專利名稱：掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及為了制造有機(jī)EL設(shè)備而用于相對(duì)于基板配置金屬掩模的掩模對(duì)準(zhǔn)，尤其涉及利用了掩模的框架的一部分的掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
作為制造有機(jī)EL (電致發(fā)光)設(shè)備的有力的方法有真空蒸鍍法。在該真空蒸鍍中，需要將基板和掩模對(duì)準(zhǔn)。另外，近年來(lái)，對(duì)于有機(jī)EL設(shè)備，其處理基板的大型化的風(fēng)浪不斷涌來(lái)，例如，G6世代的基板尺寸是1500mmX 1800mm,隨之，在基板尺寸的大型化的同時(shí)，當(dāng)然掩模也大型化，其尺寸甚至達(dá)到了 2000mmX2000mm左右。尤其是在使用鋼制的掩模的有機(jī)EL設(shè)備中，其重量還達(dá)到了 300kg，以往，將基板及掩模水平放置后使其對(duì)位。再者，該現(xiàn)有技術(shù)例如已經(jīng)在下述專利文獻(xiàn)I中公開。專利文獻(xiàn)1:日本特開2006 - 302896號(hào)公報(bào)在有機(jī)EL蒸鍍裝置中，用金屬掩模將發(fā)光材料蒸鍍?cè)诨迳?，此時(shí)，隨著設(shè)備的大型化，需要高精度的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。另外，有機(jī)EL蒸鍍?cè)O(shè)備在使用金屬掩模和作為目標(biāo)的基板上的標(biāo)記進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)之后，在將該金屬掩模和基板緊貼的狀態(tài)下進(jìn)行蒸鍍。此時(shí)的配置按以下順序進(jìn)行，首先配置蒸鍍?cè)?，其次配置掩模，之后配置基板，可是此時(shí)，尤其是由于蒸鍍?cè)吹奶匦?，不能在該蒸鍍?cè)春脱谀Ｖg設(shè)置固定機(jī)構(gòu)。另外，由于上述的程序全部都在真空室內(nèi)的高真空中進(jìn)行，因此不可能配置復(fù)雜的機(jī)構(gòu)。

而且，在以往的蒸鍍裝置的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)中存在以下的問題點(diǎn)。1.圖案效率以往，由于在圖案的蒸鍍區(qū)域內(nèi)配置有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(圖案)，因此作為用于制造產(chǎn)品的區(qū)域的產(chǎn)品圖案區(qū)域縮小，進(jìn)而存在該對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(圖案)被蒸鍍的問題。2.透射照明在用于對(duì)準(zhǔn)的照明方面，有所謂的“反射方式”和“透射方式”，一般來(lái)說(shuō)透射方式更好，但由于上述蒸鍍?cè)春脱谀Ｖg的制約，不能配置光學(xué)系統(tǒng)，因此多采用反射方式。再者，作為裝置，無(wú)論是反射方式還是透射方式，根據(jù)狀況分別使用是最理想的。3.反射照明如果將對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記配置在蒸鍍區(qū)域之外，則掩?？蚣芎驮撗谀Ｖ丿B，因此產(chǎn)生在掩?？蚣艿谋趁娣瓷渲泻茈y識(shí)別該對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的問題點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
于是，本發(fā)明是鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的問題點(diǎn)而做成的，更具體地說(shuō)，其目的尤其在于提供在采用透射照明方式的同時(shí)，能夠有效應(yīng)用掩模的掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)。為了達(dá)到上述目的，根據(jù)本發(fā)明，首先提供一種掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，在將蒸鍍材料蒸鍍到基板上的真空蒸鍍室中，進(jìn)行該基板與由金屬薄膜構(gòu)成的金屬掩模的對(duì)準(zhǔn)，具備固定框架和載物臺(tái)，所述固定框架形成在所述金屬掩模的周圍，且在其四角上形成有“L”字狀的導(dǎo)光路，所述載物臺(tái)在表面上搭載所述基板，且在其四角上在與所述固定框架的導(dǎo)光路相對(duì)應(yīng)的位置上形成有“L”字狀的導(dǎo)光路，利用設(shè)在所述金屬掩模的一部分上的金屬掩模標(biāo)記和設(shè)在所述基板的一部分上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的由透射照明形成的像，進(jìn)行與金屬掩模的對(duì)準(zhǔn)，所述透射照明是由導(dǎo)入到形成在所述固定框架上的導(dǎo)光路及形成在所述載物臺(tái)上的導(dǎo)光路內(nèi)的光形成的。