技術(shù)編號：3274279
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及鍍膜設(shè)備，具體涉及一種光學(xué)組件的鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)隨著工業(yè)不斷的發(fā)展，以及科技產(chǎn)品日趨輕薄短小的需求下，鍍膜技術(shù)在各種產(chǎn)業(yè)的應(yīng)用日趨廣泛，例如金屬加工業(yè)、半導(dǎo)體業(yè)以及光電產(chǎn)業(yè)等等。由于鍍膜品質(zhì)及功能需求多樣化的趨勢，如何精密控制鍍膜技術(shù)成為應(yīng)用上的重點(diǎn)之一。現(xiàn)有的鍍膜設(shè)備具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成真空蒸鍍方式和濺鍍方式兩種方式。需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。