管埋設(shè)構(gòu)造體及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供可提高形成流路的管與金屬構(gòu)件之間的緊貼性的管埋設(shè)構(gòu)造體及其制造方法。管埋設(shè)構(gòu)造體(1)具備：金屬或合金制的管(10)，其橫剖面中的外周呈長(zhǎng)度方向上的兩端彎曲而成的扁平狀；金屬或合金制的基材(11)，其形成有如下凹部(11a)，所述凹部(11a)是具有與長(zhǎng)度方向上的外周部(10c)抵接的內(nèi)壁、且用于供管(10)嵌合的凹部(11a)；以及堆積層(12)，其通過如下方式而形成，即，在將管(10)嵌合于凹部(11a)的狀態(tài)下，將由金屬或合金構(gòu)成的粉末與氣體一并加速，并保持固相狀態(tài)向管(10)以及基材(11)的表面噴涂而使粉末堆積，管(10)從基材(11)的表面突出的突出量(h)與端部(10a、10b)的曲率(R)的比率(h/R)為0.25以上0.5以下。
【專利說明】管埋設(shè)構(gòu)造體及其制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及將用于使冷卻氣體、冷卻水等溫度調(diào)節(jié)介質(zhì)流通的管埋設(shè)于金屬構(gòu)件的管埋設(shè)構(gòu)造體及其制造方法。

【背景技術(shù)】
[0002]在金屬構(gòu)件的內(nèi)部埋設(shè)用于使流體流通的管的構(gòu)造體(以下，稱為管埋設(shè)構(gòu)造體)在半導(dǎo)體、液晶顯示裝置、光盤這樣的產(chǎn)品的制造工序等中用于各種用途。例如，使熱介質(zhì)(制冷劑)在管中流通的管埋設(shè)構(gòu)造體被用作對(duì)基板的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)(冷卻或加熱)的溫度調(diào)節(jié)裝置(冷凝板等)(例如，參照專利文獻(xiàn)I)。另外，使含有規(guī)定的成分的氣體在流路中流通的管埋設(shè)構(gòu)造體被用作向基板供給氣體的簇射板。
[0003]以往，分別制作使流體流通的管、通過挖削加工等形成有與管對(duì)應(yīng)的形狀的凹部的金屬構(gòu)件，通過將管嵌入到金屬構(gòu)件的凹部中從而制造出這種管埋設(shè)構(gòu)造體。
[0004]另外，近年來，還提出了一種通過所謂的冷噴涂法將管埋設(shè)于金屬構(gòu)件的技術(shù)，在所述冷噴涂法中，將金屬粉末保持固相狀態(tài)向基材噴涂，通過在基材上堆積金屬而形成構(gòu)造物(例如，參照專利文獻(xiàn)2)。
[0005]在先技術(shù)文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)1:日本特開2009 - 13497號(hào)公報(bào)
[0008]專利文獻(xiàn)2:日本特開2011 - 238705號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]發(fā)明要解決的課題
[0010]在管埋設(shè)構(gòu)造體中，當(dāng)在管與金屬構(gòu)件之間存在有間隙時(shí)，熱阻增大，在管內(nèi)流通的流體與金屬構(gòu)件之間的熱傳導(dǎo)性、均熱性降低。另外，也有可能在兩者的間隙中混入異物、因間隙而使管在凹部中晃動(dòng)。然而，在僅將管嵌入到設(shè)置于金屬構(gòu)件的凹部的方法中，難以使兩者緊貼接合而在凹部的內(nèi)壁與管的外壁之間不產(chǎn)生間隙。