進(jìn)而，在本發(fā)明中，在以上記載的掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)中，最好形成在所述固定框架的一部分上的“L”字狀的導(dǎo)光路的一端在所述固定框架的上邊或下邊設(shè)置開口，形成在所述載物臺(tái)的一部分上的“L”字狀的導(dǎo)光路的一端在所述載物臺(tái)的上邊或下邊設(shè)置開口。而且，最好在所述真空蒸鍍室的外部設(shè)有:向所述導(dǎo)光路入射光的光源；以及用于拍攝由從所述導(dǎo)光路射出的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的透射照明形成的像的攝像機(jī)部。本發(fā)明具有以下有益效果。根據(jù)上述本發(fā)明，能夠得到如下實(shí)用性良好的技術(shù)效果，即，能夠提供利用透射照明方式而性能良好，且能夠有效應(yīng)用掩模的掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)。


圖1是表示采用本發(fā)明的掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)的有機(jī)EL設(shè)備制造裝置的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的一例的立體圖。圖2是表示構(gòu)成上述裝置的對(duì)準(zhǔn)部的掩模部的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的一例的局部放大立體圖。圖3是表示構(gòu)成上述裝置的對(duì)準(zhǔn)`部的掩模部的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的一例的局部放大立體圖。圖4是用于說(shuō)明包括上述掩模部和載物臺(tái)部的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的詳細(xì)情況的局部放大剖視圖。圖5是表示用攝像元件同時(shí)拍攝形成在基板的表面上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和金屬掩模的畫面的一例的圖。圖中:I 一真空蒸鍍室，8 —對(duì)準(zhǔn)部，100 一掩模部，101 一固定框架，102 一金屬掩模，103、202 —貫通孔，104、203 —端面，106、204 —反射鏡，200 —載物臺(tái)部，201 —載物臺(tái)，6 —基板，61 —對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，301、303 —窗部，302 —光源，304 —攝像機(jī)。
具體實(shí)施例方式以下，參照附圖詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。再者，在以下的詳細(xì)說(shuō)明中，首先，對(duì)于采用本發(fā)明的有機(jī)EL設(shè)備制造裝置，尤其是其有機(jī)EL成膜裝置說(shuō)明其概要，并且詳細(xì)地說(shuō)明該裝置內(nèi)的成為本發(fā)明的掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)。構(gòu)成有機(jī)EL設(shè)備制造裝置的有機(jī)EL成膜裝置，作為在真空環(huán)境中蒸鍍發(fā)光材料從而在基板上形成EL層的真空蒸鍍室起作用，以下，關(guān)于該真空蒸鍍室，與輸送室一起表示在所附的圖1中。圖中，輸送室內(nèi)的輸送機(jī)器人5具有三連桿結(jié)構(gòu)的臂51，該臂51能夠向上下移動(dòng)整體(參照?qǐng)D1的箭頭59)，并能夠向左右旋轉(zhuǎn)，在其前端具有基板輸送用的梳齒狀手部58。另一方面，真空蒸鍍室I大致包括:蒸鍍部71、76，使發(fā)光材料升華后蒸鍍?cè)诨?上；對(duì)準(zhǔn)部8，進(jìn)行與蔭罩之間的對(duì)位，并且在例如玻璃板等基板6上的所需部分蒸鍍發(fā)光材料；以及交接部91、93，在與上述輸送機(jī)器人5之間進(jìn)行基板6的交接，并使該基板6向蒸鍍部71、76移動(dòng)。對(duì)準(zhǔn)部8和交接部91、93分成右側(cè)R線和左側(cè)L線這兩個(gè)系統(tǒng)而設(shè)置。S卩，掩模不僅僅在基板上形成發(fā)光材料層(EL層)后用電極夾住，還在陽(yáng)極之上形成正孔注入層或輸送層，進(jìn)而在陰極之上用各種材料以薄膜的形式形成多層電子注入層或輸送層等，或者清洗基板，一般來(lái)說(shuō)，大致包括搬入處理對(duì)象的基板6的裝入組、處理上述基板的多個(gè)組、以及在各組之間或者組和裝入組或下一個(gè)工序(密封工序)之間設(shè)置的多個(gè)交接室等。