對電機定子鐵芯表面進行納米薄膜涂覆方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種涂覆方法，尤其涉及一種對電機定子鐵芯表面進行納米薄膜涂覆方法，用于電機的定子鐵芯。按以下步驟進行：對二甲苯熱汽化→對二甲苯裂解→沉積聚合成薄膜→薄膜涂覆→檢測。一種對電機定子鐵芯表面進行納米薄膜涂覆方法，提高生產(chǎn)效率，提升產(chǎn)品質(zhì)量。
【專利說明】對電機定子鐵芯表面進行納米薄膜涂覆方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種涂覆方法，尤其涉及一種對電機定子鐵芯表面進行納米薄膜涂覆 方法，用于電機的定子鐵芯。

【背景技術(shù)】
[0002] 目前現(xiàn)有技術(shù)中，一般采用浸絕緣漆的方式來處理電機定子鐵芯以防止電機定子 的銹蝕，此種方法容易產(chǎn)生絕緣漆厚度不均，容易產(chǎn)生死角，切口位置容易銹蝕，不能很好 地保證電機定子鐵芯的防銹蝕能力，特別對于衛(wèi)生間用的浴霸，換氣扇類的產(chǎn)品所用電機， 對防潮能力和防銹蝕能力有比較高的要求。
[0003]


【發(fā)明內(nèi)容】
本發(fā)明主要是解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，提供一種提高定子品質(zhì)，操作簡便的對電 機定子鐵芯表面進行納米薄膜涂覆方法。
[0004] 本發(fā)明的上述技術(shù)問題主要是通過下述技術(shù)方案得以解決的： 一種對電機定子鐵芯表面進行納米薄膜涂覆方法，按以下步驟進行： (1) 、對二甲苯熱汽化： 在設(shè)備材料室一區(qū)內(nèi)的真空條件下，在溫度為120-150°C的環(huán)境中，將固態(tài)粉末狀的對 二甲苯的二聚物加熱汽化； (2) 、對二甲苯裂解： 在設(shè)備的材料室二區(qū)內(nèi)真空環(huán)境下，在溫度為650°C的環(huán)境下，氣化狀的對二甲苯的二 聚物，裂解為對二甲苯的活性單體； (3) 、沉積聚合成薄膜： 在設(shè)備的沉積室內(nèi)，氣態(tài)活性單體在室溫下沉積并聚合成聚對二甲苯的薄膜； (4) 、薄膜涂覆： 采用K750氣相沉積系統(tǒng)設(shè)備，該設(shè)備采用三相/AC 220V/30A的電力，使用數(shù)位LED 真空機顯示終極及工作真空度，沉降室容積705X680Hmm，高溫降解爐的功率為2000W，排 氣速度為干式1600L/min，油式1000 L/min，冷卻水需求為流量3-7L/min，壓力為2-4kg/ cm--，溫度為18-30°C，氮氣N2需求：壓力為0. 5-lkg/cm--，稀釋流量0-60 L/min，密封流 量為0-20 L/min，對二甲苯以活性分子在真空的條件下，真空度5X10 _ --Torr，以氣相沉 積的方式于電機定子表面聚合一層完全披覆的薄膜，可涂裝在任何形狀的表面，且不產(chǎn)生 死角，包括尖銳的棱角，縫隙內(nèi)部與極細微的針孔中，膜厚可一致性的披覆在產(chǎn)品的任何部 位，薄膜厚度為0. 〇〇lmm-〇. 05mm，厚度均勻，致密無針孔，透明無應(yīng)力，不含助劑，不損工件， 有優(yōu)異的電絕緣性和防護性； (5) 、檢測： 掃描電子顯微鏡能得到高質(zhì)量的圖像和分析結(jié)果；能譜儀能快速、同時對各種試樣 的微區(qū)內(nèi)Be-U的所有元素，元素定性、定量分析，即可完成，對試樣與探測器的幾何位置 要求低，可以在低倍率下獲得X射線掃描、面分布結(jié)果，能譜所需探針電流小，檢測限為 0. l%-0. 5%，中等原子序數(shù)的無重疊峰主元素的定量相誤差為2%。
[0005] 優(yōu)點： 1.具有極高的絕緣強度。
[0006] 2.極高的體積電阻率和表面電阻率。
[0007] 3.絕緣性能不會受環(huán)境溫，濕度的影響。
[0008] 4.介電常數(shù)和介電損耗均非常低且不受潮氣的影響。
[0009] 因此，本發(fā)明的對電機定子鐵芯表面進行納米薄膜涂覆方法，提高生產(chǎn)效率，提升 產(chǎn)品質(zhì)量。

【具體實施方式】
[0010] 下面通過實施例，對本發(fā)明的技術(shù)方案作進一步具體的說明。