[0011]關(guān)于這點(diǎn)，根據(jù)冷噴涂法，能夠在管的周圍堆積致密的金屬被膜，因此能夠制作出熱傳導(dǎo)性優(yōu)異的構(gòu)造體。然而，認(rèn)為在該情況下，也會(huì)因管的形狀、相對(duì)于管以及基材噴涂金屬粉末的角度等條件，在管的周圍產(chǎn)生局部的間隙等，導(dǎo)致金屬被膜相對(duì)于管的緊貼性降低。
[0012]本發(fā)明是鑒于上述情況而實(shí)施的，其目的在于提供可提高形成流路的管與金屬構(gòu)件之間的緊貼性的管埋設(shè)構(gòu)造體及其制造方法。
[0013]用于解決課題的手段
[0014]為了解決上述課題并達(dá)成目的，本發(fā)明所涉及的管埋設(shè)構(gòu)造體的特征在于，具備:金屬或合金制的管，其橫剖面中的外周呈長(zhǎng)度方向上的兩端彎曲而成的扁平狀；金屬或合金制的基材，其形成有包括與所述外周中的同所述長(zhǎng)度方向?qū)?yīng)的部分抵接的內(nèi)壁并與所述管嵌合的凹部；以及堆積層，其通過如下方式而形成，即，在將所述管嵌合于所述凹部的狀態(tài)下，將由金屬或合金構(gòu)成的粉末與氣體一并加速，并直接以固相狀態(tài)向所述管以及所述基材的表面噴涂而使所述粉末堆積，所述管從所述基材的表面突出的突出量h與所述兩端的曲率R的比率h/R為0.25以上0.5以下。
[0015]在上述管埋設(shè)構(gòu)造體中，其特征在于，所述橫剖面中的所述凹部與所述管的間隙為Omm以上0.05mm以下。
[0016]在上述管埋設(shè)構(gòu)造體中，其特征在于，所述管由SUS鋼、銅合金、鎳合金、鉭、鈮、鈦、招、或招合金構(gòu)成。
[0017]在所述管埋設(shè)構(gòu)造體中，其特征在于，所述基材由銅、銅合金、鋁、或鋁合金構(gòu)成。
[0018]在上述管埋設(shè)構(gòu)造體中，其特征在于，所述粉末由銅或鋁構(gòu)成。
[0019]本發(fā)明所涉及的管埋設(shè)構(gòu)造體的制造方法的特征在于，包括:基材形成工序，其在金屬或合金制的基材上形成凹部，所述凹部具有與橫剖面中的外周呈長(zhǎng)度方向上的兩端彎曲而成的扁平狀的金屬或合金制的管中的、所述外周中的同所述長(zhǎng)度方向?qū)?yīng)的部分抵接的內(nèi)壁；以及堆積層形成工序，將所述管嵌合于所述凹部，將由金屬或合金構(gòu)成的粉末與氣體一并加速，并直接以固相狀態(tài)向所述管以及所述基材的表面噴涂而使所述粉末堆積，從而形成堆積層，在所述基材形成工序中，將所述管從所述基材的表面突出的突出量h與所述兩端的曲率R的比率h/R設(shè)為0.25以上0.5以下。
[0020]在上述管埋設(shè)構(gòu)造體的制造方法中，其特征在于，在所述基材形成工序中，將所述管的橫剖面中的所述凹部與所述管的間隙設(shè)為Omm以上0.05mm以下。
[0021]發(fā)明效果
[0022]根據(jù)本發(fā)明，在基材上形成如下的凹部，在所述凹部處，形成流路的管從基材突出的突出量h與管的外周的曲率R的比率h/R為0.25以上0.5以下，將管嵌合于該凹部而通過所謂的冷噴涂法在管以及基材的表面形成堆積層，因此能夠在從基材突出的管的周圍形成致密的堆積層，從而能夠提高管與金屬構(gòu)件之間的緊貼性。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的管埋設(shè)構(gòu)造體的結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0024]圖2是表示圖1所示的管埋設(shè)構(gòu)造體的制造方法的流程圖。
