基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，包括管式加熱爐、供氣系統(tǒng)和真空泵組，管式加熱爐包括爐體和設(shè)置在爐體內(nèi)的反應(yīng)腔體，還包括：設(shè)置在反應(yīng)腔體外側(cè)且與反應(yīng)腔體兩端分別密封連接的第一密封倉和第二密封倉，第一密封倉內(nèi)設(shè)置有第一傳動裝置，第二密封倉內(nèi)設(shè)置有第二傳動裝置，供氣系統(tǒng)與反應(yīng)腔體、第一密封倉和第二密封倉三者中的一個連通，且真空泵組與三者中另外兩個中的一個連通，第一密封倉和第二密封倉內(nèi)均設(shè)置有用于冷卻第一密封倉、第二密封倉和反應(yīng)基體的水冷裝置。本方案提供的裝置反應(yīng)基體在反應(yīng)腔內(nèi)連續(xù)反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)反應(yīng)基體的卷對卷氣相沉積。
【專利說明】基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及復(fù)合材料制造【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]化學(xué)氣相沉積方法是一種利用反應(yīng)物氣態(tài)前驅(qū)體在一定溫度下分解反應(yīng)形成薄膜、涂層或者微米、納米結(jié)構(gòu)的化學(xué)技術(shù)。這種方法已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于各種材料的合成，比如:石墨烯、碳納米管、硅、氧化鋅等等。管式加熱爐作為一種易于制造和管理的反應(yīng)爐已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于化學(xué)氣相沉積反應(yīng)。
[0003]以制備石墨烯為例，現(xiàn)有技術(shù)中的石墨烯的制備是在管式加熱爐中進(jìn)行，制備裝置包括一個腔體，將待反應(yīng)的反應(yīng)物放置在管式加熱爐中，對管式加熱爐進(jìn)行加熱，此時的化學(xué)氣相沉積是靜態(tài)生長模式，管式爐內(nèi)的反應(yīng)物生長完成后，取出生長物，進(jìn)行下一反應(yīng)物的生長；現(xiàn)有技術(shù)中存在能夠?qū)崿F(xiàn)反應(yīng)物連續(xù)生長的氣相沉積裝置，CN102828161A專利中公開了一種石墨烯生產(chǎn)方法和連續(xù)式生產(chǎn)裝置，該裝置包括真空腔體，真空腔體內(nèi)設(shè)置有加熱器件、反應(yīng)基體傳送的傳送系統(tǒng)、反應(yīng)基體冷卻系統(tǒng)、反應(yīng)基體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)和反應(yīng)基體退火系統(tǒng)，反應(yīng)基體的連續(xù)生長在真空腔體內(nèi)進(jìn)行，反應(yīng)基體通過傳送系統(tǒng)的傳送實(shí)現(xiàn)連續(xù)生長。上述專利文件中提到的裝置，氣相沉積的各個部件需要固定在真空腔體內(nèi)，導(dǎo)致各個部件在真空腔體內(nèi)的組裝存在一定的難度，安裝不方便。
[0004]因此，如何降低反應(yīng)基體連續(xù)生長的裝置的組裝難度，成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]有鑒于此，本實(shí)用新型提供了一種基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，以降低反應(yīng)基體連續(xù)生長的裝置的組裝難度。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:
[0007]—種基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，包括管式加熱爐、供氣系統(tǒng)和真空泵組，管式加熱爐包括爐體和設(shè)置在爐體內(nèi)的反應(yīng)腔體，還包括:
