基材固定裝置與濺鍍?cè)O(shè)備的制作方法
【專利摘要】一種基材固定裝置與濺鍍?cè)O(shè)備，該濺鍍?cè)O(shè)備包含一個(gè)的基材固定裝置，及一個(gè)使基材固定裝置呈傾斜放置的輸送裝置。基材固定裝置由上往下逐漸向前傾斜，并包括一個(gè)基材載架，及數(shù)個(gè)分別安裝于基材載架并用于承載基材的承載單元。每一個(gè)承載單元包括一個(gè)承托模組及一個(gè)抵靠模組。該承托模組具有一個(gè)與一水平面呈一夾角且供基材傾斜放置于上方的放置面，該抵靠模組鄰近于該放置面的較低的一端以供基材抵靠。通過該承托模組與該抵靠模組的擺放設(shè)計(jì)，使基材能同時(shí)受到該承托模組與該抵靠模組的支撐，而能直接穩(wěn)固地斜向擺放。
【專利說明】基材固定裝置與濺鍍?cè)O(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種固定裝置與濺鍍?cè)O(shè)備，特別是涉及一種可用于固定欲鍍膜基材的基材固定裝置與濺鍍?cè)O(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002]已知的真空濺鍍法鍍膜，其原理是在一個(gè)真空腔體中，通過離子束、電漿或電弧等方式，沖擊祀材(Target)表面,使祀材原子飛出，并沉積、附著在目標(biāo)基材(Substrate)的表面上，以能形成薄膜。
[0003]參閱圖1，以往的真空濺鍍?cè)O(shè)備，包括一個(gè)反應(yīng)腔體(圖未示)，及一個(gè)可移動(dòng)地直立設(shè)置于該反應(yīng)腔體內(nèi)并用于承載數(shù)個(gè)基材8的基材固定裝置9。該基材固定裝置9包括一個(gè)直立的基材載架91，及數(shù)個(gè)安裝于該基材載架91并分別用于夾持固定所述基材8的夾固單元92。該濺鍍?cè)O(shè)備能讓基材8在直立放置狀態(tài)下進(jìn)行表面鍍膜，隨后，再將已完成鍍膜的基材8移出。
[0004]然而，利用夾固單元92來夾持固定所述基材8需要一些安裝步驟。同時(shí)，在濺鍍薄膜時(shí)，每一個(gè)夾固單元92會(huì)局部遮擋各別的基材8，會(huì)使各別的基材8無(wú)法被充分的濺鍍，而在該基材8上的固定位置處留下夾具印，導(dǎo)致該基材8的邊緣存在無(wú)效區(qū)。此外，該夾固單元92通常只適用于夾固單一尺寸的基材8，并不利于濺鍍多種尺寸規(guī)格的基材8。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實(shí)用新型的目的在于提供一種基材易于固定，并表面能完整鍍膜的基材固定裝置。
[0006]本實(shí)用新型的基材固定裝置，適用于供一片基材放置，并包含:一個(gè)基材載架，該基材載架包括一個(gè)上下延伸的安裝面。
[0007]該基材固定裝置還包含至少一個(gè)用于承載該基材的承載單元，該承載單元包括安裝于該安裝面上的一個(gè)承托模組及一個(gè)抵靠模組，該承托模組具有一個(gè)與一水平面呈一夾角且供該基材傾斜放置于上方的放置面，該抵靠模組鄰近于該放置面的較低的一端，以供該基材抵靠，該承托模組、該抵靠模組與該安裝面相配合界定出一個(gè)可供該基材放置的放置空間。
[0008]本實(shí)用新型的基材固定裝置，包含數(shù)個(gè)彼此間隔地安裝于該安裝面上的承載單
J Li ο
[0009]本實(shí)用新型的基材固定裝置，該承托模組具有數(shù)個(gè)由鄰近而遠(yuǎn)離該抵靠模組逐漸往上間隔排列的承托柱，所述承托柱分別具有一個(gè)與該基材接觸的承托面，所述承托面共同界定出該承托模組的該放置面，該抵靠模組具有數(shù)個(gè)由下而上并沿著遠(yuǎn)離該承托模組的方向間隔排列的抵靠柱。