[0025]圖3A是用于對(duì)圖2所不的工序SI進(jìn)行說明的不意圖。
[0026]圖3B是用于對(duì)圖2所不的工序S2進(jìn)行說明的不意圖。
[0027]圖3C是用于對(duì)圖2所不的工序S3進(jìn)行說明的不意圖。
[0028]圖4是表示冷噴涂裝置的概要的示意圖。
[0029]圖5是表示實(shí)施例1中的堆積層的SEM圖像。
[0030]圖6是表示實(shí)施例2中的堆積層的SEM圖像。
[0031 ]圖7是表示比較例I中的堆積層的SEM圖像。
[0032]圖8是表示比較例2中的堆積層的SEM圖像。
[0033]圖9是表示實(shí)施例3中的堆積層的光學(xué)照片。
[0034]圖10是表示實(shí)施例4中的堆積層的光學(xué)照片。
[0035]圖11是表示比較例3中的堆積層的光學(xué)照片。

【具體實(shí)施方式】
[0036]以下，參照附圖對(duì)用于實(shí)施本發(fā)明的方式進(jìn)行詳細(xì)說明。需要說明的是，并非利用以下的實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明進(jìn)行限定。另外，在以下的說明中所參照的各圖僅以能夠理解本發(fā)明的內(nèi)容的程度概要性地示出了形狀、大小、以及位置關(guān)系。即，本發(fā)明并不限定于各圖所例示的形狀、大小、以及位置關(guān)系。
[0037](實(shí)施方式)
[0038]圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的管埋設(shè)構(gòu)造體的結(jié)構(gòu)的剖視圖。如圖1所示，本實(shí)施方式所涉及的管埋設(shè)構(gòu)造體I具備:由金屬或合金構(gòu)成的管10、形成有用于供該管10嵌合的凹部Ila的金屬或合金制的基材11、以及形成在管10以及基材11上的金屬或合金的堆積層12。這種管埋設(shè)構(gòu)造體I使所希望的流體(液體或氣體)在管10內(nèi)流通，被用作為溫度調(diào)節(jié)裝置(例如冷凝板)、流體供給裝置(例如簇射板)等。
[0039]管10的橫剖面中的外周呈長(zhǎng)度方向的端部10a、10b彎曲而成的扁平狀。另外，在本實(shí)施方式中，被端部1a和端部1b夾持的長(zhǎng)度方向上的外周部10c、1d呈直線狀。需要說明的是，長(zhǎng)度方向上的外周部10c、10d并不一定需要為直線狀。例如，也可以以與端部10a、10b相比曲率變大的方式使長(zhǎng)度方向的外周部1c彎曲，而將外周整體形成為橢圓形狀。以下，將橫剖面中的管10的長(zhǎng)度方向上的寬度設(shè)為W1，將寬度方向上的寬度設(shè)為w2。需要說明的是，管10的厚度根據(jù)材料、用途而適當(dāng)確定。
[0040]管10的長(zhǎng)度方向(使流體流通的方向)上的形狀并不特別限定，可以將從管埋設(shè)構(gòu)造體I的上方觀察時(shí)的管10的平面形狀設(shè)為直線狀、螺旋狀、蜿蜒形狀等各種形狀。
[0041]管10的材料根據(jù)在管10內(nèi)流通的流體、管埋設(shè)構(gòu)造體I的用途來選擇。例如，在使具有腐蝕性的液體或氣體流通的情況下，使用SUS鋼、銅合金、鎳合金、鉭、鈮、或鈦等具有耐腐蝕性的金屬或合金。另外，在作為冷卻水而使自來水、海水流通的情況下，使用上述材料中的SUS鋼這樣具有良好的熱傳導(dǎo)性的材料。另一方面,在使PCW(process coolingwater)、有機(jī)溶劑、惰性氣體等流通的情況下，無需耐腐蝕性，能夠使用熱傳導(dǎo)性優(yōu)異的鋁或招合金。