[0008]設(shè)置在所述反應(yīng)腔體外側(cè)且與所述反應(yīng)腔體兩端分別密封連接的第一密封倉和第二密封倉，所述第一密封倉內(nèi)設(shè)置有第一傳動裝置，所述第二密封倉內(nèi)設(shè)置有第二傳動裝置，所述供氣系統(tǒng)與所述反應(yīng)腔體、所述第一密封倉和第二密封倉三者中的一個與連通，且所述真空泵組與三者中另外兩個中的一個連通，所述第一密封倉和所述第二密封倉內(nèi)均設(shè)置有用于冷卻所述第一密封倉、所述第二密封倉和反應(yīng)基體的水冷裝置。
[0009]優(yōu)選的，在上述基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置中，所述第一密封倉和所述第二密封倉與所述管式加熱爐通過法蘭連接。
[0010]優(yōu)選的，在上述基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置中，所述第一傳動裝置裝置包括:設(shè)置在所述第一密封倉內(nèi)用于卷繞已發(fā)生反應(yīng)的反應(yīng)基體的第一卷繞輥和設(shè)置在所述第一密封倉的外側(cè)且與所述第一卷繞輥連接的第一電機(jī)；
[0011]所述第二傳動裝置包括:設(shè)置在所述第二密封倉內(nèi)用于卷繞未發(fā)生反應(yīng)的反應(yīng)基體的第二卷繞輥和設(shè)置在所述第二密封倉的外側(cè)且與所述第二卷繞輥連接的第二電機(jī)。
[0012]優(yōu)選的，在上述基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置中，所述水冷裝置包括:
[0013]沿所述第一密封倉和所述第二密封倉的外壁設(shè)置用于冷卻所述第一密封倉和所述第二密封倉的水冷層；與所述反應(yīng)基體的傳送方向垂直布置且與所述反應(yīng)基體貼合用于冷卻反應(yīng)基體的水冷管。
[0014]優(yōu)選的，在上述基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置中，所述供氣系統(tǒng)包括:
[0015]能夠承裝氫氣或者IS氣或者娃燒或者甲燒或者乙烯或者乙炔或者乙燒氣體的氣瓶，所述氣瓶的個數(shù)不少于2個，所述氣瓶上設(shè)置有流量計(jì)。
[0016]優(yōu)選的，在上述基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置中，所述真空泵組為機(jī)械泵泵組或擴(kuò)散泵泵組或分子泵泵組，或者所述真空泵組為機(jī)械泵、擴(kuò)散泵和分子泵中的兩種或三種組合成的泵組；
[0017]還包括與所述真空泵組通信連接用于檢測所述管式加熱爐內(nèi)真空度的真空計(jì)。
[0018]優(yōu)選的，在上述基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置中，還包括:
[0019]設(shè)置在所述第一卷繞輥上用于檢測所述反應(yīng)基體張緊度的張力傳感器，所述張力傳感器與所述第二電機(jī)通信連接；
[0020]與所述第一電機(jī)配合的第一減速機(jī)和與所述第二電機(jī)配合的第二減速機(jī)。
[0021]優(yōu)選的，在上述基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置中，還包括:與所述第一電機(jī)和所述第二電機(jī)通信連接用于檢測所述反應(yīng)基體拉伸度的行程開關(guān)。
[0022]從上述技術(shù)方案可以看出，本實(shí)用新型提供的基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，包括管式加熱爐、供氣系統(tǒng)、真空泵組、第一傳動裝置和第二傳動裝置，第一傳動裝置和第二傳動裝置用于傳動反應(yīng)基體，還包括設(shè)置在管式加熱爐的反應(yīng)腔體外側(cè)且與反應(yīng)腔體的兩端密封連接的第一密封倉和第二密封倉，第一傳動裝置設(shè)置在第一密封倉內(nèi)，第二傳動裝置設(shè)置在第二密封倉內(nèi)，供氣系統(tǒng)和真空泵組共同調(diào)節(jié)裝置內(nèi)的氣壓。