一種釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法，其特征在于，包括以下步驟：將保護性氣體經由噴嘴射入，對釹鐵硼磁體原料進行氣流磨，得到釹鐵硼磁體粉粒；再將上述步驟得到的釹鐵硼磁體粉粒經過分級輪篩選后，得到釹鐵硼磁體粉體；所述噴嘴包括主噴嘴和副噴嘴；所述主噴嘴的壓力為0.30～0.50MPa，所述副噴嘴的壓力為0.10～0.50MPa；所述分級輪的轉速為2000～6000rpm。本發(fā)明通過控制不同的研磨氣體壓力，并同時相應的調節(jié)分級輪的轉速，從而降低了釹鐵硼磁體粒度分布的D90/D10值，優(yōu)化粒度分布的一致性，進一步提高了產品磁性能。
【專利說明】一種釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法

【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬于磁體制備【技術領域】，尤其涉及一種釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法。

【背景技術】
[0002]磁體是能夠產生磁場的物質，具有吸引鐵磁性物質如鐵、鎳、鈷等金屬的特性。磁體一般分為永磁體和軟磁體，作為導磁體和電磁體的材料大都是軟磁體，其極性是隨所加磁場極性而變化的；而永磁體即硬磁體，能夠長期保持其磁性的磁體，不易失磁，也不易被磁化。因而，無論是在工業(yè)生產還是在日常生活中，硬磁體最常用的強力材料之一。
[0003]硬磁體可以分為天然磁體和人造磁體，人造磁鐵是指通過合成不同材料的合金可以達到與天然磁體(吸鐵石)相同的效果，而且還可以提高磁力。早在18世紀就出現了人造磁體，但制造更強磁性材料的過程卻十分緩慢，直到20世紀30年代制造出鋁鎳鈷磁體(AlNiCo)，才使磁體的大規(guī)模應用成為可能。隨后，20世紀50年代制造出了鐵氧體(Ferrite)，60年代，稀土永磁的出現，則為磁體的應用開辟了一個新時代，第一代釤鈷永磁SmCo5,第二代沉淀硬化型釤鈷永磁Sm2Co17,迄今為止，發(fā)展到第三代釹鐵硼永磁材料(NdFeB)。雖然目前鐵氧體磁體仍然是用量最大的永磁材料，但釹鐵硼磁體的產值已大大超過鐵氧體永磁材料，已發(fā)展成一大產業(yè)。
[0004]釹鐵硼磁體也稱為釹磁體(Neodymium magnet),其化學式為Nd2Fe14B,是一種人造的永久磁體，也是目前為止具有最強磁力的永久磁體，其最大磁能積(BHmax)高過鐵氧體10倍以上，在裸磁的狀態(tài)下，其磁力可達到3500高斯左右。釹鐵硼磁體的優(yōu)點是性價比高，體積小、重量輕、良好的機械特性和磁性強等特點,如此高能量密度的優(yōu)點使釹鐵硼永磁材料在現代工業(yè)和電子技術中獲得了廣泛的應用，在磁學界被譽為磁王。因而，釹鐵硼磁體的制備和擴展一直是業(yè)內持續(xù)關注的焦點。
[0005]整個燒結釹鐵硼的制備工藝屬于粉末冶金工藝，氣流磨制粉過程是這個過程中的關鍵之處。氣流磨制粉是利用高壓氣流將粉末顆粒加速到超音速使之相互對撞而破碎。而在氣流磨制粉過程中由于大塊物體的不均勻性或破碎時受力的不均勻性，可產生出一大堆釹鐵硼粉體。這一大堆粉末顆粒的形狀和尺寸會存在多樣性，是具有不同顆粒形狀和尺寸的集合體。通常領域內，會采用數據統計方法做出粒度分布曲線來表征粉末粒度分布的情況，而這其中的D90/D10值可以反映分布曲線的寬窄，從而達到對粉末粒度分布寬窄的監(jiān)控，D90/D10值越小，粉末的粒度分布區(qū)間越窄，粉末一致性越好，產品磁性能也會越好。
[0006]因此，如何更好的控制燒結釹鐵硼磁體的粒度分布D90與DlO的比值，進而提高燒結釹鐵硼磁體的性能，是釹鐵硼磁體生產廠家普遍關心的問題。