[0042]基材11是，由例如銅、銅合金、鋁、或鋁合金這樣具有良好的熱傳導(dǎo)性的金屬或合金形成的塊狀件。凹部Ila是通過將基材11的上表面Ilb挖削成槽狀而形成的。需要說明的是，凹部Ila的上表面Ilb的平面形狀與管10的平面形狀對(duì)應(yīng)。
[0043]凹部Ila具有與管10的外周的一部分抵接的內(nèi)壁。該凹部Ila的內(nèi)壁的橫剖面形狀呈沿著一方的長(zhǎng)度方向上的外周部1c及其端部10a、10b的形狀。凹部Ila的深度d規(guī)定為，管10從上表面Ilb突出的高度(以下，稱為突出量)h(h = W2 — d)與管10的端部10a、10b的曲率R的比率h/R為0.25以上0.5以下。另外，對(duì)于凹部Ila的寬度而言，若以凹部Ila的底面為基準(zhǔn)，則在與曲率R對(duì)應(yīng)的高度處成為最大值w3 (W3 N wl)，自此在上部維持最大值W3進(jìn)行開口。并且，凹部Ila與管10的間隙W3 — W1收斂于Omm以上0.05mm以下的范圍。
[0044]堆積層12通過所謂的冷噴涂法而形成。在此，冷噴涂法是指，將由金屬或合金構(gòu)成的粉末與氣體一起加速，并保持固相狀態(tài)向基體(本實(shí)施方式中的管10以及基材11)的表面噴涂而使粉末堆積的被膜形成法。通過冷噴涂法形成的堆積層12不發(fā)生相變并抑制氧化，因此具有較高的熱傳導(dǎo)性。另外，在與基體、之前堆積于基體上的被膜碰撞時(shí)，在粉末與基體之間產(chǎn)生塑性變形而獲得固定效果，并且彼此的氧化被膜被破壞而產(chǎn)生由新生面彼此形成的金屬結(jié)合，因此能夠提高與基體的緊貼強(qiáng)度，形成抑制熱阻的被膜。
[0045]這種堆積層12通過例如銅、鋁這樣具有良好的熱傳導(dǎo)性的金屬或合金而形成。
[0046]接下來，對(duì)管埋設(shè)構(gòu)造體I的制造方法進(jìn)行說明。圖2是表示管埋設(shè)構(gòu)造體I的制造方法的流程圖。另外，圖3A?圖3C是對(duì)管埋設(shè)構(gòu)造體I的制造方法進(jìn)行說明的示意圖。
[0047]首先，在工序SI中，如圖3A所示，在金屬或合金的塊狀件13的表面，通過挖削加工形成槽狀的凹部11a，從而制作出基材11。
[0048]在之后的工序S2中，如圖3B所示，將管10嵌合到凹部Ila中。
[0049]并且，在工序S3中，如圖3C所示，通過冷噴涂法，在管10以及基材11的表面形成堆積層12。
[0050]圖4是表示在工序S3中使用的冷噴涂裝置的概要的示意圖。如圖4所示，冷噴涂裝置20具備:氣體加熱器21，其對(duì)壓縮氣體進(jìn)行加熱；粉末供給裝置22，其收納堆積層12的材料的粉末(以下，簡(jiǎn)稱為粉末)28，并向噴槍23供給；氣體噴嘴24，其將加熱后的壓縮氣體以及供給至此的粉末28向基體27噴射；閥25以及26，其分別調(diào)節(jié)相對(duì)于氣體加熱器21以及粉末供給裝置22的壓縮氣體的供給量。
[0051]作為壓縮氣體，使用氦氣、氮?dú)?、空氣等。供給至氣體加熱器21的壓縮氣體例如為50°C以上，在被加熱至比粉末28的熔點(diǎn)低的范圍內(nèi)的溫度后，供給至噴槍23。壓縮氣體的加熱溫度優(yōu)選為300?900°C。另一方面，供給至粉末供給裝置22的壓縮氣體將粉末供給裝置22內(nèi)的粉末28向噴槍23內(nèi)以成為規(guī)定的噴出量的方式供給。