本方案提供的裝置將第一密封倉和第二密封倉設(shè)置在反應(yīng)腔體的兩側(cè)，第一密封倉、第二密封倉和反應(yīng)腔體組成卷對卷氣相沉積的反應(yīng)腔體，相對于現(xiàn)有技術(shù)中的反應(yīng)裝置，不需要設(shè)置一個大的密封腔將其他裝置包裹在內(nèi)，本方案提供的裝置將第一密封倉、第二密封倉和反應(yīng)腔體組合即可構(gòu)成反應(yīng)腔體，為第一傳送裝置和第二傳送裝置等裝置的安裝提供了安裝基礎(chǔ)，降低了裝置的安裝難度。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0024]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]1、管式加熱爐，2、第一密封倉,3、第二密封倉,4、第一卷繞棍,5、第一電機(jī),6、第二卷繞輥，7、第二電機(jī)，8、水冷層，9、水冷管，10、氣瓶，11、流量計(jì)，12、行程開關(guān)。

【具體實(shí)施方式】
[0026]本實(shí)用新型公開了一種基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，以降低反應(yīng)基體連續(xù)生長的裝置的組長難度。
[0027]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0028]請參閱圖1，圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0029]一種基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，包括管式加熱爐1、供氣系統(tǒng)和真空泵組，管式加熱爐I包括爐體和設(shè)置在爐體內(nèi)的反應(yīng)腔體，還包括:設(shè)置在反應(yīng)腔體外側(cè)且與反應(yīng)腔體兩端分別密封連接的第一密封倉2和第二密封倉3，第一密封倉2內(nèi)設(shè)置有第一傳動裝置，第二密封倉3內(nèi)設(shè)置有第二傳動裝置，供氣系統(tǒng)與反應(yīng)腔體、第一密封倉2和第二密封倉3三者中的一個與連通,且真空泵組與三者中另外兩個中的一個連通,第一密封倉2和第二密封倉3內(nèi)均設(shè)置有用于冷卻第一密封倉2、第二密封倉3和反應(yīng)基體的水冷裝置。
[0030]本方案提供的裝置，在管式加熱爐I的反應(yīng)腔體外側(cè)兩端設(shè)置有與反應(yīng)腔體密封連接的第一密封倉2和第二密封倉3，通過管式加熱爐I的反應(yīng)腔體、第一密封倉2和第二密封倉3組成卷對卷氣相沉積的反應(yīng)腔，第一密封倉2內(nèi)設(shè)置有第一傳動裝置，第二密封倉3內(nèi)設(shè)置有第二傳動裝置，在氣相沉積的過程中能夠?qū)崿F(xiàn)反應(yīng)基體的連續(xù)生長。本方案提供的裝置管式加熱爐的反應(yīng)腔體、第一密封倉2和第二密封倉3構(gòu)成反應(yīng)腔體，不需要設(shè)置一個大的腔體將加熱器件、傳送系統(tǒng)和冷卻系統(tǒng)等進(jìn)行密封處理，只要將第一密封倉2和第二密封倉3與反應(yīng)腔體連接即可，且能夠?yàn)榈谝粋魉脱b置和第二傳送裝置提供了安裝基礎(chǔ)，相對于現(xiàn)有技術(shù)中裝置方便了設(shè)備的組裝，降低了安裝難度，同時降低了人工勞動強(qiáng)度。為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在本實(shí)用新型的一具體實(shí)施例中，第一密封倉2和第二密封倉3與管式加熱爐I通過法蘭連接，或者第一密封倉2和第二密封倉3與管式加熱爐I通過螺栓連接，在第一密封倉2、第二密封倉3與反應(yīng)腔體的連接處設(shè)置密封墊，保證裝置密封。
[0031]優(yōu)選的，供氣系統(tǒng)與第一密封倉2和第二密封倉3之間的一個連通，真空泵組與第一密封倉2和第二密封倉3中的另外一個連通，能夠保證整個反應(yīng)腔體內(nèi)壓力一致，提高產(chǎn)品的質(zhì)量，且能夠方便供氣系統(tǒng)和真空泵組與裝置的連接。
[0032]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在本實(shí)用新型的一具體實(shí)施例中，第一傳動裝置裝置包括:設(shè)置在第一密封倉2內(nèi)用于卷繞已發(fā)生反應(yīng)的反應(yīng)基體的第一卷繞輥4和設(shè)置在第一密封倉2的外側(cè)且與第一卷繞輥4連接的第一電機(jī)5 ；