【發(fā)明內容】

[0007]有鑒于此，本發(fā)明要解決的技術問題在于提供一種釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法，使用本發(fā)明提供的方法，能夠得到較小的釹鐵硼磁體的粒度分布D90與DlO的比值。
[0008]本發(fā)明提供了一種釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法，其特征在于，包括以下步驟:
[0009]a)將保護性氣體經由噴嘴射入，對釹鐵硼磁體原料進行氣流磨，得到釹鐵硼磁體粉粒；
[0010]b)將上述步驟得到的釹鐵硼磁體粉粒經過分級輪篩選后，得到釹鐵硼磁體粉體；
[0011]所述噴嘴包括主噴嘴和副噴嘴；
[0012]所述主噴嘴的壓力為0.30?0.50MPa，所述副噴嘴的壓力為0.10?0.50MPa ；
[0013]所述分級輪的轉速為2000?6000rpm。
[0014]優(yōu)選的，所述釹鐵硼磁體粉體的粒度為小于等于13.0?15.0 μ m。
[0015]優(yōu)選的，所述步驟b)之后，還包括:
[0016]c)將步驟b)得到的釹鐵硼磁體粉體進行再次篩選后，得到釹鐵硼磁體粉末；
[0017]所述釹鐵硼磁體粉末的平均粒度為2.5?4.0 μ m。
[0018]優(yōu)選的，所述釹鐵硼磁體粉末的粒度分布D90與粒度分布DlO的比值小于等于
4.5。
[0019]優(yōu)選的，所述篩選后，粒度大于13.0?15.0 μ m的釹鐵硼磁體粉粒，再次進行氣流磨。
[0020]優(yōu)選的，所述保護性氣體為氮氣和/或惰性氣體。
[0021]優(yōu)選的，所述噴嘴為拉瓦爾噴嘴，所述主噴嘴的個數大于等于3個，所述副噴嘴的個數大于等于I個。
[0022]優(yōu)選的，所述釹鐵硼磁體原料為經過熔煉、氫破碎和機械破碎后的釹鐵硼粗粉。
[0023]優(yōu)選的，所述氣流磨粉的設備為流化床式氣流磨。
[0024]優(yōu)選的，所述釹鐵硼磁體原料,按質量百分比組成包括:Pr_Nd:28%?33% ；Dy:
O?10% ；Tb:0 ?10% ；Nb:0 ?5% ；A1:0 ?1% ;B:0.5%?2.0% ；Cu:0 ?1% ;Co:0 ?3% ；Ga:0 ?2% ；Gd:0 ?2% ；Ho:0 ?2% ；Zr:0 ?2% ;余量為 Fe。
[0025]本發(fā)明提供了一種釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法，本發(fā)明首先將保護性氣體經由噴嘴射入，對釹鐵硼磁體原料進行氣流磨，得到釹鐵硼磁體粉粒；然后將上述步驟得到的釹鐵硼磁體粉粒經過分級輪篩選后，得到釹鐵硼磁體粉體。與現有技術相比，本發(fā)明通過控制不同的研磨氣體壓力，并同時相應的調節(jié)分級輪的轉速，從而降低了釹鐵硼磁體粒度分布的D90/D10值，優(yōu)化粒度分布的一致性，進一步提高了產品磁性能。實驗結果表明，使用本發(fā)明提供的釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法，當主噴嘴壓力為0.45MPa，底噴嘴壓力為0.3MPa時，采用4100rpm的分級輪轉速，最終得到的釹鐵硼磁體粉末的D90/D10值為4.4。

【具體實施方式】
[0026]為了進一步理解本發(fā)明，下面結合實施例對本發(fā)明優(yōu)選實施方案進行描述，但是應當理解，這些描述只是為了進一步說明本發(fā)明的特征和優(yōu)點，而不是對發(fā)明權利要求的限制。
[0027]本發(fā)明所有原料，對其來源沒有特別限制，在市場上購買的或按照本領域技術人員熟知的常規(guī)方法制備的即可；本發(fā)明所有原料，對其純度沒有特別限制，本發(fā)明優(yōu)選采用分析純。
