一種超聲波化學鍍裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種超聲波化學鍍裝置，包括超聲波發(fā)生器（1）、鍍件（2）、燒杯（3）、燒杯蓋（4）、掛桿（5）、攪拌機（6）、鐵夾（7）、鐵架臺（8）、溫度計（9）和位于超聲波發(fā)生器的右下角的取樣口（10），攪拌機（6）和用掛桿（5）懸掛的鍍件（2）置于裝有鍍液的燒杯（3）中。本超聲波化學鍍裝置，采用新的能量輸入方式，能耗小，所制得的鍍層覆蓋連續(xù)均勻、孔隙率低且鍍層與基體的結合力良好。
【專利說明】一種超聲波化學鍍裝置

【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及超聲波化學鍍裝置，屬于化工【技術領域】。

【背景技術】
[0002] 鍍層和基體的結合力是衡量鍍層質(zhì)量的重要指標之一。目前，一般化學鍍工藝使 用的化學鍍裝置中，能量的輸入方式主要為恒溫水浴加熱或者是電加熱，主要存在以下缺 點：一是傳統(tǒng)的加熱方式時化學鍍所需要的溫度都在80_85°C以上才能進行反應，能量消 耗大，鍍液蒸發(fā)快，且鍍液的穩(wěn)定性差易發(fā)生分解造成鍍液的浪費；二是因為所需化學鍍反 應溫度較高，待鍍材質(zhì)受到限制，且在反應過程中還容易沉積到化學鍍槽壁上，造成鍍液的 浪費。上述傳統(tǒng)加熱方式的化學鍍存在的問題，會使所得的鍍層表面粗糙、不均勻，鍍層與 基體的結合力差。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 針對上述現(xiàn)有技術存在的問題，本發(fā)明提供一種采用新的能量輸入方式、能耗小 的超聲波化學鍍裝置。
[0004] 為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術方案是：一種超聲波化學鍍裝置，包括超聲 波發(fā)生器、鍍件、燒杯、燒杯蓋、掛桿、攪拌機、鐵夾、鐵架臺、溫度計和位于超聲波發(fā)生器的 右下角的取樣口，攪拌機和用掛桿懸掛的鍍件置于裝有鍍液的燒杯中。
[0005] 進一步的，所述超聲波發(fā)生器為可控溫的超聲波發(fā)生器。
[0006] 進一步的，所述超聲波化學鍍裝置適合于溫度為50_60°C的化學鍍。
[0007] 本發(fā)明的有益效果是：本超聲波化學鍍裝置，采用新的能量輸入方式，能耗小，所 制得的鍍層覆蓋連續(xù)均勻、孔隙率低且鍍層與基體的結合力良好。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008] 圖1為本發(fā)明的結構示意圖。
[0009] 圖中：1、超聲波發(fā)生器，2、鍍件，3、燒杯，4、燒杯蓋，5、掛桿，6、攪拌機，7、鐵夾，8、 鐵架臺，9、溫度計，10、取樣口。

【具體實施方式】
[0010] 下面結合附圖對本發(fā)明作進一步說明。
[0011] 如圖1所示，本超聲波化學鍍裝置，包括超聲波發(fā)生器1、鍍件2、燒杯3、燒杯蓋4、 掛桿5、攪拌機6、鐵夾7、鐵架臺8、溫度計9和位于超聲波發(fā)生器的右下角的取樣口 10,攪 拌機6和用掛桿5懸掛的鍍件2置于裝有鍍液的燒杯3中，化學鍍過程中，超聲波發(fā)生器 1產(chǎn)生高頻聲波，提供了化學鍍所需要的能量，且由于超聲波的空化效應，會使得燒杯3中 的鍍液發(fā)生斷裂產(chǎn)生微泡，微小泡核在聲波的作用下被激活，迅速的生長、閉合，并且各微 泡之間發(fā)生猛烈的撞擊起到良好的攪拌作用，瞬態(tài)空化發(fā)生時伴隨著高溫高壓，在空化處 形成局部熱點，使得熱點處鍍液中的水分子裂解成自由基，自由基具有很強的化學活性，提 高了鍍液液中的還原性能，加速了鍍件表面待鍍金屬離子的吸附，提高了化學鍍速度；由于 微泡之間發(fā)生猛烈的撞擊能起到良好的攪拌作用，使得制得的鍍層表面覆蓋的更加連續(xù)均 勻、鍍層與基體的結合力增強，耐腐蝕性能增大，有利的保證了化學鍍層的質(zhì)量。
[0012] 超聲波發(fā)生器為可控溫的超聲波發(fā)生器，能夠保證化學鍍過程中溫度的控制，使 得施鍍過程中溫度上下波動小，進一步提高鍍層與基體的結合力，保證鍍層質(zhì)量。
[0013] 超聲波的加入代替了傳統(tǒng)的恒溫水浴加熱，超聲波產(chǎn)生的瞬間高溫高壓，提供了 化學鍍所需的能量，實現(xiàn)了溫度為50-60°C的化學鍍工藝。
【權利要求】
1. 一種超聲波化學鍍裝置，其特征在于，包括超聲波發(fā)生器（1 )、鍍件（2)、燒杯（3)、燒 杯蓋（4)、掛桿（5)、攪拌機（6)、鐵夾（7)、鐵架臺（8)、溫度計（9)和位于超聲波發(fā)生器的右 下角的取樣口（10)，攪拌機（6)和用掛桿（5)懸掛的鍍件（2)置于裝有鍍液的燒杯（3)中。
2. 根據(jù)權利要求1所述的一種超聲波化學鍍裝置，其特征在于，所述超聲波發(fā)生器（1) 為可控溫的超聲波發(fā)生器。
3. 根據(jù)權利要求1或2所述的一種超聲波化學鍍裝置，其特征在于，所述超聲波化學鍍 裝置適合于溫度為50-60°C的化學鍍。
【文檔編號】C23C18/16GK104141118SQ201410359387
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年7月28日 優(yōu)先權日:2014年7月28日
【發(fā)明者】呂禮軍 申請人:呂禮軍