[0010]本實(shí)用新型的基材固定裝置，所述承托柱與所述抵靠柱分別可調(diào)整突出該安裝面的長(zhǎng)度地安裝于該基材載架上。
[0011]本實(shí)用新型的基材固定裝置，該承載單元還包括一個(gè)安裝于該安裝面且將該基材與該安裝面隔開的間隔模組。
[0012]本實(shí)用新型的基材固定裝置，該間隔模組具有數(shù)個(gè)彼此間隔地位于該放置空間的間隔凸粒。
[0013]本實(shí)用新型的目的在于提供一種能使基材被充分濺鍍的濺鍍?cè)O(shè)備。
[0014]本實(shí)用新型的濺鍍?cè)O(shè)備，包含一個(gè)反應(yīng)腔體。該濺鍍?cè)O(shè)備還包含一個(gè)所述基材固定裝置，及一個(gè)輸送裝置。該基材固定裝置設(shè)置于該反應(yīng)腔體內(nèi)，且該基材固定裝置的該安裝面由上往下逐漸向前傾斜，該輸送裝置包括一個(gè)安裝于該反應(yīng)腔體內(nèi)并支撐設(shè)置于該基材固定裝置底部的下滾送單元，及一個(gè)安裝于該反應(yīng)腔體內(nèi)并支撐設(shè)置于該基材固定裝置頂部的上滾送單元，該上滾送單元與該下滾送單元相配合使該基材載架的該安裝面能由上往下逐漸向前傾斜。
[0015]本實(shí)用新型的濺鍍?cè)O(shè)備，該基材固定裝置還包括一個(gè)安裝于該基材載架底部的底桿，該底桿具有一個(gè)位于底部且截面呈下凸圓弧狀的下凸抵面，該下滾送單元具有數(shù)個(gè)可分別轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于該反應(yīng)腔體內(nèi)底部且沿該基材固定裝置的底部間隔排列的滾輪，每一個(gè)滾輪具有一個(gè)供該底桿放置且與該下凸抵面形狀相對(duì)應(yīng)的環(huán)凹狀輪槽。
[0016]本實(shí)用新型的濺鍍?cè)O(shè)備，該上滾送單元具有數(shù)個(gè)安裝于該反應(yīng)腔體內(nèi)且沿該基材固定裝置的背面頂側(cè)間隔排列的滑輪組。
[0017]本實(shí)用新型的有益效果，通過該承托模組與該抵靠模組的擺放設(shè)計(jì)，使該基材傾斜放置于該放置空間時(shí)，會(huì)同時(shí)受到該承托模組與該抵靠模組的支撐，而可僅利用自身重量就直接穩(wěn)固地?cái)[放設(shè)置，因此本實(shí)用新型的創(chuàng)新結(jié)構(gòu)可方便且容易地供該基材擺放與固定，并避免基材被遮擋，使基材表面能完整鍍膜。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1是一個(gè)部分立體示意圖，說明現(xiàn)有濺鍍?cè)O(shè)備用于承載數(shù)個(gè)基材；
[0019]圖2是一個(gè)前視圖，說明本實(shí)用新型濺鍍?cè)O(shè)備的一個(gè)第一實(shí)施例用于承載數(shù)個(gè)基材；
[0020]圖3是一個(gè)側(cè)視圖，說明該第一實(shí)施例；
[0021]圖4是一個(gè)部分前視圖，說明該第一實(shí)施例的一個(gè)基材固定裝置；
[0022]圖5是一個(gè)不完整的立體圖，說明該第一實(shí)施例的一個(gè)承載單元；
[0023]圖6是一個(gè)不完整的前視圖，說明該第一實(shí)施例的該承載單元；及
[0024]圖7是一個(gè)前視圖，說明本實(shí)用新型濺鍍?cè)O(shè)備的一個(gè)第二實(shí)施例。

【具體實(shí)施方式】
[0025]在本實(shí)用新型被詳細(xì)描述前，應(yīng)當(dāng)注意在以下的說明內(nèi)容中，類似的元件是以相同的編號(hào)來表不。