[0028]本發(fā)明提供了一種釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法，其特征在于，包括以下步驟:
[0029]a)將保護性氣體經由噴嘴射入，對釹鐵硼磁體原料進行氣流磨，得到釹鐵硼磁體粉粒；
[0030]b)將上述步驟得到的釹鐵硼磁體粉粒經過分級輪篩選后，得到釹鐵硼磁體粉體；所述噴嘴包括主噴嘴和副噴嘴；所述主噴嘴的壓力為0.30?0.50MPa，所述副噴嘴的壓力為0.10?0.50MPa ;所述分級輪的轉速為2000?6000rpm。
[0031]本發(fā)明通過控制不同的研磨氣體壓力，并同時相應的調節(jié)分級輪的轉速，從而降低了釹鐵硼磁體粒度分布的D90/D10值，優(yōu)化粒度分布的一致性，進一步提高了產品磁性倉泛。
[0032]本發(fā)明為保證釹鐵硼磁體的氣流磨粉的穩(wěn)定性和高效性，優(yōu)選在所述釹鐵硼磁體的氣流磨粉之前，對釹鐵硼磁體原料進行提前破碎處理，本發(fā)明對所述破碎處理沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的對釹鐵硼磁體原料的破碎處理過程即可，本發(fā)明優(yōu)選按照以下步驟進行，將釹鐵硼磁體混合料經過熔煉、氫破碎和機械破碎后，得到釹鐵硼粗粉，作為氣流磨粉的釹鐵硼磁體原料。本發(fā)明所述釹鐵硼磁體，即是燒結釹鐵硼磁體。本發(fā)明對所述釹鐵硼磁體混合料沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的釹鐵硼磁體混合料即可；本發(fā)明對所述熔煉的過程沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的釹鐵硼磁體熔煉過程即可；本發(fā)明對所述熔煉的設備沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的釹鐵硼磁體熔煉設備即可；本發(fā)明對所述氫破碎的過程沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的釹鐵硼磁體氫破碎過程即可；本發(fā)明對所述氫破碎的設備沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的釹鐵硼磁體氫破碎設備即可；本發(fā)明對所述機械破碎的過程沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的釹鐵硼磁體機械破碎過程即可；本發(fā)明對所述機械破碎的設備沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的釹鐵硼磁體氫破碎設備即可。本發(fā)明對所述釹鐵硼磁體原料中各成分的來源沒有特別限定，以本領域技術人員熟知的方法制備或市售的即可；本發(fā)明對所述釹鐵硼磁體原料中各成分的純度沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的用于制備釹鐵硼磁體的純度即可，優(yōu)選為分析純。
[0033]本發(fā)明經過上述步驟，得到釹鐵硼磁體原料后，為保證最后得到的燒結釹鐵硼磁體的性能，優(yōu)選對釹鐵硼磁體原料的含量進行檢測，本發(fā)明對所述檢測的方法沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的釹鐵硼磁體原料檢測方法即可。
[0034]本發(fā)明對釹鐵硼磁體原料的含量沒有特別限制，優(yōu)選按質量百分比組成，包括Pr-Nd:28 % ?33 % ；Dy:0 ?10 % ；Tb:0 ?10 % ；Nb:0 ?5 % ;A1:0 ?I % ;B:0.5 % ?