[0052]加熱后的壓縮氣體通過呈擴(kuò)口形狀的氣體噴嘴24形成超音速流(約340m/s以上)。此時(shí)的壓縮氣體的氣體壓力優(yōu)選為I?5MPa左右。通過將壓縮氣體的壓力調(diào)整為該程度，能夠?qū)崿F(xiàn)粉末(被膜)相對(duì)于基體27的緊貼強(qiáng)度的提高。更優(yōu)選為以2?4MPa左右的壓力進(jìn)行處理。供給至噴槍23的粉末28通過投入到該壓縮氣體的超音速流之中而被加速，保持固相狀態(tài)與基體27高速碰撞并堆積。需要說明的是，只要是能夠保持固相狀態(tài)朝向基體27碰撞而形成被膜的裝置，則并不限定于圖4所示的冷噴涂裝置20。
[0053]在這種冷噴涂裝置20中，作為基體27而配置有在凹部Ila嵌合有管10的基材11，在管10以及基材11的表面形成被膜。此時(shí)，在凹部Ila的上端附近的與管10之間的區(qū)域14也進(jìn)入有粉末28從而形成有被膜。
[0054]通過這樣將堆積層12形成至期望的厚度，從而完成圖1所示的管埋設(shè)構(gòu)造體I。需要說明的是，如圖3C所示，由于與基材的上表面Ilb相比而管10的一部分隆起，因此堆積層12在管10的上部也成為隆起的形狀。因此，可以在較厚地形成堆積層12之后通過切削等將不需要的部分去除，從而使表面平坦。
[0055]接下來，對(duì)管10的橫剖面與設(shè)置于基材11的凹部Ila的關(guān)系進(jìn)行說明。
[0056]在冷噴涂法中，一般而言，通過使從氣體噴嘴24朝向一個(gè)方向噴射的粉末28與基體27碰撞而形成被膜。因此，在相對(duì)于粉末28的噴射方向成為影子的部分無法形成被膜。另外，被膜的形成面與粉末28的噴射方向越接近平行，則越難以形成被膜。因此，本申請(qǐng)發(fā)明人為了獲得如下條件，反復(fù)研究實(shí)驗(yàn)，所述條件用于在通過冷噴涂法形成堆積層12時(shí)，在管10的側(cè)方、即在與基材11的分界附近形成致密且均質(zhì)的堆積層12。
[0057]其結(jié)果是，本申請(qǐng)發(fā)明人發(fā)現(xiàn):在制造埋設(shè)有橫剖面的外周形狀呈扁平狀的管10的管埋設(shè)構(gòu)造體I的情況下，通過在基材11上設(shè)置符合以下條件(I)以及(2)的凹部11a，能夠形成與管10以及基材11緊貼的致密且均質(zhì)的堆積層12。
[0058](I)將管10從基材11的表面突出的突出量h與管10的外周的曲率R的比率h/R設(shè)為0.25以上0.5以下。
[0059](2)將凹部Ila與管10的間隙Δ設(shè)為Omm以上0.05mm以下。
[0060]根據(jù)本實(shí)施方式，通過在基材上形成上述條件所規(guī)定的凹部，將管嵌合于該凹部并通過冷噴涂法形成堆積層，能夠在管的周圍形成與管以及基材緊貼的致密且均質(zhì)的堆積層。因此，在將如此提高了緊貼性的管埋設(shè)構(gòu)造體用作溫度調(diào)節(jié)裝置、簇射板的情況下，通過良好的熱傳導(dǎo)性以及均熱性，能夠?qū)崿F(xiàn)溫度調(diào)節(jié)效率的提高。需要說明的是，在該情況下，也可以將堆積層12側(cè)作為熱傳導(dǎo)面來使用。
[0061]實(shí)施例
[0062]以下，參照?qǐng)D5?圖11對(duì)實(shí)施例以及比較例進(jìn)行說明。
[0063]首先，對(duì)實(shí)施例1、2以及比較例1、2進(jìn)行說明。圖5?圖8是從與管10的橫剖面正交的方向?qū)Ω淖儽嚷蔴/R而形成堆積層12時(shí)的管10、基材11、以及堆積層12進(jìn)行拍攝而成的SEM圖像。需要說明的是，在圖5?圖8中，利用虛線來補(bǔ)足管的外徑的一部分。
