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鎂合金粉塵消除裝置以及鎂合金拋光設備的制作方法

文檔序號:3336055閱讀:412來源:國知局
鎂合金粉塵消除裝置以及鎂合金拋光設備的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種鎂合金粉塵消除裝置以及鎂合金拋光設備,該鎂合金粉塵消除裝置包括用于提供水幕(6)的水幕提供機構以及負壓提供機構,所述負壓提供機構位于所述水幕提供機構的一側將所述水幕提供機構的另一側的鎂合金粉塵(3)吸入至所述水幕提供機構內。該裝置能夠高效地將鎂合金粉塵吸入至水幕中進行消除,完全避免了燃燒爆炸的安全隱患。
【專利說明】鎂合金粉塵消除裝置以及鎂合金拋光設備

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及鎂合金加工,具體地,涉及一種鎂合金粉塵消除裝置以及鎂合金拋光設備。

【背景技術】
[0002]鎂合金件加工工藝中涉及拋光工序,在鎂合金拋光過程中會產生大量的細小粉塵,由于金屬鎂易燃性導致這些彌漫著空氣中的鎂合金粉塵極易燃燒甚至是爆炸,對人身安全是一種潛在安全隱患。
[0003]在現有技術中,使用排氣扇等裝置對鎂合金粉塵進行排除,雖然在一定程度上能夠排出鎂合金粉塵,但是一旦鎂合金粉塵的濃度過大,鎂合金粉塵與排氣扇的葉片摩擦的幾率增大以致摩擦生熱而導致鎂合金粉塵燃燒或爆炸。
實用新型內容
[0004]本實用新型的目的是提供一種鎂合金粉塵消除裝置以及包含該鎂合金粉塵消除裝置的鎂合金拋光設備,該裝置能夠高效地將鎂合金粉塵吸入至水幕中進行消除,完全避免了燃燒爆炸的安全隱患。
[0005]為了實現上述目的,本實用新型提供了一種鎂合金粉塵消除裝置,該鎂合金粉塵消除裝置包括用于提供水幕的水幕提供機構以及負壓提供機構,負壓提供機構位于水幕提供機構的一側將水幕提供機構的另一側的鎂合金粉塵吸入至水幕提供機構內。
[0006]優(yōu)選地,水幕提供機構為腔體結構,腔體結構的內壁的頂部設有多個噴淋頭以提供水眷。
[0007]優(yōu)選地,鎂合金粉塵消除裝置還包括位于噴淋頭下方的污水回收機構。
[0008]優(yōu)選地,鎂合金粉塵消除裝置還包括過濾機構和第一水泵,第一水泵一端與過濾機構的入水口相連,另一端與過濾機構的出水口相連。
[0009]優(yōu)選地,鎂合金粉塵消除裝置還包括第二水泵,第二水泵一端與過濾機構的出水口相連,另一端與噴淋頭的入水口相連。
[0010]優(yōu)選地,負壓提供機構為負壓吸風機。
[0011]本實用新型還提供了一種鎂合金拋光設備,該鎂合金拋光設備包括拋光裝置和上述的鎂合金粉塵消除裝置;鎂合金粉塵消除裝置能夠將拋光裝置內排出的廢氣吸入至水幕提供機構內。
[0012]優(yōu)選地,拋光裝置包括敞開的拋光操作臺,水幕位于拋光操作臺的一側。
[0013]根據上述技術方案,本實用新型通過設置水幕提供機構和負壓提供機,負壓提供機將含有鎂合金粉塵的氣體通過水幕吸入至水幕提供機構中,使得鎂合金粉塵自水中進行沉積以達到消除鎂合金粉塵的目的,從而徹底地消除了粉塵燃燒或爆照的安全隱患。
[0014]本實用新型的其他特征和優(yōu)點將在隨后的【具體實施方式】部分予以詳細說明。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]附圖是用來提供對本實用新型的進一步理解,并且構成說明書的一部分,與下面的【具體實施方式】一起用于解釋本實用新型,但并不構成對本實用新型的限制。在附圖中:
[0016]圖1是本實用新型的優(yōu)選實施方式中的鎂合金拋光設備的結構示意圖。
[0017]附圖標記說明
[0018]1、拋光操作臺2、鎂合金件
[0019]3、鎂合金粉塵4、過濾機構
[0020]5、噴淋頭6、水幕
[0021]7、負壓吸風機8、第一水泵
[0022]9、第二水泵

【具體實施方式】
[0023]以下結合附圖對本實用新型的【具體實施方式】進行詳細說明。應當理解的是,此處所描述的【具體實施方式】僅用于說明和解釋本實用新型,并不用于限制本實用新型。
[0024]在本實用新型中,在未作相反說明的情況下,“內、一側、另一側”等包含在術語中的方位詞僅代表該術語在常規(guī)使用狀態(tài)下的方位,或為本領域技術人員理解的俗稱,而不應視為對該術語的限制。
[0025]本實用新型提供了一種鎂合金粉塵消除裝置,如圖1所示,該鎂合金粉塵消除裝置包括用于提供水幕6的水幕提供機構以及負壓提供機構,負壓提供機構位于水幕6提供機構的一側將水幕6提供機構的另一側的鎂合金粉塵3吸入至水幕提供機構內。
[0026]在上述實施方式中,水幕提供機構能夠提供水幕6,負壓提供機將含有鎂合金粉塵的氣體通過水幕6吸入至水幕提供機構中,使得鎂合金粉塵自水中進行沉積以達到消除鎂合金粉塵的目的,從而徹底地消除了粉塵燃燒或爆照的安全隱患。
[0027]在本實施方式中,水幕提供機構可以是本領域任何一種能夠提供水幕6的結構,可以是多個噴淋頭5組合而成,也可以是在條形狀的一體結構上設置多個噴淋孔以在水壓下形成水幕6。為了便于控制數目的尺寸以及便于水幕提供機構的組裝與拆卸,優(yōu)選地,水幕提供機構為腔體結構,腔體結構的內壁的頂部設有多個噴淋頭5以提供所述水幕6。
[0028]同時,為了表面水幕提供機構中混有鎂合金粉塵的水對環(huán)境的污染,優(yōu)選地,鎂合金粉塵消除裝置還包括位于噴淋頭5下方的污水回收機構。這樣所有的污水均在污水回收機構得以統(tǒng)一收集。
[0029]此外,為了使得上述污水中混有的鎂合金粉塵能夠重新得以回收利用,回收利用的方式較多,可以是讓污水自行沉積以使得鎂合金粉塵與水進行分離,也可以是通過過濾的方式將鎂合金粉塵與水進行分離。優(yōu)選地,采用過濾的方式將鎂合金粉塵與水進行分離。具體的過濾結構同樣具多種結構形式,為了簡化過濾凈化步驟,更優(yōu)選地,鎂合金粉塵消除裝置還包括過濾機構4和第一水泵8,第一水泵8 一端與過濾機構4的入水口相連,另一端與過濾機構4的出水口相連。其中,過濾機構4中設置的過濾材質可以是本領域任何一種濾芯,如PP濾芯、活性炭濾芯或樹脂濾芯。
[0030]另外,進一步從環(huán)保角度考慮,為了在該鎂合金粉塵消除裝置中實現水循環(huán),優(yōu)選地,鎂合金粉塵消除裝置還包括第二水泵9,第二水泵9 一端與過濾機構4的出水口相連,另一端與噴淋頭5的入水口相連。這樣從過濾機構4排出的水能夠作為產生水幕6的水源,達到了環(huán)保的效果。
[0031]在上述鎂合金粉塵消除裝置的諸種是實施方式中,負壓提供機構可以是本領域任何一種能夠產生負壓的結構,從成本上考慮,優(yōu)選地,負壓提供機構為負壓吸風機7。該負壓提供機構成本低,能夠極大地降低生產成本。