2.0% ；Cu:0 ?1% ；Co:0 ?3% ；Ga:0 ?2% ；Gd:0 ?2% ；Ho:0 ?2% ；Zr:0 ?2% ;余量為Fe。所述Pr-Nd的質量百分比含量優(yōu)選為29 %?33 %，更優(yōu)選為29.5 %?32 %，最優(yōu)選為30%?31.2% ;所述Dy的質量百分比含量優(yōu)選為1.0 %?8.0 %，更優(yōu)選為3.0%?7.0%，最優(yōu)選為4.0%?6.0% ;所述Tb的質量百分比含量優(yōu)選為1.0%?8.0%，更優(yōu)選為3.0%?7.0%，最優(yōu)選為4.0%?6.0% ;所述Nb的質量百分比含量優(yōu)選為1.0%?4.0%，更優(yōu)選為1.5%?3.5%，最優(yōu)選為1.8%?3.2% ;所述Al的質量百分比含量優(yōu)選為0.2%?0.8%，更優(yōu)選為0.4%?0.5%，最優(yōu)選為0.42%?0.48%;所述B的質量百分比含量優(yōu)選為0.97%?1.5%，更優(yōu)選為0.98%?1.4%，更優(yōu)選為0.99%?1.2%，最優(yōu)選為1.0%?1.1% ;所述Cu的質量百分比含量優(yōu)選為0.1 %?0.8%，更優(yōu)選為0.3%?
0.7%,最優(yōu)選為0.4 %?0.6 %;所述Co的質量百分比含量優(yōu)選為0.5 %?2.0 %，更優(yōu)選為
0.?%?1.5%，最優(yōu)選為1.0%?1.2%;所述Ga的質量百分比含量優(yōu)選為0.3%?1.5%,更優(yōu)選為0.5%?1.2%，更優(yōu)選為0.7%?1.0%，最優(yōu)選為0.8%?0.9% ;所述Gd的質量百分比含量優(yōu)選為0.3%?1.5%，更優(yōu)選為0.5%?1.2%，更優(yōu)選為0.7%?1.0%，最優(yōu)選為0.8%?0.9%;所述Ho的質量百分比含量優(yōu)選為0.3%?1.5%，更優(yōu)選為0.5%?1.2%，更優(yōu)選為0.7%?1.0%，最優(yōu)選為0.8%?0.9% ;所述Zr的質量百分比含量優(yōu)選為0.3 %?1.5 %，更優(yōu)選為0.5 %?1.2 %，更優(yōu)選為0.7 %?1.0 %，最優(yōu)選為0.8 %?
0.9%。
[0035]本發(fā)明首先將保護性氣體經由噴嘴射入，對釹鐵硼磁體原料進行氣流磨，得到釹鐵硼磁體粉粒；所述保護性氣體優(yōu)選為氮氣和/或惰性氣體，更優(yōu)選為為氮氣或惰性氣體，最優(yōu)選為氮氣或氬氣；所述噴嘴優(yōu)選包括主噴嘴和副噴嘴；所述噴嘴優(yōu)選為拉瓦爾噴嘴，所述主噴嘴的個數優(yōu)選為大于等于3個，更優(yōu)選為3個，所述副噴嘴的個數優(yōu)選為大于等于I個，更優(yōu)選為I個；所述主噴嘴的壓力優(yōu)選為0.30?0.50MPa,更優(yōu)選為0.32?0.44MPa，更優(yōu)選為0.37?0.48MPa，最優(yōu)選為0.35?0.45MPa ;所述副噴嘴的壓力優(yōu)選為0.10?