[0026]參閱圖2、圖3與圖4，本實(shí)用新型濺鍍?cè)O(shè)備的一第一實(shí)施例，可應(yīng)用于承載數(shù)片概呈片狀矩方形并為玻璃或塑膠材質(zhì)制成的基材4，并于所述基材4上鍍膜。該濺鍍?cè)O(shè)備包含一個(gè)反應(yīng)腔體1、一個(gè)用于承載所述基材4的基材固定裝置2，及一個(gè)輸送裝置3。該反應(yīng)腔體I呈中空概矩方體狀，并如圖3所示由上往下逐漸向前傾斜擺置，且供該基材固定裝置2與該輸送裝置3安裝于其內(nèi)。實(shí)際上，該反應(yīng)腔體I內(nèi)還設(shè)有濺鍍槍(圖未示)等用于濺鍍成膜的裝置，但由于所述裝置非本實(shí)用新型的改良重點(diǎn)，所以不再說明。
[0027]該基材固定裝置2包括一個(gè)呈平板狀且由上往下逐漸向前傾斜地置于反應(yīng)腔體I內(nèi)的基材載架21、安裝于該基材載架21底部的底桿22，及數(shù)個(gè)彼此間隔地安裝于該基材載架21前方并分別供所述基材4放置的承載單元23。該基材載架21具有一個(gè)位于前方且由上往下逐漸向前傾斜延伸的安裝面211。該底桿22包括一個(gè)位于底部且截面呈下凸圓弧狀的下凸抵面221。
[0028]圖4中以假想線框圍出每一個(gè)承載單元23包括的元件。在本實(shí)施例中，所述承載單元23呈8 X 8的矩陣方式排列，因此共有64個(gè)承載單元23，但也可為其他數(shù)目，且于實(shí)施時(shí)該基材固定裝置2也可僅包含一個(gè)承載單元23。每一個(gè)承載單元23安裝于該安裝面211前方，并包括一個(gè)承托模組24、一個(gè)抵靠模組25及一個(gè)間隔模組26。該承托模組24、該抵靠模組25與該安裝面211相配合界定出一個(gè)可供各別的基材4傾斜放置的放置空間27。
[0029]參閱圖4、圖5與圖6，每一個(gè)承載單元23的該承托模組24可供各別的基材4置于其上，并具有三個(gè)分別垂直往前突出該安裝面211且由左而右逐漸往上間隔排列的承托柱241，當(dāng)然所述承托柱241的數(shù)目也可為二或四個(gè)以上，在設(shè)計(jì)上可依所需支撐力的大小與重量平衡增減。所述承托柱241分別具有一個(gè)朝上并與該基材4底邊接觸的承托面242，而所述承托面242共同界定出一個(gè)與一水平面呈一夾角的放置面243。當(dāng)然在實(shí)施上，該承托模組24也可以僅為單一個(gè)柱體或板體，只要該柱體與板體能界定出朝上且與一水平呈一夾角的該放置面243即可。
[0030]該抵靠模組25鄰近于該承托模組24的左端，可供各別的基材4的左側(cè)邊抵靠，并具有兩個(gè)垂直往前突出該安裝面211的抵靠柱251。當(dāng)然所述抵靠柱251的數(shù)目也可為三個(gè)以上，或該抵靠模組25僅為單一個(gè)柱體或板體，只要能供該基材4抵靠并達(dá)到所需支撐力即可。所述抵靠柱251由下而上并沿著垂直該放置面243的方向間隔排列，當(dāng)然該承托模組24與該抵靠模組25也可左右相反設(shè)置，也就是所述承托柱241由右而左逐漸往上間隔排列，而所述抵靠柱251由鄰近最右方的承托柱241向上并沿著垂直該放置面243的方向間隔排列，不以本實(shí)施例為限。
[0031]在本實(shí)施例中，所述承托柱241與所述抵靠柱251以螺接或其他方式安裝于該安裝面211上，使所述承托柱241與所述抵靠柱251可調(diào)整突出該安裝面211的長(zhǎng)度，以因應(yīng)不同厚度的基材4，但實(shí)施上，所述承托柱241與所述抵靠柱251也可為固定長(zhǎng)度，不以本實(shí)施例為限。另外，所述承托柱241與所述抵靠柱251主要是由一種聚酰亞胺(Polyimide，PD的有機(jī)高分子材料所制成，聚酰亞胺具有耐高低溫度_269°C?400°C的特點(diǎn)，可在攝氏250?300度的溫度下長(zhǎng)時(shí)間使用，并具有高強(qiáng)度、高耐摩擦、自潤(rùn)滑的特點(diǎn)，因此耐磨耗性優(yōu)異、且膨脹系數(shù)小所以尺寸安定性佳，此外還具有高絕緣、耐高輻射、耐腐蝕等其他特點(diǎn)，但實(shí)施上，所述承托柱241與所述抵靠柱251也可為其他材料制成。