[0011] 實施例1 : 一種對電機定子鐵芯表面進行納米薄膜涂覆方法，按以下步驟進行： (1) 、對二甲苯熱汽化： 在設(shè)備材料室一區(qū)內(nèi)的真空條件下，在溫度為120°c的環(huán)境中，將固態(tài)粉末狀的對二甲 苯的二聚物加熱汽化； (2) 、對二甲苯裂解： 在設(shè)備的材料室二區(qū)內(nèi)真空環(huán)境下，在溫度為650°C的環(huán)境下，氣化狀的對二甲苯的二 聚物，裂解為對二甲苯的活性單體； (3) 、沉積聚合成薄膜： 在設(shè)備的沉積室內(nèi)，氣態(tài)活性單體在室溫下沉積并聚合成聚對二甲苯的薄膜； (4) 、薄膜涂覆： 采用K750氣相沉積系統(tǒng)設(shè)備，該設(shè)備采用三相/AC 220V/30A的電力，使用數(shù)位LED 真空機顯示終極及工作真空度，沉降室容積705X680Hmm，高溫降解爐的功率為2000W，排 氣速度為干式1600L/min，油式1000 L/min，冷卻水需求為流量3-7L/min，壓力為2-4kg/ cm--，溫度為18-30°C，氮氣N2需求：壓力為0. 5kg/cm--，稀釋流量0 L/min，密封流量為0 L/min，對二甲苯以活性分子在真空的條件下，真空度5X 10 _ --Torr，以氣相沉積的方式于 電機定子表面聚合一層完全披覆的薄膜，可涂裝在任何形狀的表面，且不產(chǎn)生死角，包括尖 銳的棱角，縫隙內(nèi)部與極細微的針孔中，膜厚可一致性的披覆在產(chǎn)品的任何部位，薄膜厚度 為0. 001mm，厚度均勻，致密無針孔，透明無應(yīng)力，不含助劑，不損工件，有優(yōu)異的電絕緣性和 防護性； (5) 、檢測： 掃描電子顯微鏡能得到高質(zhì)量的圖像和分析結(jié)果；能譜儀能快速、同時對各種試樣的 微區(qū)內(nèi)Be-U的所有元素，元素定性、定量分析，即可完成，對試樣與探測器的幾何位置要求 低，可以在低倍率下獲得X射線掃描、面分布結(jié)果，能譜所需探針電流小，檢測限為〇. 1%，中 等原子序數(shù)的無重疊峰主元素的定量相誤差為2%。
[0012] 實施例2 :-種對電機定子鐵芯表面進行納米薄膜涂覆方法，按以下步驟進行： (1)、對二甲苯熱汽化： 在設(shè)備材料室一區(qū)內(nèi)的真空條件下，在溫度為140°c的環(huán)境中，將固態(tài)粉末狀的對二甲 苯的二聚物加熱汽化； (2) 、對二甲苯裂解： 在設(shè)備的材料室二區(qū)內(nèi)真空環(huán)境下，在溫度為650°C的環(huán)境下，氣化狀的對二甲苯的二 聚物，裂解為對二甲苯的活性單體； (3) 、沉積聚合成薄膜： 在設(shè)備的沉積室內(nèi)，氣態(tài)活性單體在室溫下沉積并聚合成聚對二甲苯的薄膜； (4) 、薄膜涂覆： 采用K750氣相沉積系統(tǒng)設(shè)備，該設(shè)備采用三相/AC 220V/30A的電力，使用數(shù)位LED 真空機顯示終極及工作真空度，沉降室容積705X680Hmm，高溫降解爐的功率為2000W，排 氣速度為干式1600L/min，油式1000 L/min，冷卻水需求為流量3-7L/min，壓力為2-4kg/ cm--，溫度為18-30°C，氮氣N2需求：壓力為0. 8kg/cm--，稀釋流量30 L/min，密封流量為 10 L/min，對二甲苯以活性分子在真空的條件下，真空度5X10 _ --Torr，以氣相沉積的方 式于電機定子表面聚合一層完全披覆的薄膜，可涂裝在任何形狀的表面，且不產(chǎn)生死角，包 括尖銳的棱角，縫隙內(nèi)部與極細微的針孔中，膜厚可一致性的披覆在產(chǎn)品的任何部位，薄膜 厚度為0. 03mm，厚度均勻，致密無針孔，透明無應(yīng)力，不含助劑，不損工件，有優(yōu)異的電絕緣 性和防護性； (5) 、檢測： 掃描電子顯微鏡能得到高質(zhì)量的圖像和分析結(jié)果；能譜儀能快速、同時對各種試樣的 微區(qū)內(nèi)Be-U的所有元素，元素定性、定量分析，即可完成，對試樣與探測器的幾何位置要求 低，可以在低倍率下獲得X射線掃描、面分布結(jié)果，能譜所需探針電流小，檢測限為0. 3%，中 等原子序數(shù)的無重疊峰主元素的定量相誤差為2%。