0.50MPa,更優(yōu)選為0.20?0.30MPa,更優(yōu)選為0.30?0.40MPa,最優(yōu)選為0.25?0.35MPa。本發(fā)明對所述主噴嘴的口徑沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的用于釹鐵硼磁體氣流磨中的主噴嘴口徑即可，本發(fā)明所述主噴嘴孔徑優(yōu)選為10?15mm,更優(yōu)選為11?14mm,最優(yōu)選為12?13mm ;本發(fā)明對所述副噴嘴的口徑沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的用于釹鐵硼磁體氣流磨中的副噴嘴口徑即可，本發(fā)明所述副噴嘴孔徑優(yōu)選為13?18mm，更優(yōu)選為14?17mm,最優(yōu)選為15?16mm ;本發(fā)明對所述主噴嘴和副噴嘴沒有其他特別限制,在本發(fā)明中，基于生產實際情況，也可以對所述主噴嘴和副噴嘴選擇性開啟，本發(fā)明對選擇性開啟沒有特別限制，按照本領域技術人員生產實際情況和控制要求即可。
[0036]本發(fā)明將上述步驟得到的釹鐵硼磁體粉粒經過分級輪篩選后，得到釹鐵硼磁體粉體；所述釹鐵硼磁體粉體的粒度優(yōu)選為小于等于13.0?15.0 μ m，更優(yōu)選為小于等于13.5?14.5 μ m，最優(yōu)選為小于等于14.0 μ m ;所述分級輪的轉速優(yōu)選為2000?6000rpm，更優(yōu)選為3000?5000rpm，優(yōu)選為3500?4500rpm。
[0037]本發(fā)明對所述氣流磨的設備沒有其他特別限制，以本領域技術人員熟知的用于燒結釹鐵硼磁體原料的氣流磨的設備即可，本發(fā)明優(yōu)選為流化床式氣流磨，本發(fā)明優(yōu)選將釹鐵硼原料在研磨室進行氣流磨。本發(fā)明對所述釹鐵硼原料進行氣流磨的裝料量沒有特別限制，本領域技術人員可根據實際生產情況以及氣流磨設備進行調整，本發(fā)明優(yōu)選為20?100kg,更優(yōu)選為50?80kg。本發(fā)明對所述分級輪沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的用于燒結釹鐵硼磁體原料氣流磨粉過程中的分級輪即可，本發(fā)明優(yōu)選為流化床式氣流磨上的分級輪；本發(fā)明對所述分級輪的其他條件沒有其他特別限制，以本領域技術人員熟知的燒結釹鐵硼磁體原料的氣流磨時的分級輪條件即可。本發(fā)明對所述氣流磨的其他條件沒有其他特別限制，以本領域技術人員熟知的燒結釹鐵硼磁體原料的氣流磨條件即可。
[0038]本發(fā)明為提高燒結釹鐵硼磁體原料的利用率，降低生產成本，優(yōu)選將經過分級輪篩選后，粒度大于13.0?15.0 μ m的釹鐵硼磁體粉粒再次進入研磨室進行氣流磨，直到粒度符合標準后為止。
[0039]本發(fā)明經過上述步驟得到釹鐵硼磁體粉體后，為保證釹鐵硼磁體粉體的粒度能夠完全滿足燒結釹鐵硼磁體的性能要求，優(yōu)選將釹鐵硼磁體粉體進行再次篩選后，得到釹鐵硼磁體粉末；所述釹鐵硼磁體粉末的平均粒度優(yōu)選為2.5?4.0 μ m，更優(yōu)選為2.8?3.5 μ m,更優(yōu)選為3.0?3.8 μ m,最優(yōu)選為3.2?3.3 μ m ;本發(fā)明對所述平均粒度的計算方法沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的平均粒度的計算方法即可，本發(fā)明優(yōu)選為表面積平均粒度(SMD);本發(fā)明對所述平均粒度的檢測設備沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的平均粒度的檢測設備即可，本發(fā)明優(yōu)選為新帕泰克HELOS/BR-OM-ROOLOS激光粒度測試儀；本發(fā)明對所述再次篩選的其他條件沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的燒結釹鐵硼磁體的篩選條件即可；本發(fā)明對所述再次篩選的設備沒有特別限制，以本領域技術人員熟知的燒結釹鐵硼磁體的設備即可，本發(fā)明優(yōu)選采用旋風分離器進行再次篩選。
