專利名稱：一種濕刻設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制作工藝，特別是指一種濕刻設(shè)備。
背景技術(shù)：
在制作液晶平板顯示器液晶平板顯示器(TFT-LCD，Thin Film Transistor LCD)和半導(dǎo)體的工藝中需要應(yīng)用到濕刻工藝，濕刻工藝對(duì)產(chǎn)品的性能和良率有重要影響。濕刻設(shè)備的刻蝕方式一般有兩種浸泡模式和噴射模式；浸泡模式刻蝕圖形的過(guò)程容易控制，噴射模式的刻蝕速率較快。噴射模式中，藥液噴射的壓力會(huì)對(duì)刻蝕速率造成影響，壓力越大，刻蝕速率越快。如圖I所示，現(xiàn)有設(shè)備采用錐形噴射方式，噴射藥液所形成的液面為錐形?，F(xiàn)有技術(shù)存在諸多問(wèn)題噴射方式對(duì)壓力泵的要求較高，如果壓力泵的壓力降低，或者新配方藥液的粘稠度增大，噴射的錐形橫截面就會(huì)變小，造成刻蝕過(guò)程中的均一性下降，制造的產(chǎn)品在點(diǎn)亮?xí)r出現(xiàn)姆拉，若更換新泵，則成本會(huì)非常高。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種濕刻設(shè)備，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中，噴射方式對(duì)壓力泵的要求高，如果泵的壓力降低，或者藥液的粘稠度增大，會(huì)導(dǎo)致噴射的錐形橫截面變小，造成刻蝕過(guò)程中的均一性下降的缺陷。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種濕刻設(shè)備，包括多個(gè)噴嘴，一個(gè)所述噴嘴包括噴頭本體；所述噴頭本體的第一端具有用于進(jìn)行機(jī)械固定的螺紋部分；所述噴頭本體的第二端具有一個(gè)凹槽；貫通所述噴頭本體的用于輸送刻蝕藥液的導(dǎo)流道，所述導(dǎo)流道的末端位于所述凹槽中；所述導(dǎo)流道的末端具有一噴射孔。所述的濕刻設(shè)備中，所述噴射孔呈絲網(wǎng)狀。所述的濕刻設(shè)備中，所述噴射孔位于所述凹槽的正中位置，呈圓形，且邊緣與所述凹槽相切。所述的濕刻設(shè)備中，所述噴頭本體呈圓柱體，所述圓柱體具有所述第一端和第二端；所述凹槽位于所述第二端的中部，呈線性形狀。所述的濕刻設(shè)備中，各個(gè)所述噴嘴位于生產(chǎn)線上不同的作業(yè)行上；每一作業(yè)行具有一個(gè)向該作業(yè)行上的各個(gè)噴嘴提供所述刻蝕藥液的管道；所述管道與所述導(dǎo)流道貫通連接。所述的濕刻設(shè)備中，所述生產(chǎn)線具有四個(gè)作業(yè)行，分別是第一作業(yè)行、第二作業(yè)行、第三作業(yè)行和第四作業(yè)行。所述的濕刻設(shè)備中，與所述螺紋部分機(jī)械連接，用于改變所述噴頭本體的角度的旋動(dòng)部。所述的濕刻設(shè)備中，與各個(gè)所述旋動(dòng)部連接，用于向所述旋動(dòng)部輸出角度控制信號(hào)的噴射角度調(diào)整部件。[0013]所述的濕刻設(shè)備中，位于第一作業(yè)行的各個(gè)所述凹槽與生產(chǎn)線所在直線之間的角度呈45°，位于第二作業(yè)行的各個(gè)所述凹槽與生產(chǎn)線所在直線之間的角度呈45°，且所述第一作業(yè)行的所述凹槽與所述第二作業(yè)行的同一列上的所述凹槽之間呈90°。所述的濕刻設(shè)備中，位于第一作業(yè)行的各個(gè)凹槽與生產(chǎn)線所在直線之間的角度呈45°，且相鄰兩個(gè)所述凹槽之間呈90° ;位于第二作業(yè)行的各個(gè)所述凹槽與生產(chǎn)線所在直線之間的角度呈45°，且相鄰兩個(gè)所述凹槽之間呈90°。本實(shí)用新型的上述技術(shù)方案的有益效果如下螺紋部分用于固定噴嘴，噴頭本體是噴射藥液的主要區(qū)域，這種結(jié)構(gòu)保證了噴射藥液所形成的液面為近似矩形，有效的增大了噴射的面積，減少了在刻蝕過(guò)程中藥液的使用量，保證了刻蝕的效果，提高了刻蝕的速度。