再者，在本實(shí)施方式中，將基板的蒸鍍面作為上表面輸送基板，另一方面，在蒸鍍時(shí)，在將該基板立起的狀態(tài)下進(jìn)行蒸鍍。并且，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，上述對(duì)準(zhǔn)部8 (即，掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng))包括以下詳細(xì)敘述的掩模部100和載物臺(tái)部200。首先，在所附的圖2中表示了掩模部100的結(jié)構(gòu)，如圖所示，具備固定框架101和金屬掩模102，其中，固定框架101例如利用金屬材料將外形形成為“口 ”字狀，金屬掩模102以向縱橫方向拉伸(賦予張力)的狀態(tài)安裝在該固定框架的一面(在圖例中是背面)上，并且由金屬薄膜形成，且板厚為4(Γ 00μπι。并且，在該固定框架101的一部分，更具體地說(shuō)，在本例中是在“ 口 ”字狀的周邊四角上，分別形成有形成導(dǎo)光路的貫通孔103。再者，如所附的圖4所示，該成為導(dǎo)光路的貫通孔103的詳細(xì)情況如下，從構(gòu)成固定框架101的上邊的端面104沿著上述金屬掩模102的面向垂直方向延伸，并且從形成該框架的內(nèi)周面的傾斜面(例如，傾斜角度=45度)105向相對(duì)于上述金屬掩模102的面垂直的方向形成為所謂的“L”字狀。并且，在該傾斜面105上(S卩，在這些貫通孔103的底部上)，以傾斜角度=45度安裝有反 射鏡106。S卩，由貫通孔103及反射鏡106形成“L”字狀的導(dǎo)光路。再者，在圖2及圖3中，標(biāo)號(hào)107表不在上述金屬掩模102上形成為孔狀的金屬掩模標(biāo)記。另一方面，如所附的圖4所示，載物臺(tái)部200由用于在其表面上搭載基板6的板狀的載物臺(tái)201構(gòu)成，并且在其四角上，即，與形成在上述固定框架101的一部分上的貫通孔103相對(duì)應(yīng)的位置上，與上述同樣地形成有形成為“L”字狀的成為導(dǎo)光路的貫通孔202。再者，在該圖3中，標(biāo)號(hào)61表示形成在上述基板6的表面上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。再者，與上述同樣，在所附的圖4中表示了該成為導(dǎo)光路的貫通孔202的詳細(xì)情況，正如從圖中可知，從構(gòu)成其上邊的端面203沿著上述金屬掩模102的面向垂直方向延伸，并且還在相對(duì)于上述金屬掩模102的面垂直的方向上形成，并且，在這些貫通孔202的底部形成傾斜面(例如，傾斜角度=45度)204，并且，在該傾斜面204上以傾斜角度=45度安裝有反射鏡205。S卩，由貫通孔202及反射鏡205形成“L”字狀的導(dǎo)光路。接下來(lái)，參照?qǐng)D4對(duì)上述掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。即，如圖4所示，上述載物臺(tái)部200的載物臺(tái)201在其表面上搭載基板6并直立之后，移動(dòng)上述掩模部100，以使得金屬掩模102相對(duì)于上述基板6處于預(yù)定的位置(即，進(jìn)行掩模對(duì)準(zhǔn))。另外，在此，例如，用于蒸鍍EL材料的蒸鍍?cè)丛O(shè)在圖的左側(cè)。
這時(shí)，根據(jù)以上詳細(xì)說(shuō)明了其結(jié)構(gòu)的掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，經(jīng)由形成在真空蒸鍍室I的一部分上的窗部(玻璃等透射性材料)301，將來(lái)自于設(shè)在外部的例如燈等光源302的照明光，向?qū)⑸鲜鲅谀２?00的固定框架101的上邊形成為端面104的貫通孔103 (S卩，導(dǎo)光路)照射(參照?qǐng)D中的箭頭)。該照明光由安裝在上述貫通孔103的底部的反射鏡106反射(參照?qǐng)D中的箭頭)，通過(guò)相對(duì)的基板6，入射到形成在載物臺(tái)201的表面上的貫通孔202 (導(dǎo)光路)。該入射的光再由安裝在該貫通孔202的底部的反射鏡204反射，從形成在上述載物臺(tái)201的上邊端面203上的貫通孔202 (導(dǎo)光路)射出。正如從圖中的箭頭可知，該射出光經(jīng)由其他的窗部(玻璃等透射性材料)303入射到與上述光源302同樣設(shè)在真空蒸鍍室I的外部的攝像機(jī)部304。S卩，該攝像機(jī)部304同時(shí)具備例如包括透鏡的入射光學(xué)系統(tǒng)和CXD等攝像元件，該攝像元件能夠?qū)?lái)自于上述光源302的照明光作為透射照明，同時(shí)拍攝形成在上述基板6的表面上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記61和金屬掩模102 (參照?qǐng)D5)。