[0040]本發(fā)明經過上述再次篩選后，對再次篩選后的粒度不合格釹鐵硼磁體粉體，即粒度小于所述釹鐵硼磁體粉末的粒度的釹鐵硼磁體粉體流向過濾器，最終以超細粉的形式流出。
[0041]本發(fā)明對經過上述步驟后，最后得到的燒結釹鐵硼磁體粉末進行粒度分布檢測，所述釹鐵硼磁體粉末的粒度分布D90與粒度分布DlO的比值優(yōu)選為小于等于5.3，更優(yōu)選為小于等于4.6，最優(yōu)選為小于等于4.5。
[0042]本發(fā)明對所述燒結釹鐵硼磁體粉末進行粒度分布檢測，實驗結果表明，本發(fā)明制備得到的釹鐵硼磁體粉末的粒度分布D90/D10的比值為4.4。這表明本發(fā)明提供的氣流磨方法，得到的釹鐵硼磁體粉末的粒度分布區(qū)間較窄，優(yōu)化粒度分布的一致性，因而提高了后續(xù)得到的燒結釹鐵硼磁體產品的磁性能。
[0043]為了進一步理解本發(fā)明，下面結合實施例對本發(fā)明提供一種釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法進行詳細說明，本發(fā)明的保護范圍不受以下實施例的限制。
[0044]實施例1
[0045]首先按照質量百分比組成稱取，28.5wt%的Pr-Nd合金,4.5wt%的Dy, 0.5wt%的Al, 1.02wt%的B, 0.08wt%的Cu, 0.5wt%的Co以及余量的Fe,得到釹鐵硼磁體混合料。再將上述釹鐵硼磁體混合料經過熔煉鑄錠、氫破碎和機械破碎后，得到釹鐵硼磁體粗粉。
[0046]然后稱取300kg上述釹鐵硼磁體粗粉加入流化床式氣流磨的加料倉，檢查調整流化床式氣流磨的其他條件后，然后開啟保護性氣體，在0.45MPa的壓力下由口徑為12mm的主噴嘴射入研磨室，同時在0.30MPa的壓力下由口徑為15mm的副噴嘴射入研磨室，再將加料倉中的釹鐵硼磁體粗粉送入研磨室，研磨室中的釹鐵硼磁體粗粉量保持在50kg，對釹鐵硼磁體粗粉進行氣流磨，得到鐵硼磁體粉粒。
[0047]再將上述步驟得到的鐵硼磁體粉粒經過轉速為4100rpm分級輪篩選后，得到粒度小于等于15.0 μ m的釹鐵硼磁體粉體，粒度大于15.0 μ m的釹鐵硼磁體粉粒重新送入研磨室繼續(xù)研磨。
[0048]將上述小于等于15.0 μ m的釹鐵硼磁體粉體送入旋風分離器進行再次篩選后，最終得到平均粒度為2.5 μ m的釹鐵硼磁體粉末。同時，再次篩選后的粒度不合格釹鐵硼磁體粉體，即粒度小于所述釹鐵硼磁體粉末的粒度的釹鐵硼磁體粉體流向過濾器，最終以超細粉的形式流出。
[0049]對本發(fā)明上述步驟得到的釹鐵硼磁體粉末進行粒度分布檢測，釹鐵硼磁體粉末的粒度分布D90與粒度分布DlO的比值為4.4。
[0050]實施例2
[0051]首先按照質量百分比組成稱取，29.3wt%的Pr-Nd合金,3.0wt %的Dy, 0.2wt%的Al, 1.0wt%的B, 0.1wtMtJ Cu, 1.0wtMtJ Co以及余量的Fe,得到釹鐵硼磁體混合料。再將上述釹鐵硼磁體混合料經過甩帶鑄錠、氫破碎和機械破碎后，得到釹鐵硼磁體粗粉。
