專利名稱：一種鍍膜設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及鍍膜設(shè)備，具體涉及一種光學(xué)組件的鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)：
隨著工業(yè)不斷的發(fā)展，以及科技產(chǎn)品日趨輕薄短小的需求下，鍍膜技術(shù)在各種產(chǎn)業(yè)的應(yīng)用日趨廣泛，例如金屬加工業(yè)、半導(dǎo)體業(yè)以及光電產(chǎn)業(yè)等等。由于鍍膜品質(zhì)及功能需求多樣化的趨勢，如何精密控制鍍膜技術(shù)成為應(yīng)用上的重點之一。現(xiàn)有的鍍膜設(shè)備具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成真空蒸鍍方式和濺鍍方式兩種方式。需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在鍍膜設(shè)備的腔體中。其中，真空蒸鍍方式鍍膜，一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點一島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。對于濺
鍍方式鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。上述過程中，由于鍍材源中的物質(zhì)是在三維空間中運行，然后才遇到基板，并鍍在基板上，因此各基板所鍍上的鍍膜層的厚度便會根據(jù)各基板的位置而有所不同，從而造成各基板的鍍膜層的厚度不均的問題。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是，克服現(xiàn)有技術(shù)的不足與缺陷，提供一種鍍膜設(shè)備，減少各基板的鍍膜層的厚度不均的情形的出現(xiàn)。為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型所采用的技術(shù)方案是，一種鍍膜設(shè)備，包括一馬達、若干承載座、至少一鍍材源以及若干基板；所述承載座與所述馬達軸連接；所述若干承載座互相連接，整體形狀類似傘狀；所述鍍材源與承載座相對而設(shè)。所述基板固定設(shè)置在承載座上。進一步的，所述承載座周邊環(huán)繞設(shè)有遮板，該遮板位于承載座和鍍材源之間。進一步的，所述遮板和承載座之間采用螺釘聯(lián)接或焊接。進一步的，所述遮板和承載座之間為有一傾斜角度的連接。優(yōu)選的，該傾斜角度方向為向承載座外側(cè)的方向。進一步的，所述遮板根據(jù)鍍材源的物質(zhì)在承載座的不同位置的濃度來決定。優(yōu)選的，所述遮板形狀為類似葉片狀。當(dāng)使用鍍膜設(shè)備時來進行鍍膜制程時，通常先將多個基板固定在承載座上，然后啟動馬達以帶動承載座運動，最后再利用真空蒸鍍方式或者濺鍍方式等方式將鍍材源渡至該基板上。本實用新型通過對遮板的設(shè)計，進而避免了各基板的鍍膜層的厚度不均的情形的出現(xiàn)。與現(xiàn)有技術(shù)的鍍膜設(shè)備相比，使用本實用新型的鍍膜設(shè)備在多個基板上形成鍍膜層以制造光學(xué)組件時，所制得的光學(xué)組件的鍍膜層的均勻性有效的提高了，從而克服了現(xiàn)有技術(shù)的問題。

圖I是本實用新型的實施例的示意圖。
具體實施方式
現(xiàn)結(jié)合附圖和具體實施方式
對本實用新型進一步說明。作為本實用新型的一個具體實施例，如圖I所示，一種鍍膜設(shè)備，包括一馬達1、4個承載座2、至少一鍍材源3以及若干個基板5。所述4個承載座2互相連接，整體形狀類似傘狀。所述承載座2與所述馬達I軸連接。所述鍍材源3與承載座2相對而設(shè)。所述基板5固定設(shè)置在承載座2上。所述承載座2周邊環(huán)繞設(shè)有遮板4，該遮板4位于承載座2和鍍材源3之間。所述遮板4和承載座2之間采用螺釘聯(lián)接或焊接。所述遮板4和承載座2之間為有一傾斜角度的連接，且該傾斜角度方向為向承載座2外側(cè)的方向。這樣，不僅可以將鍍膜設(shè)備的腔體與承載座2的縫隙遮擋住，還可以起到收攏蒸汽的作用。所述遮板4根據(jù)鍍材源3的物質(zhì)在承載座2的不同位置的濃度來決定。本實施例中，所述遮板4形狀為類似葉片狀。當(dāng)使用鍍膜設(shè)備時來進行鍍膜制程時，通常先將多個基板5固定在承載座2上，然后啟動馬達I以帶動承載座2運動，最后再利用真空蒸鍍方式或者濺鍍方式等方式將鍍材源3渡至該基板5上。鍍材源3中的物質(zhì)是在三維空間中運行，然后才遇到基板5，并鍍在基板5上，其中鍍材源3的物質(zhì)行進方向可以由圖I所示的箭頭來表示。與現(xiàn)有技術(shù)的鍍膜設(shè)備相比，使用本實用新型的鍍膜設(shè)備在多個基板上形成鍍膜層以制造光學(xué)組件時，所制得的光學(xué)組件的鍍膜層的均勻性有效的提高了。本實用新型具有良好的實用性。盡管結(jié)合優(yōu)選實施方案具體展示和介紹了本實用新型，但所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明白，在不脫離所附權(quán)利要求書所限定的本實用新型的精神和范圍內(nèi)，在形式上和細節(jié)上可以對本實用新型做出各種變化，均為本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1.一種鍍膜設(shè)備，其特征在于 包括一馬達、若干承載座、至少一鍍材源以及若干基板； 所述承載座與所述馬達軸連接； 所述若干承載座互相連接，整體形狀類似傘狀； 所述基板固定設(shè)置于所述承載座上； 所述鍍材源與承載座相對而設(shè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種鍍膜設(shè)備，其特征在于所述承載座周邊環(huán)繞設(shè)有遮板，該遮板位于承載座和鍍材源之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種鍍膜設(shè)備，其特征在于所述遮板和承載座之間采用螺釘聯(lián)接或焊接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種鍍膜設(shè)備，其特征在于所述遮板和承載座之間為有一傾斜角度的連接。
專利摘要本實用新型涉及鍍膜設(shè)備。本實用新型的一種鍍膜設(shè)備，包括一馬達、若干承載座、至少一鍍材源以及若干基板；所述承載座與所述馬達軸連接；所述若干承載座互相連接，整體形狀類似傘狀；所述鍍材源與承載座相對而設(shè)。所述基板固定設(shè)置在承載座上。所述承載座周邊環(huán)繞設(shè)有遮板，該遮板位于承載座和鍍材源之間。所述遮板和承載座之間采用螺釘聯(lián)接或焊接。本實用新型應(yīng)用于鍍膜設(shè)備。
文檔編號C23C16/54GK202808934SQ20122049536
公開日2013年3月20日 申請日期2012年9月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月26日
發(fā)明者林德升 申請人:福建中策光電科技有限公司