專利名稱：一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空鍍膜形成圖紋的方法，尤其是一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的鍍膜加工方法，其需提供一具有鏤空圖案的金屬遮罩；再將該金屬遮罩與金屬工件的表面貼合；然后再通過人工直接將屏蔽油墨涂布于金屬遮罩的鏤空圖案處；待屏蔽油墨烘干后再去除金屬遮罩；然后再進行物理蒸鍍；完成鍍膜后，再以溶劑去除屏蔽油墨，即可在金屬工件表面形成所需圖案。但該方法存在如下缺陷1、工序復雜，且人工涂抹屏蔽油墨耗時，效率低。2、一般金屬遮罩只能制作粗短的直線與較大面積的幾何圖案，精細的線條與構(gòu)圖則難以達成。3、需提供金屬遮罩，成本高昂。4、人工涂抹之屏蔽油墨厚度 較厚，烘干時容易產(chǎn)生油墨內(nèi)部未干透，導致真空鍍膜時產(chǎn)生油墨揮發(fā)現(xiàn)象，致使油墨周圍區(qū)域鍍膜覆著不良，影響圖案質(zhì)量。5、去除金屬遮罩時，有時會使干燥之油墨的邊緣同時剝落，不易修補，會造成鋸齒狀的線條，影響圖案的美觀。6、同一金屬遮罩經(jīng)人工涂抹屏蔽油墨后，最終形成于各金屬工件間的圖案存在明顯的差異。7、直接涂布屏蔽油墨法僅適用于平面型金屬工件，對于具有曲面的金屬工件，無法直接涂布。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其工序簡單、且效率高，可形成精美、復雜圖紋。一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于包括如下步驟在一膠膜表面形成圖案屏蔽層；清洗金屬工件并烘干備用；將膠膜覆蓋于金屬工件表面，使圖案屏蔽層與金屬工件表面接觸；烘烤金屬工件使圖案屏蔽層與金屬工件表面附著良好；去除膠膜；再次清洗并烘干金屬工件；對金屬工件的表面進行物理真空蒸鍍完成鍍膜；去除圖案屏蔽層，即在金屬工件表面形成圖紋；清洗并烘干金屬工件。本發(fā)明之在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，具有如下有益效果I、與現(xiàn)有方法相比，無需提供金屬遮罩，無需人工涂抹屏蔽油墨，工序簡單、且效率高。2、與形成于現(xiàn)有金屬遮罩上的粗短直線或簡單幾何圖案相比，在本發(fā)明之膠膜表面上可形成精美、復雜的圖案屏蔽層，從而可在金屬工件表面形成精美、復雜圖紋。3、無需提供金屬遮罩，可大大節(jié)約成本。4、無人工涂抹屏蔽油墨及去除金屬遮罩之步驟,可完全避免出現(xiàn)現(xiàn)有方法中存在的影響圖紋質(zhì)量的情況出現(xiàn)，進一步提高圖紋質(zhì)量。5、本發(fā)明之膠膜，與金屬遮罩相比，可與不同結(jié)構(gòu)的金屬工件表面相貼合，不但適用于平面型金屬工件，而且還適用于帶曲面結(jié)構(gòu)的金屬工件，適用范圍廣。作為上述方案的一種改進，順序重復上述各步驟，在金屬工件表面形成由上述各鍍膜步驟完成的多層鍍膜組合構(gòu)成的圖紋，所述各層鍍膜顏色相異。
作為上述方案的進一步改進，在進行上述各步驟前，所述金屬工件表面可預先通過物理真空蒸鍍形成底色層，該底色層與所述經(jīng)物理真空蒸鍍完成的鍍膜層顏色相異。作為上述方案的再一步改進，所述物理真空蒸鍍包括真空電弧鍍、磁控濺射、空心陰極鍍、電子束鍍、熱蒸鍍之一或上述方法的任意復合。作為上述方案的再一步改進，所述金屬工件為鈦合金工件、不銹鋼工件、鋁合金工件、或表面電鍍有鎳或鉻的工件。作為上述方案的再一步改進，所述鍍膜步驟中形成的鍍膜層，其材質(zhì)為鈦、鉻、鋁、鋯、上述四種金屬的氧化物、氮化物或碳化物中的任一種，或者其材質(zhì)為鈦合金、鉻合金、鋁合金、或錯合金中任一種。作為上述方案的再一步改進，所述形成的圖紋由任意線條或點陣構(gòu)成，其最小線寬為O. 5cm,最小并行線距為O. 5cm,最小點直徑為O. 5cm,最小點距為O. 5cm。


圖I為本發(fā)明之膠膜的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。圖2為本發(fā)明之金屬工件的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。圖3為本發(fā)明之膠膜貼于金屬工件后的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。圖4為圖3的金屬工件在去除膠膜后的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。圖5為圖4的金屬工件在進行物理真空蒸鍍完成鍍膜步驟后的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。圖6為圖5的金屬工件在去除圖案屏蔽層后、形成圖紋的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。圖7為本發(fā)明另一實施例的金屬工件在去除圖案屏蔽層后、形成圖紋的局部結(jié)構(gòu)首1J視圖。圖8為本發(fā)明又一實施例的金屬工件在去除圖案屏蔽層后、形成圖紋的局部結(jié)構(gòu)首1J視圖。圖9為本發(fā)明再一實施例的金屬工件在去除圖案屏蔽層后、形成圖紋的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。