[0052]然后稱取400kg上述釹鐵硼磁體粗粉加入流化床式氣流磨的加料倉，檢查調整流化床式氣流磨的其他條件后，然后開啟保護性氣體，在0.45MPa的壓力下由口徑為12mm的主噴嘴射入研磨室，同時在0.30MPa的壓力下由口徑為15mm的副噴嘴射入研磨室，再將加料倉中的釹鐵硼磁體粗粉送入研磨室，研磨室中的釹鐵硼磁體粗粉量保持在53kg，對釹鐵硼磁體粗粉進行氣流磨，得到鐵硼磁體粉粒。
[0053]再將上述步驟得到的鐵硼磁體粉粒經過轉速為4600rpm分級輪篩選后，得到粒度小于等于13.0 μ m的釹鐵硼磁體粉體，粒度大于13.0 μ m的釹鐵硼磁體粉粒重新送入研磨室繼續(xù)研磨。
[0054]將上述小于等于13.0 μ m的釹鐵硼磁體粉體送入旋風分離器進行再次篩選后，最終得到平均粒度為4.0 μ m的釹鐵硼磁體粉末。同時，再次篩選后的粒度不合格釹鐵硼磁體粉體，即粒度小于所述釹鐵硼磁體粉末的粒度的釹鐵硼磁體粉體流向過濾器，最終以超細粉的形式流出。
[0055]對本發(fā)明上述步驟得到的釹鐵硼磁體粉末進行粒度分布檢測，釹鐵硼磁體粉末的粒度分布D90與粒度分布DlO的比值為4.42。
[0056]實施例3
[0057]首先按照質量百分比組成稱取，25.0wt %的Pr-Nd合金,6.0wt %的Dy, 0.45wt%的 Nb, 0.65wt% 的 Al, 1.04wt% 的 B, 0.06wt% 的 Cu, 0.25wt% 的 Co, 1.5wt% Gd 以及余量的Fe，得到釹鐵硼磁體混合料。再將上述釹鐵硼磁體混合料經過甩帶鑄錠、氫破碎和機械破碎后，得到釹鐵硼磁體粗粉。
[0058]然后稱取300kg上述釹鐵硼磁體粗粉加入流化床式氣流磨的加料倉，檢查調整流化床式氣流磨的其他條件后，然后開啟保護性氣體，在0.46MPa的壓力下由口徑為12mm的主噴嘴射入研磨室，同時在0.25MPa的壓力下由口徑為15mm的副噴嘴射入研磨室，再將加料倉中的釹鐵硼磁體粗粉送入研磨室，研磨室中的釹鐵硼磁體粗粉量保持在51kg，對釹鐵硼磁體粗粉進行氣流磨，得到鐵硼磁體粉粒。
[0059]再將上述步驟得到的鐵硼磁體粉粒經過轉速為4800rpm分級輪篩選后，得到粒度小于等于14.0 μ m的釹鐵硼磁體粉體，粒度大于14.0 μ m的釹鐵硼磁體粉粒重新送入研磨室繼續(xù)研磨。
[0060]將上述小于等于14.0 μ m的釹鐵硼磁體粉體送入旋風分離器進行再次篩選后，最終得到平均粒度為3.0 μ m的釹鐵硼磁體粉末。同時，再次篩選后的粒度不合格釹鐵硼磁體粉體，即粒度小于所述釹鐵硼磁體粉末的粒度的釹鐵硼磁體粉體流向過濾器，最終以超細粉的形式流出。
[0061]對本發(fā)明上述步驟得到的釹鐵硼磁體粉末進行粒度分布檢測，釹鐵硼磁體粉末的粒度分布D90與粒度分布DlO的比值為4.46。
[0062]實施例4
[0063]首先按照質量百分比組成稱取，32.5wt%的Pr-Nd合金,0.06wt%的Nb, 0.42wt%的Al, 1.0wt%的B, 0.1wt%的Cu, 1.0wt%的Co, 0.06wt% Zr以及余量的Fe,得到釹鐵硼磁體混合料。再將上述釹鐵硼磁體混合料經過甩帶鑄錠、氫破碎和機械破碎后，得到釹鐵硼磁體粗粉。
[0064]然后稱取350kg上述釹鐵硼磁體粗粉加入流化床式氣流磨的加料倉，檢查調整流化床式氣流磨的其他條件后，然后開啟保護性氣體，在0.45MPa的壓力下由口徑為12mm的主噴嘴射入研磨室，同時在0.30MPa的壓力下由口徑為15mm的副噴嘴射入研磨室，再將加料倉中的釹鐵硼磁體粗粉送入研磨室，研磨室中的釹鐵硼磁體粗粉量保持在47kg，對釹鐵硼磁體粗粉進行氣流磨，得到鐵硼磁體粉粒。
[0065]再將上述步驟得到的鐵硼磁體粉粒經過轉速為4500rpm分級輪篩選后，得到粒度小于等于13.5 μ m的釹鐵硼磁體粉體，粒度大于13.5 μ m的釹鐵硼磁體粉粒重新送入研磨室繼續(xù)研磨。
[0066]將上述小于等于13.5 μ m的釹鐵硼磁體粉體送入旋風分離器進行再次篩選后，最終得到平均粒度為3.3 μ m的釹鐵硼磁體粉末。同時，再次篩選后的粒度不合格釹鐵硼磁體粉體，即粒度小于所述釹鐵硼磁體粉末的粒度的釹鐵硼磁體粉體流向過濾器，最終以超細粉的形式流出。