[0033]第二傳動裝置包括:設(shè)置在第二密封倉3內(nèi)用于卷繞未發(fā)生反應(yīng)的反應(yīng)基體的第二卷繞輥6和設(shè)置在第二密封倉3的外側(cè)且與第二卷繞輥6連接的第二電機(jī)7。
[0034]將卷制成卷的未反應(yīng)的反應(yīng)基體纏繞在第二密封倉3的第二卷繞輥6上，將未反應(yīng)的反應(yīng)基體展開，穿過管式加熱爐I的反應(yīng)腔體纏繞到第一密封倉2的第一卷繞輥上4，開啟真空泵組和水冷裝置，打開供氣系統(tǒng)對反應(yīng)腔體進(jìn)行供氣，在管式加熱爐I內(nèi)形成氣體反應(yīng)環(huán)境，真空泵組保證裝置內(nèi)的真空度。開啟第一電機(jī)5和第二電機(jī)7，第一卷繞輥4和第二卷繞輥6轉(zhuǎn)動，未反應(yīng)的反應(yīng)基體通過管式加熱爐I的反應(yīng)腔體由第二卷繞輥6纏設(shè)到第一卷繞輥4上，第一卷繞輥4用于纏設(shè)發(fā)生反應(yīng)的反應(yīng)基體。氣源在反應(yīng)腔體內(nèi)持續(xù)反應(yīng)，反應(yīng)基體在反應(yīng)腔體內(nèi)持續(xù)運(yùn)動，實(shí)現(xiàn)卷對卷氣相沉積的連續(xù)生長。
[0035]管式加熱爐I上設(shè)置有加熱裝置和溫控系統(tǒng):
[0036]加熱裝置為電熱絲加熱，電熱絲纏繞在管式加熱爐I的外側(cè)，對管式加熱爐I進(jìn)行加熱；
[0037]溫度控制系統(tǒng)控制管式加熱爐I的反應(yīng)溫度，保證產(chǎn)品質(zhì)量，溫度控制系統(tǒng)包括用于檢測管式加熱爐I內(nèi)溫度的熱電偶和與熱電偶通信連接的溫度程控器，具體的工作過程為:熱電偶檢測管式加熱爐I內(nèi)的反應(yīng)溫度，并將檢測到的管式加熱爐I內(nèi)的溫度反饋給溫度程控器，溫度程控器對管式加熱爐I內(nèi)的溫度進(jìn)行控制，溫度控制為自動控制，有效保證了產(chǎn)品的質(zhì)量。
[0038]管式加熱爐I的腔體截面可以為圓形或者方形，管式加熱爐I可以為石英管或者陶瓷管或者不銹鋼管制作的管式加熱爐。反應(yīng)基體可以為銅、鐵、鎳、碳、鈷、金、鉬、招、鑰、釕、鉭、鈦、鎢、鉻、鎂、錳中的一種或者任意兩種或兩種以上的合金帶材，或者一種或者任意兩種或兩種以上帶材堆疊或者纏繞組成的復(fù)合帶材。本實(shí)用新型適用于石墨烯、碳納米管、氧化鋅和氧化鎂等材料的卷對卷生長。
[0039]反應(yīng)基體的傳送不僅可以通過第一卷繞輥4和第二卷繞輥6進(jìn)行傳送，還可以通過傳送帶、傳輸輥道進(jìn)行傳送或者為其他的傳送方式，在此不做具體限定。
[0040]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在本實(shí)用新型的一具體實(shí)施例中，水冷裝置包括:
[0041]沿第一密封倉2和第二密封倉3的外壁設(shè)置用于冷卻第一密封倉2和第二密封倉3的水冷層8 ;與反應(yīng)基體的傳送方向垂直布置且與反應(yīng)基體貼合用于冷卻反應(yīng)基體的水冷管9。
[0042]氣相沉積對反應(yīng)基體的反應(yīng)溫度具有一定的要求，水冷層8設(shè)置在第一密封倉2和第二密封倉3的外壁，水冷層8內(nèi)布置水冷管，實(shí)現(xiàn)對第一密封倉2和第二密封倉3的冷卻，保證位于第二密封倉3內(nèi)沒有發(fā)生反應(yīng)的反應(yīng)基體和第一密封倉2內(nèi)的已經(jīng)發(fā)生反應(yīng)的反應(yīng)基體不會發(fā)生其他化學(xué)反應(yīng)，保證產(chǎn)品純度和質(zhì)量；水冷管9主要用來冷卻反應(yīng)基體，避免反應(yīng)基體影響第一密封倉2和第二密封倉3內(nèi)的溫度，同時保證反應(yīng)基體在進(jìn)出反應(yīng)腔體時不發(fā)生其他化學(xué)反應(yīng)，進(jìn)一步提高產(chǎn)品的純度和質(zhì)量。
[0043]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在本實(shí)用新型的一具體實(shí)施例中，供氣系統(tǒng)包括:
[0044]能夠承裝氫氣或者氬氣或者硅烷或者甲烷或者乙烯或者乙炔或者乙烷等氣體的氣瓶10，氣瓶10的個數(shù)不少于2個，氣瓶10上設(shè)置有流量計(jì)11。供氣系統(tǒng)可以和第一密封倉2、第二密封倉3和反應(yīng)腔體中的任何一個連接，且供氣系統(tǒng)與上述三者中的一個通過管路連通，管路上設(shè)置有閥門，控制供氣系統(tǒng)的開啟和關(guān)閉，流量計(jì)11控制氣體的流速和不同氣體的比例，保證反應(yīng)基體可以在管式加熱爐I內(nèi)充分反應(yīng)。氣瓶10的個數(shù)至少為2個，氣瓶10內(nèi)根據(jù)需要充入相應(yīng)的氣體。
[0045]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在本實(shí)用新型的一具體實(shí)施例中，真空泵組為機(jī)械泵泵組或擴(kuò)散泵泵組或分子泵泵組，或者真空泵組為機(jī)械泵、擴(kuò)散泵和分子泵中的兩種或三種組合成的泵組；
[0046]還包括與真空泵組通信連接用于檢測管式加熱爐I內(nèi)真空度的真空計(jì)。
[0047]真空泵與第一密封倉2、第二密封倉3和反應(yīng)腔體中另外兩個通過管路連接，管路上設(shè)置有閥門。
[0048]本方案提供的裝置的氣壓由供氣裝置和真空泵組共同決定。打開閥門，第二密封倉3內(nèi)的氣體通過管路進(jìn)入真空泵，真空計(jì)檢測裝置內(nèi)的氣壓，并將氣壓信號傳輸給真空泵，真空泵根據(jù)測得的氣壓信號開啟或者關(guān)閉。
[0049]為了進(jìn)一步提高產(chǎn)品的質(zhì)量，還包括:設(shè)置在第一卷繞輥4上用于檢測反應(yīng)基體張緊度的張力傳感器，張力傳感器與第二電機(jī)7通信連接；與第一電機(jī)5配合的第一減速機(jī)和與第二電機(jī)7配合的第二減速機(jī)。在卷繞的過程中，反應(yīng)基體不斷的從第二卷繞輥6傳送到第一卷繞輥4上，第二卷繞管6上的反應(yīng)基體卷的直徑在不斷減小，第一卷繞輥4上的反應(yīng)基體卷的直徑在不斷增大，為了保證反應(yīng)基體受到的力不因?yàn)榈谝痪砝@輥4和第二卷繞輥6上的反應(yīng)基體卷的直徑變化而變化，在傳送的過程中，張力傳感器實(shí)時監(jiān)測反應(yīng)基體的張緊度，并根據(jù)反應(yīng)基體的張緊度變化調(diào)整第二電機(jī)7提供的轉(zhuǎn)速，保證反應(yīng)基體在反應(yīng)過程中受到的張緊力不變，防止反應(yīng)基體被拉斷，影響連續(xù)生長，同時也在一定程度上提聞了廣品的質(zhì)量。
[0050]為了進(jìn)一步保證裝置工作的穩(wěn)定性，還包括與第一電機(jī)5配合的第一減速機(jī)和與第二電機(jī)7配合的第二減速機(jī)，起到增大扭矩的目的。
[0051]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在本實(shí)用新型的一具體實(shí)施例中，還包括:與第一電機(jī)5和第二電機(jī)7通信連接用于檢測反應(yīng)基體拉伸度的行程開關(guān)12。當(dāng)纏繞在第二卷繞輥6上的反應(yīng)基體的拉伸形變達(dá)到一定的程度時，為了避免反應(yīng)基體被拉斷，影響反應(yīng)基體的連續(xù)生長，行程開關(guān)12檢測反應(yīng)基體的拉伸度，當(dāng)拉伸度達(dá)到預(yù)設(shè)值時，行程開關(guān)將拉伸信號反饋給第一電機(jī)5和第二電機(jī)7,第一電機(jī)5和第二電機(jī)7停止工作,使得反應(yīng)基體的卷繞停止。優(yōu)選的，還包括與行程開關(guān)配合的報(bào)警器，當(dāng)拉伸度達(dá)到預(yù)設(shè)值時，第一電機(jī)5和第二電機(jī)7停止工作，報(bào)警器報(bào)警，提醒工作人員進(jìn)行維修。
