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針對(duì)成膜裝置的氣體噴射裝置的制作方法

文檔序號(hào):11528942閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供即便在具有高縱橫比的槽的被處理體上也能夠向該槽內(nèi)均勻地噴射氣體的針對(duì)成膜裝置的氣體噴射裝置。本發(fā)明的氣體噴射裝置(100)具備使氣體整流化并將整流化后的氣體向成膜裝置(200)內(nèi)噴射的氣體噴射單元部(23)。氣體噴射單元部(23)為在內(nèi)部形成有成為氣體通路的間隙(d0)的扇形形狀。氣體分散供給部(99)內(nèi)的氣體從扇形形狀的寬度較寬的一側(cè)向間隙(d0)內(nèi)流入,由于該扇形形狀,氣體被整流化以及被加速,并從扇形形狀的寬度較窄的一側(cè)向成膜裝置(200)內(nèi)輸出。

技術(shù)研發(fā)人員:田畑要一郎;渡邊謙資;西村真一
受保護(hù)的技術(shù)使用者:東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日:2014.10.29
技術(shù)公布日:2017.08.18
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