技術(shù)總結(jié)
根據(jù)本公開的一個方面，提供一種用于處理基板(15)上的材料的設(shè)備(40)。所述設(shè)備(40)包括真空腔室和測量布置，所述測量布置被配置成用于測量所述基板和/或在所述基板上處理的材料的一或多個光學(xué)性質(zhì)，所述測量布置包括位于所述真空腔室中的至少一個球體結(jié)構(gòu)。

技術(shù)研發(fā)人員：J·斯羅伊德;H-G·洛茨
受保護(hù)的技術(shù)使用者：應(yīng)用材料公司
文檔號碼：201480078893
技術(shù)研發(fā)日：2014.05.16
技術(shù)公布日：2017.02.22