[0067]對本發(fā)明上述步驟得到的釹鐵硼磁體粉末進行粒度分布檢測，釹鐵硼磁體粉末的粒度分布D90與粒度分布DlO的比值為4.41。
[0068]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本【技術領域】的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本發(fā)明的保護范圍。
【權利要求】
1.一種釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法，其特征在于，包括以下步驟: a)將保護性氣體經由噴嘴射入，對釹鐵硼磁體原料進行氣流磨，得到釹鐵硼磁體粉粒; b)將上述步驟得到的釹鐵硼磁體粉粒經過分級輪篩選后，得到釹鐵硼磁體粉體； 所述噴嘴包括主噴嘴和副噴嘴； 所述主噴嘴的壓力為0.30?0.50MPa，所述副噴嘴的壓力為0.10?0.50MPa ； 所述分級輪的轉速為2000?6000rpm。
2.根據權利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述釹鐵硼磁體粉體的粒度為小于等于13.0?15.0 μ m。
3.根據權利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述步驟b)之后，還包括: c)將步驟b)得到的釹鐵硼磁體粉體進行再次篩選后，得到釹鐵硼磁體粉末； 所述釹鐵硼磁體粉末的平均粒度為2.5?4.0 μ m。
4.根據權利要求3所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述釹鐵硼磁體粉末的粒度分布D90與粒度分布DlO的比值小于等于4.5。
5.根據權利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述篩選后，粒度大于13.0?15.0 μ m的釹鐵硼磁體粉粒，再次進行氣流磨。
6.根據權利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述保護性氣體為氮氣和/或惰性氣體。
7.根據權利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述噴嘴為拉瓦爾噴嘴，所述主噴嘴的個數大于等于3個，所述副噴嘴的個數大于等于I個。
8.根據權利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述釹鐵硼磁體原料為經過熔煉、氫破碎和機械破碎后的釹鐵硼粗粉。
9.根據權利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述氣流磨粉的設備為流化床式氣流磨。
10.根據權利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述釹鐵硼磁體原料，按質量百分比組成包括:Pr-Nd:28%?33% ；Dy:0 ?10% ；Tb:0 ?10% ；Nb:0 ?5% ；A1:0 ?1% ；B:0.5%?2.0% ；Cu:0 ?1% ；Co:0 ?3% ；Ga:0 ?2% ；Gd:0 ?2% ；Ho:0 ?2% ;Zr:0?2% ;余量為Fe。
【文檔編號】B22F9/04GK104174857SQ201410447239
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年9月3日 優(yōu)先權日:2014年9月3日
【發(fā)明者】王松 申請人:北京京磁強磁材料有限公司