[0052]對所公開的實(shí)施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新型。對這些實(shí)施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本實(shí)用新型將不會被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，包括管式加熱爐(I)、供氣系統(tǒng)和真空泵組，管式加熱爐(I)包括爐體和設(shè)置在所述爐體內(nèi)的反應(yīng)腔體，其特征在于，還包括: 設(shè)置在所述反應(yīng)腔體外側(cè)且與所述反應(yīng)腔體兩端分別密封連接的第一密封倉(2)和第二密封倉(3)，所述第一密封倉(2)內(nèi)設(shè)置有第一傳動裝置，所述第二密封倉(3)內(nèi)設(shè)置有第二傳動裝置，所述供氣系統(tǒng)與所述反應(yīng)腔體、所述第一密封倉(2)和第二密封倉(3)三者中的一個連通，且所述真空泵組與三者中另外兩個中的一個連通，所述第一密封倉(2)和所述第二密封倉(3)內(nèi)均設(shè)置有用于冷卻所述第一密封倉(2)、所述第二密封倉(3)和反應(yīng)基體的水冷裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，其特征在于，所述第一密封倉(2)和所述第二密封倉(3)與所述管式加熱爐(I)通過法蘭連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，其特征在于，所述第一傳動裝置裝置包括:設(shè)置在所述第一密封倉(2)內(nèi)用于卷繞已發(fā)生反應(yīng)的反應(yīng)基體的第一卷繞輥(4)和設(shè)置在所述第一密封倉(2)的外側(cè)且與所述第一卷繞輥(4)連接的第一電機(jī)(5)； 所述第二傳動裝置包括:設(shè)置在所述第二密封倉(3)內(nèi)用于卷繞未發(fā)生反應(yīng)的反應(yīng)基體的第二卷繞輥(6)和設(shè)置在所述第二密封倉(3)的外側(cè)且與所述第二卷繞輥(6)連接的第二電機(jī)(7)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，其特征在于，所述水冷裝置包括: 沿所述第一密封倉(2)和所述第二密封倉(3)的外壁設(shè)置用于冷卻所述第一密封倉(2)和所述第二密封倉⑶的水冷層⑶；與所述反應(yīng)基體的傳送方向垂直布置且與所述反應(yīng)基體貼合用于冷卻反應(yīng)基體的水冷管(9)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，其特征在于，所述供氣系統(tǒng)包括: 能夠承裝氫氣或者氬氣或者硅烷或者甲烷或者乙烯或者乙炔或者乙烷氣體的氣瓶(10)，所述氣瓶(10)的個數(shù)不少于2個，所述氣瓶(10)上設(shè)置有流量計(jì)(11)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，其特征在于，所述真空泵組為機(jī)械泵泵組或擴(kuò)散泵泵組或分子泵泵組，或者所述真空泵組為機(jī)械泵、擴(kuò)散泵和分子泵中的兩種或三種組合成的泵組； 還包括與所述真空泵組通信連接用于檢測所述管式加熱爐(I)內(nèi)真空度的真空計(jì)。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，其特征在于，還包括: 設(shè)置在所述第一卷繞輥(4)上用于檢測所述反應(yīng)基體張緊度的張力傳感器，所述張力傳感器與所述第二電機(jī)(7)通信連接； 與所述第一電機(jī)(5)配合的第一減速機(jī)和與所述第二電機(jī)(7)配合的第二減速機(jī)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基于管式爐的卷對卷氣相沉積裝置，其特征在于，還包括■?與所述第一電機(jī)(5)和所述第二電機(jī)(7)通信連接用于檢測所述反應(yīng)基體拉伸度的行程開關(guān)(12)。
【文檔編號】C23C16/54GK204198848SQ201420304373
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2014年6月9日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月9日
【發(fā)明者】汪偉, 劉兆平 申請人:中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所