[0064]在實(shí)施例1、2以及比較例1、2中，通過以下的材料以及條件來制作試料。
[0065]基材:50_X50mm、厚度1mm的銅合金板
[0066]管:長(zhǎng)度方向上的寬度W1 = 8.2mm、
[0067]覽度方向上的覽度W2 = 2.5μπ、
[0068]外周的曲率R=1.25mm的銅合金
[0069]堆積層的材料:平均粒徑26.18 μ m的銅粉末
[0070]設(shè)置于基材的凹部與管的間隙:Λ = Omm
[0071](實(shí)施例1)
[0072]將比率h/R設(shè)為0.40。其結(jié)果是，如圖5所示，在管10的側(cè)方也能夠形成足夠厚度的致密且均質(zhì)的堆積層12。
[0073](實(shí)施例2)
[0074]將比率h/R設(shè)為0.28。其結(jié)果是，如圖6所示，在管10的側(cè)方也能夠形成足夠厚度的致密且均質(zhì)的堆積層12。
[0075](比較例I)
[0076]將比率h/R設(shè)為0.60。在該情況下，如圖7所示，在管10的側(cè)方未能形成足夠的堆積層12。因此，無法在該間隙中形成堆積層12，導(dǎo)致形成于管10上的堆積層12與形成于基材11上的堆積層12斷開。
[0077](比較例2)
[0078]將比率h/R設(shè)為0.20。在該情況下，如圖8所示，在管10的側(cè)方未能形成足夠的堆積層12。認(rèn)為這是因此，應(yīng)形成堆積層12的凹部Ila的內(nèi)壁部分、即與粉末28(參照?qǐng)D3C)噴射方向平行的部分的深度與實(shí)施例1、2相比過深。因此，在形成于管10上的堆積層12與形成于基材11上的堆積層12之間產(chǎn)生裂紋。
[0079]接下來，對(duì)實(shí)施例3、4以及比較例3進(jìn)行說明。圖9?圖11是表示在改變凹部Ila與管10的間隙Λ時(shí)的堆積層12的光學(xué)照片。這些光學(xué)照片是從上面?zhèn)葘?duì)如下的研磨面進(jìn)行拍攝而得到的，所述研磨面是在管10上充分地(距管10的上端面超過Imm的高度)形成堆積層12之后，通過對(duì)該堆積層12進(jìn)行銑削加工，切削至距管10的上端面Imm的高度，然后進(jìn)行研磨而成的研磨面。
[0080]在實(shí)施例3、4以及比較例3中，通過以下的材料以及條件來制作試料。
[0081]基材:40mmX40mm、厚度1mm的銅合金板
[0082]管:長(zhǎng)度方向上的寬度W1 = 8.2mm、
[0083]覽度方向上的覽度W2 = 2.5μπ、
[0084]外周的曲率R=1.25mm的銅合金
[0085]堆積層的材料:平均顆粒直徑26.18 μ m的銅粉末
[0086]比率h/R = 0.4
[0087](實(shí)施例3)
[0088]將間隙Λ設(shè)為0mm。其結(jié)果是，如圖9所示，能夠在管10上的區(qū)域和基材11上的區(qū)域內(nèi)形成平滑連續(xù)的致密且均質(zhì)的堆積層12。
[0089](實(shí)施例4)
[0090]將間隙Λ設(shè)為0.05mm。其結(jié)果是，如圖10所示，雖然在管10上的區(qū)域與基材11上的區(qū)域之間觀察到有若干面的分界線，但能夠在兩區(qū)域間形成連續(xù)的致密且均質(zhì)的堆積層12。
[0091](比較例3)
[0092]將間隙Λ設(shè)為0.10mm。在該情況下，如圖11所示，在管10上的區(qū)域與基材11上的區(qū)域之間觀察到裂紋。
[0093]附圖標(biāo)記說明
[0094]I管埋設(shè)構(gòu)造體