然后，利用由該攝像元件拍攝的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和金屬掩模，在此利用未圖示的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和其控制部調(diào)整金屬掩模102的位置，以使得金屬掩模102相對(duì)于上述基板6處于預(yù)定的位置。正如從以上的說(shuō)明可知，根據(jù)上述本發(fā)明的掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，通過(guò)在構(gòu)成上述掩模部的掩?？蚣艿囊徊糠稚显O(shè)置導(dǎo)光路，能夠?qū)?duì)準(zhǔn)標(biāo)記配置在金屬掩模的蒸鍍區(qū)域的外側(cè)(更具體地說(shuō)，是金屬掩模和掩?？蚣苤g)，因此不會(huì)因?yàn)榻饘傺谀６鴮?dǎo)致作為用于制造產(chǎn)品的區(qū)域的產(chǎn) 品圖案區(qū)域縮小，就能夠?qū)崿F(xiàn)掩模的有效應(yīng)用。另外，根據(jù)上述本發(fā)明的掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，利用透射照明方式，能夠?qū)崿F(xiàn)性能更加優(yōu)良的金屬掩模和基板的掩模對(duì)準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，在將蒸鍍材料蒸鍍到基板上的真空蒸鍍室中，進(jìn)行該基板與由金屬薄膜構(gòu)成的金屬掩模的對(duì)準(zhǔn)，其特征在于， 具備固定框架和載物臺(tái)， 所述固定框架形成在所述金屬掩模的周圍，且在其四角上形成有“L”字狀的導(dǎo)光路， 所述載物臺(tái)在表面上搭載所述基板，且在其四角上在與所述固定框架的導(dǎo)光路相對(duì)應(yīng)的位置上形成有“L”字狀的導(dǎo)光路， 利用設(shè)在所述金屬掩模的一部分上的金屬掩模標(biāo)記和設(shè)在所述基板的一部分上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的由透射照明形成的像，進(jìn)行與金屬掩模的對(duì)準(zhǔn)，所述透射照明是由導(dǎo)入到形成在所述固定框架上的導(dǎo)光路及形成在所述載物臺(tái)上的導(dǎo)光路內(nèi)的光形成的。
2.按權(quán)利要求1所述的掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于， 形成在所述固定框架的一部分上的“L”字狀的導(dǎo)光路的一端在所述固定框架的上邊或下邊設(shè)置開口，形成在所述載物臺(tái)的一部分上的“L”字狀的導(dǎo)光路的一端在所述載物臺(tái)的上邊或下邊設(shè)置開口。
3.按權(quán)利要求2所述的掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于， 在所述真空蒸鍍室的外部設(shè)有:向所述導(dǎo)光路入射光的光源；以及用于拍攝由從所述導(dǎo)光路射出的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的透射照明形成的像的攝像機(jī)部。
全文摘要
本發(fā)明提供掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，其利用透射照明方式而性能良好，且能有效應(yīng)用掩模。掩模對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)在將蒸鍍材料蒸鍍到基板上的真空蒸鍍室(1)中，進(jìn)行基板(6)與金屬掩模(102)的對(duì)準(zhǔn)，并且具備固定框架(101)和載物臺(tái)(201)，固定框架(101)形成在金屬掩模的周圍且在四角上形成有“L”字狀的導(dǎo)光路，載物臺(tái)(201)在表面上搭載基板，且在其四角上形成有“L”字狀的導(dǎo)光路，利用由導(dǎo)入到形成在固定框架的一部分上的導(dǎo)光路(103)及形成在載物臺(tái)的一部分上的導(dǎo)光路內(nèi)的光形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的透射像，進(jìn)行與金屬掩模的對(duì)準(zhǔn)。
文檔編號(hào)C23C14/04GK103088290SQ20121041719
公開日2013年5月8日 申請(qǐng)日期2012年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月28日
發(fā)明者松本房重, 龜山大樹, 鄭載勛, 李相雨 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日立高新技術(shù)