脈沖磁場(chǎng)電弧蒸發(fā)源的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及真空多弧離子鍍膜機(jī)，具體是一種真空多弧離子鍍膜機(jī)的脈沖磁場(chǎng)電弧蒸發(fā)源。包括引弧機(jī)構(gòu)、靶塊、水冷靶座、磁性元件，所述磁性元件包括電磁線(xiàn)圈和磁軛，電磁線(xiàn)圈由脈沖電源供電，產(chǎn)生脈沖磁場(chǎng)，磁性元件設(shè)置有電磁屏蔽套，磁性元件與水冷靶座之間設(shè)置有冷卻水套。本實(shí)用新型利用脈沖電源供電，電磁線(xiàn)圈和磁軛產(chǎn)生電磁場(chǎng)，其電磁場(chǎng)可通過(guò)自動(dòng)控制電流實(shí)現(xiàn)定量調(diào)節(jié)，所有蒸發(fā)源的磁場(chǎng)很容易達(dá)到一致；電磁屏蔽防止電磁輻射對(duì)外圍電器和傳感元件的干擾；電磁線(xiàn)圈采用間接水冷防止過(guò)熱損壞，保證磁性元件正常工作。本實(shí)用新型靶塊弧斑的運(yùn)動(dòng)軌跡更合理，靶塊刻蝕更均勻，不易產(chǎn)生大顆粒離子的發(fā)射，可得到高質(zhì)量的膜層。
【專(zhuān)利說(shuō)明】 脈沖磁場(chǎng)電弧蒸發(fā)源
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及真空多弧離子鍍膜機(jī)，具體是一種真空多弧離子鍍膜機(jī)的脈沖磁場(chǎng)電弧蒸發(fā)源。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，真空多弧離子鍍膜機(jī)的蒸發(fā)源中使離子發(fā)生偏轉(zhuǎn)的磁性元件采用永磁鐵，材質(zhì)為鍶鐵氧體和釹鐵硼。由于制作原因，永磁鐵的磁場(chǎng)強(qiáng)度不完全相同，對(duì)溫度影響較為敏感，特別是冷卻水出現(xiàn)問(wèn)題導(dǎo)致永磁鐵承受高溫時(shí)，容易退磁，直接影響到蒸發(fā)源靶塊弧斑的運(yùn)動(dòng)軌跡，造成靶塊刻蝕不均勻，易產(chǎn)生大顆粒離子的發(fā)射，甚至嚴(yán)重影響鍍膜質(zhì)量，很難形成高質(zhì)量膜層。該類(lèi)蒸發(fā)源調(diào)節(jié)磁場(chǎng)強(qiáng)度十分繁瑣，只能靠手動(dòng)由經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)人員定性調(diào)節(jié)，精度較低，需多次調(diào)節(jié)才能達(dá)到幾個(gè)或幾十個(gè)蒸發(fā)源的磁場(chǎng)基本一致。蒸發(fā)源沒(méi)有磁場(chǎng)屏蔽裝置，磁場(chǎng)對(duì)周?chē)膫鞲衅骱托盘?hào)采集器件造成干擾。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是，提供一種磁場(chǎng)強(qiáng)度調(diào)節(jié)簡(jiǎn)便、磁場(chǎng)更穩(wěn)定，性能更可靠的脈沖磁場(chǎng)電弧蒸發(fā)源。
[0004]本實(shí)用新型解決所述問(wèn)題采用的技術(shù)方案是:
[0005]一種脈沖磁場(chǎng)電弧蒸發(fā)源，包括引弧機(jī)構(gòu)、靶塊、水冷靶座、磁性元件，所述磁性元件包括電磁線(xiàn)圈和磁軛，電磁線(xiàn)圈由脈沖電源供電，產(chǎn)生脈沖磁場(chǎng)，磁性元件設(shè)置有電磁屏蔽套，磁性元件與水冷靶座之間設(shè)置有冷卻水套。
[0006]采用上述技術(shù)方案的本實(shí)用新型，與現(xiàn)有技術(shù)相比，其有益效果是:
[0007]本實(shí)用新型利用脈沖電源供電，電磁線(xiàn)圈和磁軛產(chǎn)生電磁場(chǎng)，其電磁場(chǎng)可通過(guò)自動(dòng)控制電流實(shí)現(xiàn)定量調(diào)節(jié)，所有蒸發(fā)源的磁場(chǎng)很容易達(dá)到一致；電磁屏蔽防止電磁輻射對(duì)外圍電器和傳感元件的干擾；電磁線(xiàn)圈采用間接水冷防止過(guò)熱損壞，保證磁性元件正常工作。本實(shí)用新型靶塊弧斑的運(yùn)動(dòng)軌跡更合理，靶塊刻蝕更均勻，不易產(chǎn)生大顆粒離子的發(fā)射，可得到高質(zhì)量的膜層。