[0095]10 管
[0096]10a、1b 端部
[0097]1cUOd長(zhǎng)度方向的外周部
[0098]11 基材
[0099]Ila 凹部
[0100]Ilb上表面
[0101]12堆積層
[0102]13塊狀件
[0103]14 區(qū)域
[0104]20冷噴涂裝置
[0105]21氣體加熱器
[0106]22粉末供給裝置
[0107]23 噴槍
[0108]24氣體噴嘴
[0109]25、26 閥
[0110]27 基體
[0111]28 粉末
【權(quán)利要求】
1.一種管埋設(shè)構(gòu)造體，其特征在于， 該管埋設(shè)構(gòu)造體具備: 金屬或合金制的管，其橫剖面中的外周呈長(zhǎng)度方向上的兩端彎曲而成的扁平狀；金屬或合金制的基材，其形成有包括與所述外周中的同所述長(zhǎng)度方向?qū)?yīng)的部分抵接的內(nèi)壁并與所述管嵌合的凹部；以及 堆積層，其通過如下方式而形成，即，在將所述管嵌合于所述凹部的狀態(tài)下，將由金屬或合金構(gòu)成的粉末與氣體一并加速，并直接以固相狀態(tài)向所述管以及所述基材的表面噴涂而使所述粉末堆積， 所述管從所述基材的表面突出的突出量h與所述兩端的曲率R的比率h/R為0.25以上0.5以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的管埋設(shè)構(gòu)造體，其特征在于， 所述橫剖面中的所述凹部與所述管的間隙為Omm以上0.05mm以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的管埋設(shè)構(gòu)造體，其特征在于， 所述管由SUS鋼、銅合金、鎳合金、鉭、鈮、鈦、鋁、或鋁合金構(gòu)成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的管埋設(shè)構(gòu)造體，其特征在于， 所述基材由銅、銅合金、鋁、或鋁合金構(gòu)成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的管埋設(shè)構(gòu)造體，其特征在于， 所述粉末由銅或招構(gòu)成。
6.一種管埋設(shè)構(gòu)造體的制造方法，其特征在于， 該制造方法包括: 基材形成工序，其在金屬或合金制的基材上形成凹部，所述凹部具有與橫剖面中的外周呈長(zhǎng)度方向上的兩端彎曲而成的扁平狀的金屬或合金制的管中的、所述外周中的同所述長(zhǎng)度方向?qū)?yīng)的部分抵接的內(nèi)壁；以及 堆積層形成工序，其將所述管嵌合于所述凹部，將由金屬或合金構(gòu)成的粉末與氣體一并加速，并直接以固相狀態(tài)向所述管以及所述基材的表面噴涂而使所述粉末堆積，從而形成堆積層， 在所述基材形成工序中，將所述管從所述基材的表面突出的突出量h與所述兩端的曲率R的比率h/R設(shè)為0.25以上0.5以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的管埋設(shè)構(gòu)造體的制造方法，其特征在于， 在所述基材形成工序中，將所述管的橫剖面中的所述凹部與所述管的間隙設(shè)為0_以上0.05mm以下。
【文檔編號(hào)】C23C24/04GK104379809SQ201380032214
【公開日】2015年2月25日 申請(qǐng)日期:2013年7月1日 優(yōu)先權(quán)日:2012年7月3日
【發(fā)明者】森省吾, 山內(nèi)雄一郎, 赤林優(yōu) 申請(qǐng)人:日本發(fā)條株式會(huì)社