[0032]本實用新型還提供了一種鎂合金拋光設備,該鎂合金拋光設備包括拋光裝置和上述的鎂合金粉塵消除裝置;鎂合金粉塵消除裝置能夠將拋光裝置內排出的廢氣吸入至水幕提供機構內。該鎂合金拋光設備能夠安全地進行鎂合金拋光打磨。
[0033]在本實用新型提供的鎂合金拋光設備中,該拋光裝置可以具有多種具體結構方式,為了便于鎂合金粉塵消除裝置的設置,優(yōu)選地,拋光裝置為敞開的拋光操作臺1,水幕6位于拋光操作臺的一側,這樣在拋光操作臺I打磨鎂合金件2后,在打磨過程中產生的鎂合金粉末3吸入至水幕提供機構中進行消除。
[0034]以上結合附圖詳細描述了本實用新型的優(yōu)選實施方式,但是,本實用新型并不限于上述實施方式中的具體細節(jié),在本實用新型的技術構思范圍內,可以對本實用新型的技術方案進行多種簡單變型,這些簡單變型均屬于本實用新型的保護范圍。
[0035]另外需要說明的是,在上述【具體實施方式】中所描述的各個具體技術特征,在不矛盾的情況下,可以通過任何合適的方式進行組合,為了避免不必要的重復,本實用新型對各種可能的組合方式不再另行說明。
[0036]此外,本實用新型的各種不同的實施方式之間也可以進行任意組合,只要其不違背本實用新型的思想,其同樣應當視為本實用新型所公開的內容。
【權利要求】
1.一種鎂合金粉塵消除裝置,其特征在于,所述鎂合金粉塵消除裝置包括用于提供水幕(6)的水幕提供機構以及負壓提供機構,所述負壓提供機構位于所述水幕提供機構的一側將所述水幕提供機構的另一側的鎂合金粉塵(3)吸入至所述水幕提供機構內。
2.根據權利要求1所述的鎂合金粉塵消除裝置,其特征在于,所述水幕提供機構為腔體結構,所述腔體結構的內壁的頂部設有多個噴淋頭(5)以提供所述水幕(6)。
3.根據權利要求2所述的鎂合金粉塵消除裝置,其特征在于,所述鎂合金粉塵消除裝置還包括位于所述噴淋頭(5)下方的污水回收機構。
4.根據權利要求3所述的鎂合金粉塵消除裝置,其特征在于,所述鎂合金粉塵消除裝置還包括過濾機構(4)和第一水泵(8),所述第一水泵(8) —端與所述過濾機構(4)的入水口相連,另一端與所述過濾機構(4)的出水口相連。
5.根據權利要求4所述的鎂合金粉塵消除裝置,其特征在于,所述鎂合金粉塵消除裝置還包括第二水泵(9),所述第二水泵(9) 一端與所述過濾機構(4)的出水口相連,另一端與所述噴淋頭(5)的入水口相連。
6.根據權利要求1-5中的任意一項所述的鎂合金粉塵消除裝置,其特征在于,所述負壓提供機構為負壓吸風機(7)。
7.—種鎂合金拋光設備,其特征在于,所述鎂合金拋光設備包括拋光裝置和權利要求1-6中的任意一項所述的鎂合金粉塵消除裝置;所述鎂合金粉塵消除裝置能夠將所述拋光裝置內排出的廢氣吸入至所述水幕提供機構內。
8.根據權利要求7所述的鎂合金粉塵消除裝置,其特征在于,所述拋光裝置包括敞開的拋光操作臺(I),所述水幕(6)位于所述拋光操作臺的一側。
【文檔編號】B24B55/06GK204195527SQ201420552071
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2014年9月24日 優(yōu)先權日:2014年9月24日
【發(fā)明者】張建軍, 林玉麟, 婁慧, 周學才, 雷佳佳 申請人:鎂聯(lián)科技(蕪湖)有限公司
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