·[0016]圖I表示現(xiàn)有設(shè)備的錐形噴射方式示意圖；圖2表不濕刻設(shè)備的噴嘴結(jié)構(gòu)不意圖一；圖3表示濕刻設(shè)備的噴嘴結(jié)構(gòu)示意圖二 ；圖4表示噴射孔呈絲網(wǎng)狀的示意圖；圖5表示扇形噴射方式示意圖；圖6表示多個(gè)噴嘴噴射藥液的效果示意圖；圖7表示生產(chǎn)線上各個(gè)噴嘴之間的排列關(guān)系示意圖一；圖8表示生產(chǎn)線上各個(gè)噴嘴之間的排列關(guān)系示意圖二 ；圖9表示濕刻設(shè)備噴射藥液的效果示意圖。
具體實(shí)施方式
為使本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。本實(shí)用新型中改進(jìn)了濕刻設(shè)備的噴嘴，為此，本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種濕刻設(shè)備，包括多個(gè)噴嘴，如圖2和圖3所示，一個(gè)所述噴嘴包括噴頭本體I ;所述噴頭本體I的第一端具有用于進(jìn)行機(jī)械固定的螺紋部分2 ；所述噴頭本體I的第二端具有一個(gè)凹槽3 ；貫通所述噴頭本體I的用于輸送刻蝕藥液的導(dǎo)流道4，所述導(dǎo)流道4的末端位于所述凹槽3中；所述導(dǎo)流道4的末端具有一噴射孔5。應(yīng)用所提供的技術(shù)方案，螺紋部分2用于固定噴嘴，噴頭本體I是噴射藥液的主要區(qū)域，這種結(jié)構(gòu)保證了噴射藥液所形成的液面為如圖5所示的近似矩形的扇面，有效的增大了噴射的面積，減少了在刻蝕過(guò)程中藥液的使用量，保證了刻蝕的效果，提高了刻蝕的速度。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，如圖3所示，噴射孔5位于所述凹槽3的正中位置，呈圓形，且噴射孔5的邊緣與凹槽3相切。[0034]如圖4所示，噴射孔5呈絲網(wǎng)狀。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，如圖3所示，噴頭本體I呈圓柱體，所述圓柱體具有所述第一端和第二端；所述凹槽3位于所述第二端的中部，呈線性形狀。若凹槽3的寬度較窄，噴射時(shí)覆蓋的近似矩形的扇面會(huì)大一些，相同壓力下，力度也會(huì)大一些。凹槽3的底部到凹槽3的頂部的縱深高度，與凹槽3的寬度之間具有一個(gè)對(duì)應(yīng)關(guān)系，該對(duì)應(yīng)關(guān)系由噴射孔5噴射的刻蝕藥液所覆蓋的范圍決定。如圖6所示，噴射藥液的過(guò)程中，每一個(gè)噴嘴噴射的藥液會(huì)形成一個(gè)近似矩形，相鄰的兩個(gè)噴嘴形成的相鄰的兩個(gè)近似矩形之間會(huì)形成交疊區(qū)域；交疊區(qū)域的面積不宜過(guò)大，以此來(lái)保證刻蝕的均一'丨生。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，如圖7所示，還包括各個(gè)噴嘴位于生產(chǎn)線上不同的作業(yè)行 上；縱向是噴嘴的搖動(dòng)方向，橫向-水平方向是基板的晃動(dòng)前進(jìn)方向；每一作業(yè)行對(duì)應(yīng)有一個(gè)向該作業(yè)行上的噴嘴提供刻蝕藥液的管道；所述管道與噴頭本體I上的導(dǎo)流道4貫通連接。在刻蝕的過(guò)程中，由于管道會(huì)發(fā)生晃動(dòng)，因此作業(yè)行上的噴嘴也會(huì)隨著管道晃動(dòng)，基板同樣會(huì)晃動(dòng)，從而使藥液覆蓋整個(gè)面板。只要保證噴射藥液有足夠的壓力，就可以保證刻蝕速率和刻蝕結(jié)果的均一性。