璃基板10設(shè)置有對位標(biāo)記。首先在玻璃基板10上制備磁性彈性膜7，如圖4所示。然后，采用金屬掩?；w22對所形成的磁性彈性膜7進(jìn)行曝光處理，如圖5所示。對曝光后的磁性彈性膜進(jìn)行顯影，去除被光照射的部分，留下的部分與金屬掩?；w一一對應(yīng)，形成與金屬掩?；w相同的開口與圖形，如圖6所示。對于磁性彈性膜對應(yīng)于金屬掩模基體的圖形的形成方法，除光刻以外，還可采用激光刻蝕的方法，本發(fā)明實(shí)施例中對此不做限定。

如圖7，用對位標(biāo)記對金屬掩?；w2與玻璃基板10進(jìn)行光學(xué)對位，然后對二者進(jìn)行壓力對位貼合，金屬掩模基體2與磁性彈性膜7結(jié)合在一起。金屬掩?；w2與磁性彈性膜7同時(shí)具有粘結(jié)力和磁性吸合力。然后，用308nm波長的激光從玻璃基板背離磁性彈性膜的一側(cè)對磁性彈性膜進(jìn)行激光照射，照射方式可選為線性掃描式，時(shí)間可選為5～30秒，如圖8所示。由于磁性彈性膜中的聚酰亞胺材料對該波長的激光吸收量大，產(chǎn)生斷鍵或熱量，距離表層100nm以內(nèi)的高分子迅速發(fā)熱軟化，與玻璃基板脫離，從而得到如圖9所示的貼附有磁性彈性膜的掩膜版11。

本實(shí)施例中磁性彈性膜也可由磁性聚丁二炔衍生物與其他可進(jìn)行光刻的高分子材料組成的復(fù)合材料構(gòu)成，包括酚醛樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚丙烯酸酯、聚醚酰亞胺的任意一種或任意幾種的混合物，但不以此為限。

制備磁性彈性膜的磁性高分子材料也可采用其他種類的磁性材料填充在高分子材料中形成復(fù)合材料。如圖10所示，磁性材料也可以是磁性納米粒子，如無機(jī)磁性納米粒子、高分子納米微球等。為保證粒子或微球與高分子材料的相容性，可通過控制粒徑大小或?qū)αＷ?、微球加以表面修飾以增?qiáng)其與高分子材料的相容性。本實(shí)用新型所用磁性材料不限于以上種類，凡是可填充在高分子材料中并形成彈性膜的磁性材料，均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。

另外，制備磁性彈性膜的磁性高分子材料也可采用結(jié)構(gòu)型磁性高分子材料，即本身具有磁性的高分子材料，如有機(jī)鐵磁體、高分子金屬絡(luò)合物和電荷轉(zhuǎn)移復(fù)合物。同樣，結(jié)構(gòu)型磁性高分子材料不限于以上列出的種類，除磁性高分子材料外，本實(shí)用新型的實(shí)施例中，磁性彈性膜材料不限于以上描述的成分、結(jié)構(gòu)、組成，只要是采用具有磁性的彈性材料制備的磁性彈性膜，均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。

在本實(shí)施例中，由于壓力對位貼合的作用，磁性彈性膜與金屬掩?；w金屬掩?；w之間具有粘合力，同時(shí)磁性彈性膜與金屬掩?；w金屬掩?；w之間本身具有磁性吸引力，即磁性彈性膜與金屬掩?；w金屬掩?；w具有雙重作用力，結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性強(qiáng)。由于相互之間具有粘結(jié)力和磁性吸引力，磁性彈性膜通過其與金屬掩模基體緊密貼合，防止工藝過程中的顆粒物以及其他干擾影響磁性彈性膜與金屬掩?；w的結(jié)合而導(dǎo)致膜的破損移位。

關(guān)于磁性彈性膜與金屬掩?；w的結(jié)合方式，也可以為磁性彈性膜磁性貼合于金屬掩?；w背離蒸鍍源的一側(cè)。具體的，具有和金屬掩?；w相同圖形的磁性彈性膜與金屬掩模基體通過相互之間的磁性吸引力吸合在一起。在此種結(jié)合方式中，由于無需進(jìn)行壓力對位貼合步驟，磁性彈性膜與金屬掩模基體通過相互之間只有磁性吸引力，但相比于壓力對位貼合，此種結(jié)合方式工藝簡便，可操作性強(qiáng)。

通常蒸鍍工藝過程中，玻璃基板上會存在少量顆粒物6，在本實(shí)施例中，由于彈性膜的存在，顆粒物使得彈性膜產(chǎn)生變形，顆粒物被包含，或至少部分被包含在彈性膜內(nèi)部。由于顆粒物被包含在彈性膜內(nèi)部，在顆粒物以外的部位，玻璃基板與彈性膜仍可以保持緊密貼合，從而阻止蒸鍍材料從一子像素3到相鄰子像素4的擴(kuò)散，降低顆粒物對蒸鍍精度的影響，緩解所述液晶顯示面板中的混色色偏現(xiàn)象，降低液晶顯示面板出現(xiàn)混色色偏現(xiàn)象的概率。

在本實(shí)用新型的另一實(shí)施例如圖11所示，與前一實(shí)施例的不同之處在于，磁性彈性膜具有與金屬掩?；w對應(yīng)的開口，且磁性彈性膜的開口在貼合平面的投影包含所述金屬掩?；w的開口在貼合平面的投影。在垂直于貼合平面的任一截面上，磁性彈性膜的開口尺寸L1大于所述金屬掩?；w的開口尺寸L2。

在蒸鍍過程中，磁性彈性膜由于蒸鍍環(huán)境的熱作用，會產(chǎn)生一定的膨脹，導(dǎo)致磁性彈性膜橫向尺寸增大，從而對掩膜版11的開口產(chǎn)生一定的遮擋。因此，本實(shí)施例中磁性彈性膜的開口尺寸L1大于所述金屬掩模基體的開口尺寸L2，從而在開口區(qū)金屬掩?；w與磁性彈性膜具有一定間隙，以補(bǔ)償磁性彈性膜的膨脹，避免磁性彈性膜的膨脹對開口區(qū)的遮擋。在一可選的實(shí)施例中，磁性彈性膜的開口尺寸L1比金屬掩模基體的開口尺寸L2大0.2～3μm。

本說明書中各個(gè)部分采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)部分重點(diǎn)說明的都是與其他部分的不同之處，各個(gè)部分之間相同相似部分互相參見即可。

對所公開的實(shí)施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實(shí)施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會被限制于本文所示的實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。