[0032]該間隔模組26介于該安裝面211與各別的基材4間，并具有七個(gè)分別突出于該安裝面211并彼此間隔地散布于該放置空間27的間隔凸粒261，當(dāng)然所述間隔凸粒261的數(shù)目也可為其他數(shù)目，且該間隔模組26也可僅包含一個(gè)間隔凸粒261，不以本實(shí)施例為限。所述間隔凸粒261的其中四個(gè)鄰近該承托模組24與該抵靠模組25的交會(huì)處，并排列成一個(gè)傾斜矩形，另外三個(gè)遠(yuǎn)離該承托模組24與該抵靠模組25的交會(huì)處，并與其中四個(gè)中位于左下角的間隔凸粒261排列成一個(gè)尺寸較大的傾斜矩形，所述間隔凸粒261用于將該基材4與該安裝面211隔開，以方便放置與拿取該基材4。
[0033]參閱圖2、圖3與圖4，該輸送裝置3包括一個(gè)安裝于該反應(yīng)腔體I內(nèi)并支撐設(shè)置于該基材固定裝置2底部的下滾送單元31，及一個(gè)安裝于該反應(yīng)腔體I內(nèi)并支撐設(shè)置于該基材固定裝置2頂部后方的上滾送單元32。由于該上滾送單元32并非位于該下滾送單元31正上方，而是相對(duì)地位于該下滾送單元31的正上方后側(cè)，因此上滾送單元32可與該下滾送單元31配合供該基材載架21呈傾斜放置，使該安裝面211由上往下逐漸向前傾斜。
[0034]該下滾送單元31具有數(shù)個(gè)可分別轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于該反應(yīng)腔體I內(nèi)底部且沿該基材固定裝置2的底部長(zhǎng)向間隔排列的滾輪311，每一個(gè)滾輪311具有一個(gè)與該下凸抵面221形狀相對(duì)應(yīng)以供該底桿22容置的環(huán)凹狀輪槽312。因此所述滾輪311能利用所述環(huán)凹狀輪槽312共同限位、支撐該基材載架21的底側(cè)。
[0035]該上滾送單元32具有數(shù)個(gè)安裝于該反應(yīng)腔體I內(nèi)且沿該基材載架21的背面頂側(cè)長(zhǎng)向間隔排列的滑輪組321。每一滑輪組321具有一個(gè)可轉(zhuǎn)動(dòng)地貼靠于該基材載架21的背面的輪盤322。因此，所述滑輪組321的所述輪盤322共同支撐于該基材載架21的背面頂部。
[0036]通過該上滾送單元32、該下滾送單元31能分別對(duì)該基材載架21的底部、背側(cè)頂部施予支撐作用的設(shè)計(jì)，能讓該基材載架21能呈正面朝斜上方地傾斜擺置于該反應(yīng)腔體I中，而當(dāng)該下滾送單元31的所述滾輪311被驅(qū)動(dòng)而開始滾動(dòng)時(shí)，便能對(duì)該基材載架21的底部施予滾送作用，同時(shí)該基材載架21的背面頂部會(huì)摩擦、帶動(dòng)該上滾送單元32的所述輪盤322滾動(dòng)，借以，使得傾斜擺放的該基材載架21，在受到該上滾送單元32與該下滾送單元31的共同支撐與雙重滾送等作用下，能更加順暢、平穩(wěn)地被予載送。