[0008]作為優(yōu)選，本實(shí)用新型更進(jìn)一步的技術(shù)方案是:
[0009]所述磁性元件通過(guò)其外套體裝配在水冷靶座內(nèi)，所述外套體與水冷靶座內(nèi)壁之間構(gòu)成與冷卻水管連接的冷卻水套。
[0010]所述電磁屏蔽套與水冷靶座外端通過(guò)法蘭結(jié)構(gòu)連接，電磁屏蔽套上設(shè)置有電磁線(xiàn)圈與脈沖電源連接的接線(xiàn)端子。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖中:引弧機(jī)構(gòu)I，靶塊2，水冷靶座3，冷卻水套4，冷卻水管5，外套體6，電磁屏蔽套7，接線(xiàn)端子8，磁軛9，電磁線(xiàn)圈10，脈沖電源11?！揪唧w實(shí)施方式】
[0013]以下結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明，目的僅在于更好的理解本實(shí)用新型內(nèi)容。因此，所舉之例并非限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[0014]參見(jiàn)圖1，這種脈沖磁場(chǎng)電弧蒸發(fā)源中的磁性元件由磁軛9、電磁線(xiàn)圈10、脈沖電源11組成，磁性元件通過(guò)其外套體6裝配在水冷靶座3內(nèi)，外套體6與水冷靶座3內(nèi)壁之間構(gòu)成與冷卻水管5連接的冷卻水套4 ;水冷靶座3外端通過(guò)法蘭結(jié)構(gòu)連接有電磁屏蔽套7，電磁屏蔽套7上設(shè)置有電磁線(xiàn)圈10與脈沖電源11連接的接線(xiàn)端子8。
[0015]脈沖電源11為電磁線(xiàn)圈10提供脈沖電流，使磁性元件產(chǎn)生脈沖磁場(chǎng)，作用于靶塊2的靶面，在引弧機(jī)構(gòu)I作用下使弧斑的運(yùn)動(dòng)軌跡既包含穩(wěn)定分量又包含動(dòng)態(tài)隨機(jī)分量，從而使靶塊2刻蝕更均勻，發(fā)射的離子更均勻細(xì)密，蒸發(fā)源的性能更穩(wěn)定可靠，從而提高蒸發(fā)源的鍍膜質(zhì)量。
[0016]電磁屏蔽套7的作用是屏蔽電磁磁場(chǎng)，防止對(duì)外圍電器和傳感元件的干擾；冷卻水套4作用是防止電磁線(xiàn)圈10過(guò)熱損壞，保證磁性元件正常工作。
【權(quán)利要求】
1.一種脈沖磁場(chǎng)電弧蒸發(fā)源，包括引弧機(jī)構(gòu)、靶塊、水冷靶座、磁性元件，其特征在于，所述磁性元件包括電磁線(xiàn)圈和磁軛，電磁線(xiàn)圈由脈沖電源供電，產(chǎn)生脈沖磁場(chǎng)，磁性元件設(shè)置有電磁屏蔽套，磁性元件與水冷靶座之間設(shè)置有冷卻水套。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脈沖磁場(chǎng)電弧蒸發(fā)源，其特征在于，所述磁性元件通過(guò)其外套體裝配在水冷靶座內(nèi)，所外套體與水冷靶座內(nèi)壁之間構(gòu)成與冷卻水管連接的冷卻水套。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脈沖磁場(chǎng)電弧蒸發(fā)源，其特征在于，所述電磁屏蔽套與水冷靶座外端通過(guò)法蘭結(jié)構(gòu)連接，電磁屏蔽套上設(shè)置有電磁線(xiàn)圈與脈沖電源連接的接線(xiàn)端子。
【文檔編號(hào)】C23C14/32GK203668500SQ201420030254
【公開(kāi)日】2014年6月25日 申請(qǐng)日期:2014年1月19日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月19日
【發(fā)明者】李飛, 李蘭民 申請(qǐng)人:遵化市超越鈦金設(shè)備有限公司