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，如圖7和8所示，生產(chǎn)線具有四個(gè)作業(yè)行，分別是第一作業(yè)行、第二作業(yè)行、第三作業(yè)行和第四作業(yè)行。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，還包括與螺紋部分2機(jī)械連接，用于改變所述噴頭本體I的角度的旋動(dòng)部。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，還包括與各個(gè)所述噴嘴的所述旋動(dòng)部連接，用于向各個(gè)所述旋動(dòng)部輸出角度控制信號(hào)的噴射角度調(diào)整部件。在對(duì)面板刻蝕的過(guò)程中，調(diào)整噴嘴噴射藥液的方向，為此，噴嘴的排列方式有兩種，在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，如圖7所示,包括位于第一作業(yè)行的各個(gè)所述凹槽3與生產(chǎn)線之間的角度呈45°，位于第二作業(yè)行的各個(gè)所述凹槽3與生產(chǎn)線之間的角度呈45°，且所述第一作業(yè)行的所述凹槽3與所述第二作業(yè)行的同一列上的凹槽3之間呈90。。如圖8所示，縱向是噴嘴的搖動(dòng)方向，橫向是基板的前進(jìn)方向；位于第一作業(yè)行的各個(gè)所述凹槽3與生產(chǎn)線之間的角度呈45°，且相鄰兩個(gè)所述凹槽3之間呈90° ;位于第二作業(yè)行的各個(gè)所述凹槽3與生產(chǎn)線之間的角度呈45°，且相鄰兩個(gè)所述凹槽3之間呈90°。在對(duì)面板刻蝕的過(guò)程中，調(diào)整噴嘴噴射藥液的方向，設(shè)置相鄰兩個(gè)噴嘴各自的噴射小區(qū)域呈45°，噴射的結(jié)果如圖5、6和9所示，可以保證各個(gè)噴嘴的噴射小區(qū)域交疊成一個(gè)近似矩形，更加有效的利用藥液。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，應(yīng)用所提供的技術(shù)方案中的噴射模式，保證了較快的刻蝕速率，但無(wú)法改善圖案的形狀；而浸泡模式可以有效的改善圖案的形狀，因此優(yōu)選地采用噴射，浸泡，再噴射的模式步驟，并且控制好各個(gè)步驟的時(shí)間，如此不僅提高了刻蝕速度，而且通過(guò)浸泡改善了圖案形狀，保證了刻蝕的均一性。[0052]采用本方案之后的優(yōu)勢(shì)是通過(guò)對(duì)噴嘴的改造，將錐形噴射改為扇形噴射，改善了現(xiàn)有錐形噴射時(shí)帶來(lái)的坡度角過(guò)陡的缺陷；有效的增大了噴射的面積，減少了在刻蝕過(guò)程中的藥液使用量，增大了濕法刻蝕設(shè)備對(duì)藥液的適應(yīng)性，不僅適用于粘度較小的藥液，也適用于粘稠度較大的藥液；提高了產(chǎn)品在刻蝕過(guò)程中的均一性，減少了后期產(chǎn)品中可能出現(xiàn)的刻蝕姆拉；提高了濕法刻蝕設(shè)備的工 作效率，減少產(chǎn)品制作過(guò)程中的刻蝕不良，降低了生產(chǎn)成本。以上所述是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型所述原理的前提下，還可以作出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種濕刻設(shè)備，其特征在于，包括多個(gè)噴嘴，一個(gè)所述噴嘴包括 噴頭本體； 所述噴頭本體的第一端具有用于進(jìn)行機(jī)械固定的螺紋部分； 所述噴頭本體的第二端具有一個(gè)凹槽； 貫通所述噴頭本體的用于輸送刻蝕藥液的導(dǎo)流道，所述導(dǎo)流道的末端位于所述凹槽中； 所述導(dǎo)流道的末端具有一噴射孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的濕刻設(shè)備，其特征在于， 所述噴射孔呈絲網(wǎng)狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的濕刻設(shè)備，其特征在于， 所述噴射孔位于所述凹槽的正中位置，呈圓形，且邊緣與所述凹槽相切。