[0037]參閱圖3、圖5與圖6，本實(shí)用新型濺鍍?cè)O(shè)備供所述基材4放置時(shí)，通過該基材載架21的傾斜設(shè)計(jì)使每一個(gè)基材4由上往下逐漸向前傾斜，進(jìn)而使其重心后移而能穩(wěn)定地?cái)[放于該放置空間27，同時(shí)，再利用所述承托柱241與所述抵靠柱251的位置設(shè)計(jì)，使該基材4放置于該放置空間27時(shí)，其底邊會(huì)由左而右逐漸向上傾斜，而將重量分散落于該基材4下方的所述承托柱241與該基材4左方的所述抵靠柱251，使得該基材4的側(cè)邊與底邊皆受到支撐而能更加穩(wěn)固的直接擺放于該放置空間27。
[0038]值得一提的是，由于該承載單元23可供該基材4直接放置于上方，因此該承載單元23除了可供如圖6所示的基材4放置外，還可供如圖6假想線所示的不同尺寸的基材41、42、43放置。當(dāng)最大尺寸的基材4與次大尺寸的基材41放置于該承載單元23時(shí)，其底邊會(huì)靠置于所述承托柱241，側(cè)邊會(huì)抵靠于所述抵靠柱251，同時(shí)背面會(huì)貼靠于所述間隔凸粒261。當(dāng)次小尺寸的基材42與最小尺寸的基材43放置于該承載單元23時(shí)，其底邊會(huì)靠置于所述承托柱241的其中位于左邊的兩個(gè)，側(cè)邊會(huì)抵靠于所述抵靠柱251的其中位于下方的一個(gè)，同時(shí)背面會(huì)貼靠于所述間隔凸粒261的其中四個(gè)間隔凸粒261。通過此特點(diǎn)，本實(shí)用新型可供不同尺寸大小的基材4、41、42、43進(jìn)行鍍膜，以利于生產(chǎn)作業(yè)。
[0039]參閱圖5與圖7，本實(shí)用新型濺鍍?cè)O(shè)備的一個(gè)第二實(shí)施例的構(gòu)造大致相同于該第一實(shí)施例，不同處在于:該反應(yīng)腔體I呈直立設(shè)置，并供該基材固定裝置2設(shè)置于該反應(yīng)腔體I內(nèi)，而該上滾送單元32、該下滾送單元31能相配合供該基材載架21由上往下逐漸向前傾斜地?cái)[放。因此在本實(shí)施例中，每一個(gè)基材4擺放于各別的承載單元23時(shí)，依然是由上往下逐漸向前傾斜，且底邊由左而右逐漸向上傾斜，而將重量分散落于所述承托柱241與所述抵靠柱251，因此仍然能穩(wěn)固地直接擺放于該放置空間27。
[0040]綜上所述，本實(shí)用新型濺鍍?cè)O(shè)備，通過該基材載架21的傾斜設(shè)計(jì)，及所述承托柱241與所述抵靠柱251的排列設(shè)計(jì)，使每一個(gè)基材4只要直接擺放于該承托模組24上就可利用自身重量直接穩(wěn)固地靠置于該承托模組24與該抵靠模組25，而不需利用例如圖1所示的以往的所述夾固單元92來固定，因此能使該基材4被充分的濺鍍以避免無(wú)效區(qū)的存在。另外，擺放的設(shè)置方式，還能使該承載單元23可供不同尺寸的基材4、41、42、43放置，能大幅增加本實(shí)用新型的泛用性，以利于生產(chǎn)作業(yè)，所以確實(shí)能達(dá)成本實(shí)用新型的目的。
[0041]以上所述者，僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例而已，當(dāng)不能以此限定本實(shí)用新型實(shí)施的范圍，即凡依本實(shí)用新型權(quán)利要求書及說明書內(nèi)容所作的簡(jiǎn)單的等效變化與修飾，皆仍屬本實(shí)用新型的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種基材固定裝置，適用于供一片基材放置，并包含:一個(gè)基材載架，該基材載架包括一個(gè)上下延伸的安裝面；其特征在于:該基材固定裝置還包含至少一個(gè)用于承載該基材的承載單元，該承載單元包括安裝于該安裝面上的一個(gè)承托模組及一個(gè)抵靠模組，該承托模組具有一個(gè)與一水平面呈一夾角