專(zhuān)利名稱(chēng)：?jiǎn)尉Ч枨逑床蹪崈舳缺O(jiān)測(cè)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種太陽(yáng)能電池單晶制絨槽體預(yù)清洗，特別是單晶硅清洗槽潔凈度監(jiān)測(cè)裝置。
背景技術(shù)：
單晶硅的絨面制備是利用硅的各向異性腐蝕，在每平方厘米硅表面形成幾百萬(wàn)個(gè)四面方錐體也即金字塔結(jié)構(gòu)。由于入射光在表面的多次反射和折射，增加了光的吸收，提高了電池的短路電流和轉(zhuǎn)換效率。硅的各向異性腐蝕液通常用熱的堿性溶液，可用的堿有氫氧化鈉(氫氧化鉀、氫氧化鋰和乙二胺等)。大多使用廉價(jià)的濃度約為1%的氫氧化鈉稀溶液來(lái)制備絨面硅，腐蝕溫度為70°C -85°C。為了獲得均勻的絨面，還應(yīng)在溶液中酌量添加醇類(lèi) 如乙醇和異丙醇等作為絡(luò)合劑，以加快硅的腐蝕。制備絨面前，硅片須經(jīng)過(guò)預(yù)清洗先進(jìn)行初步表面腐蝕，用堿性或酸性腐蝕液蝕去約20 ii m 25 ii m，而目前預(yù)清洗使用的過(guò)氧化氫和堿經(jīng)過(guò)一段時(shí)間清洗后，槽體的溶液會(huì)變臟變色，使預(yù)清洗槽不容易控制，會(huì)使預(yù)清洗的硅片飄起，片子一旦飄起則影響片子的光電轉(zhuǎn)換效率；槽體為強(qiáng)酸強(qiáng)堿環(huán)境，并且有揮發(fā)彌漫現(xiàn)象，易對(duì)勞動(dòng)者造成身體傷害。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種能使槽體潔凈度實(shí)時(shí)得到控制，減少飄片次數(shù)的單晶硅清洗槽潔凈度監(jiān)測(cè)裝置。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型所設(shè)計(jì)的單晶硅清洗槽潔凈度監(jiān)測(cè)裝置，包括安裝壁以及兩側(cè)邊與安裝壁固定連接的清洗槽，其特征是安裝壁上設(shè)有監(jiān)控清洗槽清潔度的紅外感應(yīng)攝像裝置，安裝壁外側(cè)還設(shè)有與紅外感應(yīng)攝像裝置相連接的控制電腦。所述清洗槽包括表面清洗槽、中部網(wǎng)槽以及底部彎管。本實(shí)用新型得到的單晶硅清洗槽潔凈度監(jiān)測(cè)裝置能夠準(zhǔn)確判斷槽體的狀況，根據(jù)槽體的潔凈度及時(shí)的處理槽體濃度，消除飄片影響，節(jié)省時(shí)間，提高效率且增加了收益，也有益于操作人員的健康。

圖I是實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是實(shí)施例的清洗槽拆分示意圖；圖3是單晶硅清洗槽潔凈度監(jiān)測(cè)裝置的主視圖。圖中安裝壁I、清洗槽2、表面清洗槽21、中部網(wǎng)槽22、底部彎管23、紅外感應(yīng)攝像裝置3、控制電腦4。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。[0012]實(shí)施例，如圖I、圖3所示，本實(shí)施列提供的單晶硅清洗槽潔凈度監(jiān)測(cè)裝置，包括安裝壁I以及兩側(cè)邊與安裝壁I固定連接的清洗槽2，安裝壁I上設(shè)有監(jiān)控清洗槽清潔度的紅外感應(yīng)攝像裝置3，安裝壁I外側(cè)還設(shè)有與紅外感應(yīng)攝像裝置3相連接的控制電腦4 ;如圖2所示，所述清洗槽2包括表面清洗槽21、中部網(wǎng)槽22以及底部彎管23。本實(shí)施列所得到的單晶硅清洗槽潔凈度監(jiān)測(cè)裝置通過(guò)紅外感應(yīng)攝像裝置3對(duì)清
洗槽2內(nèi)的清洗溶液的監(jiān)控，再根據(jù)情況調(diào)節(jié)溶液濃度，減少了單晶硅漂片、白片、花片的產(chǎn)生，每天減少100片，可節(jié)省1000元，年創(chuàng)造效益35萬(wàn)，并且減少勞動(dòng)者勞動(dòng)強(qiáng)度和保護(hù)健康，經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益兼得。
權(quán)利要求1.一種單晶硅清洗槽潔凈度監(jiān)測(cè)裝置，包括安裝壁(I)以及兩側(cè)邊與安裝壁(I)固定連接的清洗槽(2)，其特征是安裝壁(I)上設(shè)有監(jiān)控清洗槽清潔度的紅外感應(yīng)攝像裝置(3 )，安裝壁(I)外側(cè)還設(shè)有與紅外感應(yīng)攝像裝置(3 )相連接的控制電腦(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的單晶硅清洗槽潔凈度監(jiān)測(cè)裝置，其特征是所述清洗槽(2)包括表面清洗槽(21)、中部網(wǎng)槽(22)以及底部彎管(23)。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種單晶硅清洗槽潔凈度監(jiān)測(cè)裝置，包括安裝壁以及兩側(cè)邊與安裝壁固定連接的清洗槽，其特征是安裝壁上設(shè)有監(jiān)控清洗槽清潔度的紅外感應(yīng)攝像裝置，安裝壁外側(cè)還設(shè)有與紅外感應(yīng)攝像裝置相連接的控制電腦。本實(shí)用新型得到的單晶硅清洗槽潔凈度監(jiān)測(cè)裝置,能夠準(zhǔn)確判斷槽體的狀況，根據(jù)槽體的潔凈度及時(shí)的處理槽體濃度，消除飄片影響，節(jié)省時(shí)間，提高效率且增加了收益，也有益于操作人員的健康。
文檔編號(hào)C23G3/00GK202509158SQ20122013519
公開(kāi)日2012年10月31日 申請(qǐng)日期2012年4月1日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月1日
發(fā)明者丁杰, 袁前程, 韓波, 高常輝 申請(qǐng)人:寧波升科太陽(yáng)能股份有限公司