陶瓷基板蝕刻噴嘴的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種陶瓷基板蝕刻噴嘴，包括噴嘴主體和貫穿噴嘴主體的藥液腔，藥液腔從左到右依次為藥液導(dǎo)入腔、藥液整流腔、藥液增壓腔和藥液噴淋腔，藥液導(dǎo)入腔和藥液整流腔呈圓柱狀,藥液導(dǎo)入腔的口徑大于藥液整流腔的口徑，藥液增壓腔呈截頭圓錐狀，藥液增壓腔的左端口徑大于右端口徑，藥液噴淋腔呈漏斗狀，藥液噴淋腔的左端為圓柱狀，藥液噴淋腔的右端呈錐形狀,所述藥液噴淋腔的左端口徑小于右端口徑。既采用了錐形噴嘴以增大噴淋壓力,又采用了扇型噴嘴以增加噴淋面積，保證了覆銅陶瓷基板在加工過程中的蝕刻精度。
【專利說明】
陶瓷基板蝕刻卩員嘴

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及陶瓷基板加工【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種陶瓷基板蝕刻噴嘴。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著科技的進(jìn)步，微電子技術(shù)的應(yīng)用也越來越廣泛，各類微電子產(chǎn)品也越來越多，微電子產(chǎn)品對內(nèi)部的線路板的要求也越來越高，要求能夠承受大電流、高電壓、散熱好和絕緣好的特點，目前最多的是采用覆銅陶瓷基板來生產(chǎn)線路板，陶瓷基板覆銅后需要再蝕刻圖形，當(dāng)陶瓷基板進(jìn)入蝕刻機(jī)時，覆銅陶瓷基板表面覆蓋著銅，需要大量新鮮的蝕刻液來蝕刻暴露出來的銅，此時要求蝕刻噴嘴的噴淋面積大，對蝕刻噴嘴的噴淋沖擊力要求較小，隨著蝕刻的進(jìn)行電路板上線路越來越清晰，需要蝕刻掉的銅越來越少，直到線路邊角及隱蔽角落需要蝕刻時，只需要少量的蝕刻液大壓力噴淋即可，如果噴淋壓力小，則易出現(xiàn)線路邊線不整齊或隱蔽部位蝕刻不完全。市場上的錐型噴嘴和增壓型噴嘴，其噴淋面積小、噴淋不均勻，造成產(chǎn)品蝕刻不均勻，同塊產(chǎn)品易出現(xiàn)左邊比右邊好，上邊比下邊好的現(xiàn)象。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型所要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，提供一種陶瓷基板蝕刻噴嘴，在增加噴淋壓力的基礎(chǔ)上保障了噴淋面積，提高覆銅陶瓷線路基板的加工精度。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供一種陶瓷基板蝕刻噴嘴，包括噴嘴主體和貫穿噴嘴主體的藥液腔，藥液腔從左到右依次為導(dǎo)入腔、整流腔、增壓腔和噴淋腔，導(dǎo)入腔和整流腔呈圓柱狀，導(dǎo)入腔的口徑大于整流腔的口徑，增壓腔呈截頭圓錐狀，增壓腔的左端口徑大于右端口徑，噴淋腔的左端呈圓柱狀，噴淋腔的右端為扇形。
[0005]作為本實用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，截頭圓錐的錐角為13° —15°。
[0006]作為本實用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，扇形的噴流角度為20°。
[0007]作為本實用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，噴嘴主體是由聚四氟乙烯材料制成。
[0008]本實用新型所達(dá)到的有益效果是:本實用新型采用了截頭圓錐狀的藥液增壓腔，藥液沖擊力大且穩(wěn)定，藥液噴淋腔的右端呈扇形，既保證了藥液的噴淋沖擊力，又保證了藥液的噴淋區(qū)域；噴嘴主體采用聚四氟乙烯，具有抗酸、堿、有機(jī)溶液腐蝕，摩擦系數(shù)小等特點。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型的剖視圖。

【具體實施方式】
[0010]下面結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進(jìn)一步描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本實用新型的技術(shù)方案，而不能以此來限制本實用新型的保護(hù)范圍。
[0011]如圖所示，本實用新型提供一種陶瓷基板蝕刻噴嘴，包括噴嘴主體I和貫穿噴嘴主體的藥液腔，主體I采用聚四氟乙烯材料，具有抗酸、堿、有機(jī)溶液腐蝕，摩擦系數(shù)小等特點，藥液腔從左到右依次為導(dǎo)入腔5、整流腔4、增壓腔3和噴淋腔2，導(dǎo)入腔5和整流腔4呈圓柱狀，導(dǎo)入腔5的口徑大于整流腔4的口徑，增壓腔3呈截頭圓錐狀，截頭圓錐的錐角為13° —15° ,使得藥液軸向速度大,半徑方向上的徑向速度無波動,藥液沖擊力大且穩(wěn)定，增壓腔3的左端口徑大于右端口徑，噴淋腔2的左端呈圓柱狀，噴淋腔2的右端為扇形，扇形的噴流角度為20°，保障了藥液的噴淋區(qū)域，解決了陶瓷基板表面的蝕刻不均勻問題。
[0012]以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和變形，這些改進(jìn)和變形也應(yīng)視為本實用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種陶瓷基板蝕刻噴嘴，包括噴嘴主體和貫穿噴嘴主體的藥液腔，其特征在于:所述藥液腔從左到右依次為導(dǎo)入腔、整流腔、增壓腔和噴淋腔，所述導(dǎo)入腔和整流腔呈圓柱狀，所述導(dǎo)入腔的口徑大于整流腔的口徑，所述增壓腔呈截頭圓錐狀，所述增壓腔的左端口徑大于右端口徑，所述噴淋腔的左端呈圓柱狀，噴淋腔的右端為扇形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷基板蝕刻噴嘴，其特征在于:所述截頭圓錐的錐角為13。一15°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷基板蝕刻噴嘴，其特征在于:所述扇形的噴流角度為20。。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷基板蝕刻噴嘴，其特征在于:所述噴嘴主體是由聚四氟乙烯材料制成。
【文檔編號】C23F1/08GK204198855SQ201420654797
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2014年11月5日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月5日
【發(fā)明者】尚海瑞, 黃禮侃, 王坤 申請人:南京中江新材料科技有限公司