且供該基材傾斜放置于上方的放置面，該抵靠模組鄰近于該放置面的較低的一端，以供該基材抵靠，該承托模組、該抵靠模組與該安裝面相配合界定出一個(gè)可供該基材放置的放置空間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材固定裝置，其特征在于:包含數(shù)個(gè)彼此間隔地安裝于該安裝面上的承載單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材固定裝置，其特征在于:該承托模組具有數(shù)個(gè)由鄰近而遠(yuǎn)離該抵靠模組逐漸往上間隔排列的承托柱，所述承托柱分別具有一個(gè)與該基材接觸的承托面，所述承托面共同界定出該承托模組的該放置面，該抵靠模組具有數(shù)個(gè)由下而上并沿著遠(yuǎn)離該承托模組的方向間隔排列的抵靠柱。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基材固定裝置，其特征在于:所述承托柱與所述抵靠柱分別可調(diào)整突出該安裝面的長(zhǎng)度地安裝于該基材載架上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材固定裝置，其特征在于:該承載單元還包括一個(gè)安裝于該安裝面且將該基材與該安裝面隔開的間隔模組。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基材固定裝置，其特征在于:該間隔模組具有數(shù)個(gè)彼此間隔地位于該放置空間的間隔凸粒。
7.一種濺鍍?cè)O(shè)備，包含:一個(gè)反應(yīng)腔體；其特征在于:該濺鍍?cè)O(shè)備還包含一個(gè)根據(jù)權(quán)利要求I至6中任一權(quán)利要求所述的基材固定裝置，及一個(gè)輸送裝置，該基材固定裝置設(shè)置于該反應(yīng)腔體內(nèi)，且該基材固定裝置的該安裝面由上往下逐漸向前傾斜，該輸送裝置包括一個(gè)安裝于該反應(yīng)腔體內(nèi)并支撐設(shè)置于該基材固定裝置底部的下滾送單元，及一個(gè)安裝于該反應(yīng)腔體內(nèi)并支撐設(shè)置于該基材固定裝置頂部的上滾送單元，該上滾送單元與該下滾送單元相配合使該基材載架的該安裝面能由上往下逐漸向前傾斜。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的濺鍍?cè)O(shè)備，其特征在于:該基材固定裝置還包括一個(gè)安裝于該基材載架底部的底桿，該底桿具有一個(gè)位于底部且截面呈下凸圓弧狀的下凸抵面，該下滾送單元具有數(shù)個(gè)可分別轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于該反應(yīng)腔體內(nèi)底部且沿該基材固定裝置的底部間隔排列的滾輪，每一個(gè)滾輪具有一個(gè)供該底桿放置且與該下凸抵面形狀相對(duì)應(yīng)的環(huán)凹狀輪槽。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的濺鍍?cè)O(shè)備，其特征在于:該上滾送單元具有數(shù)個(gè)安裝于該反應(yīng)腔體內(nèi)且沿該基材固定裝置的背面頂側(cè)間隔排列的滑輪組。
【文檔編號(hào)】C23C14/34GK204162780SQ201420616834
【公開日】2015年2月18日 申請(qǐng)日期:2014年10月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月23日
【發(fā)明者】謝昆山, 王佳銘, 李泰諒 申請(qǐng)人:北儒精密股份有限公司