[0013] 實施例3 :-種對電機定子鐵芯表面進行納米薄膜涂覆方法，按以下步驟進行： (1) 、對二甲苯熱汽化： 在設(shè)備材料室一區(qū)內(nèi)的真空條件下，在溫度為150°c的環(huán)境中，將固態(tài)粉末狀的對二甲 苯的二聚物加熱汽化； (2) 、對二甲苯裂解： 在設(shè)備的材料室二區(qū)內(nèi)真空環(huán)境下，在溫度為650°C的環(huán)境下，氣化狀的對二甲苯的二 聚物，裂解為對二甲苯的活性單體； (3) 、沉積聚合成薄膜： 在設(shè)備的沉積室內(nèi)，氣態(tài)活性單體在室溫下沉積并聚合成聚對二甲苯的薄膜； (4) 、薄膜涂覆： 采用K750氣相沉積系統(tǒng)設(shè)備，該設(shè)備采用三相/AC 220V/30A的電力，使用數(shù)位LED 真空機顯示終極及工作真空度，沉降室容積705X680Hmm，高溫降解爐的功率為2000W，排 氣速度為干式1600L/min，油式1000 L/min，冷卻水需求為流量3-7L/min，壓力為2-4kg/ cm--，溫度為18-30°C，氮氣N2需求：壓力為lkg/cm--，稀釋流量60 L/min，密封流量為20 L/min，對二甲苯以活性分子在真空的條件下，真空度5X 10 _ --Torr，以氣相沉積的方式于 電機定子表面聚合一層完全披覆的薄膜，可涂裝在任何形狀的表面，且不產(chǎn)生死角，包括尖 銳的棱角，縫隙內(nèi)部與極細微的針孔中，膜厚可一致性的披覆在產(chǎn)品的任何部位，薄膜厚度 為0.05mm，厚度均勻，致密無針孔，透明無應(yīng)力，不含助劑，不損工件，有優(yōu)異的電絕緣性和 防護性；
【權(quán)利要求】
1. 一種對電機定子鐵芯表面進行納米薄膜涂覆方法，其特征在于按以下步驟進行： (1) 、對二甲苯熱汽化： 在設(shè)備材料室一區(qū)內(nèi)的真空條件下，在溫度為120-150°C的環(huán)境中，將固態(tài)粉末狀的對 二甲苯的二聚物加熱汽化； (2) 、對二甲苯裂解： 在設(shè)備的材料室二區(qū)內(nèi)真空環(huán)境下，在溫度為650°C的環(huán)境下，氣化狀的對二甲苯的二 聚物，裂解為對二甲苯的活性單體； (3) 、沉積聚合成薄膜： 在設(shè)備的沉積室內(nèi)，氣態(tài)活性單體在室溫下沉積并聚合成聚對二甲苯的薄膜； (4) 、薄膜涂覆： 采用K750氣相沉積系統(tǒng)設(shè)備，該設(shè)備采用三相/AC 220V/30A的電力，使用數(shù)位LED 真空機顯示終極及工作真空度，沉降室容積705X680Hmm，高溫降解爐的功率為2000W，排 氣速度為干式1600L/min，油式1000 L/min，冷卻水需求為流量3-7L/min，壓力為2-4kg/ cm--，溫度為18-30°C，氮氣N2需求：壓力為0. 5-lkg/cm--，稀釋流量0-60 L/min，密封流 量為0-20 L/min，對二甲苯以活性分子在真空的條件下，真空度5X 10 _ --Torr，以氣相沉 積的方式于電機定子表面聚合一層完全披覆的薄膜，可涂裝在任何形狀的表面，且不產(chǎn)生 死角，包括尖銳的棱角，縫隙內(nèi)部與極細微的針孔中，膜厚可一致性的披覆在產(chǎn)品的任何部 位，薄膜厚度為0. 〇〇lmm-〇. 05mm，厚度均勻，致密無針孔，透明無應(yīng)力，不含助劑，不損工件， 有優(yōu)異的電絕緣性和防護性； (5) 、檢測： 掃描電子顯微鏡能得到高質(zhì)量的圖像和分析結(jié)果；能譜儀能快速、同時對各種試樣 的微區(qū)內(nèi)Be-U的所有元素，元素定性、定量分析，即可完成，對試樣與探測器的幾何位置 要求低，可以在低倍率下獲得X射線掃描、面分布結(jié)果，能譜所需探針電流小，檢測限為 0. 1%-0. 5%，中等原子序數(shù)的無重疊峰主元素的定量相誤差為2%。
【文檔編號】C23C14/12GK104120382SQ201410266771
【公開日】2014年10月29日 申請日期:2014年6月16日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月16日
【發(fā)明者】韓潮軍 申請人:杭州江南電機有限公司