具體實施例方式實施例一，一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，包括如下步驟I、在一膠膜I表面形成圖案屏蔽層11，膠膜I為現(xiàn)有的普通柔軟薄膜層，其可與不同結(jié)構(gòu)的金屬工件表面相貼合，如圖I所示。本實施例中，所述在膠膜表面形成圖案屏蔽層的方法為現(xiàn)有技術(shù)，此處不再贅述。2、清洗金屬工件2并烘干備用，所述金屬工件2為鈦合金工件、不銹鋼工件、鋁合金工件、或表面電鍍有鎳或鉻的工件，本實施例中，金屬工件2的表面為平面，如圖2所示。3、將膠膜I貼于金屬工件2表面，如圖3所示。4、烘烤金屬工件2使膠膜I上的圖案屏蔽層11良好附于金屬工件2表面。5、去除膠膜1，圖案屏蔽層11脫離膠膜I并完全附著于金屬工件2表面，如圖4所示。本實施例中，可將金屬工件浸泡于適當溶劑中，以去除膠膜。6、再次清洗并烘干金屬工件2。7、對金屬工件2的表面進行物理真空蒸鍍完成鍍膜，形成鍍膜層21，如圖5所示。所述鍍膜步驟中形成的鍍膜層21，其材質(zhì)為鈦、鉻、鋁、鋯、上述四種金屬的氧化物、氮化物或碳化物中的任一種，或者其材質(zhì)為鈦合金、鉻合金、鋁合金或鋯合金中任一種。所述物理真空蒸鍍包括真空電弧鍍、磁控濺射、空心陰極鍍、電子束鍍、熱蒸鍍、或上述方法的任意復
口 ο8、去除圖案屏蔽層11，即在金屬工件2表面形成所述圖紋，如圖6所示。本實施例中，可選用現(xiàn)有技術(shù)中常用的有機溶劑，以去除圖案屏蔽層11。所述形成的圖紋由任意線條或點陣構(gòu)成，其最小線寬為O. 5cm，最小并行線距為O. 5cm，最小點直徑為O. 5cm，最小點距為 O. 5cm。9、清洗并烘干金屬工件2。實施例二，與實施例一不同之處在于，順序重復實施例一的上述各步驟，在金屬工件表面形成由上述各鍍膜步驟完成的多層鍍膜層21、22組合構(gòu)成的圖紋，所述各層鍍膜21、22顏色相異,如圖7所示。 實施例三，與實施例二不同之處在于，在進行上述各步驟前，所述金屬工件2表面可預先通過物理真空蒸鍍形成底色層20，該底色層20與所述經(jīng)物理真空蒸鍍完成的鍍膜層21、22顏色相異，如圖8所示。實施例四與實施例三不同之處在于，本實施例中的金屬工件2的表面為曲面,如圖9所示。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，并非用來限定本發(fā)明實施的范圍，凡依本發(fā)明專利范圍所做的同等變化與修飾，皆落入本發(fā)明專利涵蓋的范圍。
權(quán)利要求
1.一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于包括如下步驟 在一膠膜表面形成圖案屏蔽層； 清洗金屬工件并烘干備用； 將膠膜覆蓋于金屬工件表面，使圖案屏蔽層與金屬工件表面接觸； 烘烤金屬工件使圖案屏蔽層與金屬工件表面附著良好； 去除膠膜； 再次清洗并烘干金屬工件； 對金屬工件的表面進行物理真空蒸鍍完成鍍膜； 去除圖案屏蔽層，即在金屬工件表面形成圖紋； 清洗并烘干金屬工件。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于順序重復上述各步驟，在金屬工件表面形成由上述各鍍膜步驟完成的多層鍍膜組合構(gòu)成的圖紋，所述各層鍍膜顏色相異。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于在進行上述各步驟前，所述金屬工件表面可預先通過物理真空蒸鍍形成底色層，該底色層與所述經(jīng)物理真空蒸鍍完成的鍍膜層顏色相異。
4.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于所述物理真空蒸鍍包括真空電弧鍍、磁控濺射、空心陰極鍍、電子束鍍、熱蒸鍍之一或上述方法的任意復合。
5.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于所述金屬工件為鈦合金工件、不銹鋼工件、鋁合金工件、或表面電鍍有鎳或鉻的工件。
6.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于所述鍍膜步驟中形成的鍍膜層，其材質(zhì)為鈦、鉻、鋁、鋯四種金屬的氧化物、氮化物或碳化物中的任一種，或者其材質(zhì)為鈦合金、鉻合金、鋁合金、或鋯合金中任一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于所述形成的圖紋由任意線條或點陣構(gòu)成，其最小線寬為O. 5cm，最小并行線距為O. 5cm，最小點直徑為O. 5cm，最小點距為O. 5cm。
全文摘要
一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于包括如下步驟在一膠膜表面形成圖案屏蔽層；清洗金屬工件并烘干備用；將膠膜覆蓋于金屬工件表面，使圖案屏蔽層與金屬工件表面接觸；烘烤金屬工件使圖案屏蔽層與金屬工件表面附著良好；去除膠膜；再次清洗并烘干金屬工件；對金屬工件的表面進行物理真空蒸鍍完成鍍膜；去除圖案屏蔽層，即在金屬工件表面形成圖紋；清洗并烘干金屬工件。本發(fā)明之一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其工序簡單、且效率高，可形成精美、復雜圖紋。
文檔編號C23C14/04GK102912291SQ20121042444
公開日2013年2月6日 申請日期2012年10月30日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月30日
發(fā)明者劉伍健, 林銘祥, 高啟斌 申請人:啟翔科技有限公司