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的濕刻設(shè)備，其特征在于， 所述噴頭本體呈圓柱體，所述圓柱體具有所述第一端和第二端； 所述凹槽位于所述第二端的中部，呈線性形狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的濕刻設(shè)備，其特征在于， 各個(gè)所述噴嘴位于生產(chǎn)線上不同的作業(yè)行上； 每一作業(yè)行具有一個(gè)向該作業(yè)行上的各個(gè)噴嘴提供所述刻蝕藥液的管道； 所述管道與所述導(dǎo)流道貫通連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的濕刻設(shè)備，其特征在于， 所述生產(chǎn)線具有四個(gè)作業(yè)行，分別是第一作業(yè)行、第二作業(yè)行、第三作業(yè)行和第四作業(yè)行。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的濕刻設(shè)備，其特征在于，還包括 與所述螺紋部分機(jī)械連接，用于改變所述噴頭本體的角度的旋動(dòng)部。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的濕刻設(shè)備，其特征在于，還包括 與各個(gè)所述旋動(dòng)部連接，用于向所述旋動(dòng)部輸出角度控制信號(hào)的噴射角度調(diào)整部件。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濕刻設(shè)備，其特征在于， 位于第一作業(yè)行的各個(gè)所述凹槽與生產(chǎn)線所在直線之間的角度呈45°， 位于第二作業(yè)行的各個(gè)所述凹槽與生產(chǎn)線所在直線之間的角度呈45°， 且所述第一作業(yè)行的所述凹槽與所述第二作業(yè)行的同一列上的所述凹槽之間呈90°。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濕刻設(shè)備，其特征在于， 位于第一作業(yè)行的各個(gè)所述凹槽與生產(chǎn)線所在直線之間的角度呈45°，且相鄰兩個(gè)所述凹槽之間呈90° ; 位于第二作業(yè)行的各個(gè)所述凹槽與生產(chǎn)線所在直線之間的角度呈45°，且相鄰兩個(gè)所述凹槽之間呈90°。
專利摘要本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種濕刻設(shè)備，包括噴頭本體；所述噴頭本體的第一端具有用于進(jìn)行機(jī)械固定的螺紋部分；所述噴頭本體的第二端具有一個(gè)凹槽；貫通所述噴頭本體的用于輸送刻蝕藥液的導(dǎo)流道，所述導(dǎo)流道的末端位于所述凹槽中；所述導(dǎo)流道的末端具有一噴射孔。螺紋部分用于固定噴嘴，噴頭本體是噴射藥液的主要區(qū)域，這種結(jié)構(gòu)保證了噴射藥液所形成的液面為近似矩形，有效的增大了噴射的面積，減少了在刻蝕過(guò)程中藥液的使用量，保證了刻蝕的效果，提高了刻蝕的速度。
文檔編號(hào)C23F1/08GK202730239SQ20122039799
公開(kāi)日2013年2月13日 申請(qǐng)日期2012年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月10日
發(fā)明者趙德江, 張玉軍, 崔偉, 祝杰 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司