一種用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法，預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值，實時采集爐體各個溫區(qū)的實際溫度，計算出與溫度目標(biāo)值的溫度差值；根據(jù)該差值，通過模糊控制器控制爐體內(nèi)的加熱管的加熱功率輸出，以使得爐體各個溫區(qū)的實際溫度與溫度目標(biāo)值的偏差值小于預(yù)先設(shè)定的閾值，模糊控制器所采用的模糊控制決策包括溫度偏差程度模糊規(guī)則，為針對實際的溫度差值控制加熱管的加熱功率輸出；當(dāng)爐體各個溫區(qū)的實際溫度與溫度目標(biāo)值的偏差值小于預(yù)先設(shè)定的閾值后，啟用增量型PID控制器控制加熱管的加熱功率輸出。本發(fā)明的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法，有效縮短開始加熱工藝腔到達(dá)到工藝腔正常工藝時的時間。
【專利說明】一種用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種太陽能電池制備工藝領(lǐng)域，尤其涉及一種用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在太陽能電池或半導(dǎo)體制程的鍍膜工藝中都會碰到如何有效加熱工藝腔到指定工藝溫度的問題。現(xiàn)有技術(shù)中，由于一般工藝腔在正常工藝時腔體內(nèi)是真空的，這使得升溫、降溫過程極不對稱。真空狀態(tài)下工藝腔內(nèi)溫度定值控制時的腔內(nèi)實際溫度曲線為非對稱的S曲線。即開始時腔體內(nèi)溫度緩慢上升，幾分鐘后腔體內(nèi)溫度快速上升并沖高至設(shè)定溫度之上，然后再極其緩慢的下調(diào)至設(shè)定溫度之下。由于升溫、降溫過程極不對稱使得從開始加熱工藝腔到達(dá)到工藝腔正常工藝時的時間大大延長，較長的溫控時間影響了產(chǎn)量并加大了能耗。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法，有效縮短開始加熱工藝腔到達(dá)到工藝腔正常工藝時的時間，整個溫度控制過程采用了模糊控制決策，模擬人的快速升溫經(jīng)驗過程。
[0004]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法，包括以下步驟:
[0005]S1:預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值，實時采集所述爐體各個溫區(qū)的實際溫度，并計算出與所述溫度目標(biāo)值的溫度差值；
[0006]S2:根據(jù)所述溫度差值，通過模糊控制器控制所述爐體內(nèi)的加熱管的加熱功率輸出，以使得所述爐體各個溫區(qū)的實際溫度與所述溫度目標(biāo)值的偏差值小于預(yù)先設(shè)定的閾值，所述模糊控制器所采用的模糊控制決策包括溫度偏差程度模糊規(guī)則，所述溫度偏差程度模糊規(guī)則為針對實際的溫度差值控制加熱管的加熱功率輸出，溫度差值越大，加熱管的加熱功率輸出越大，溫度差值越小，加熱管的加工功率輸出越?。?br> [0007]S3:當(dāng)所述爐體各個溫區(qū)的實際溫度與所述溫度目標(biāo)值的偏差值小于預(yù)先設(shè)定的閾值后，啟用增量型PID控制器控制所述爐體內(nèi)的加熱管的加熱功率輸出。
[0008]作為優(yōu)選，所述預(yù)先設(shè)定的閾值為I~2°C。
[0009]作為優(yōu)選，所述模糊控制決策還包括爐體狀態(tài)模糊規(guī)則，所述爐體狀態(tài)模糊控制規(guī)則為針對爐門開度控制加熱管的加熱功率輸出，爐門開度越大，加熱管的加熱功率輸出越大，爐門開度越小，加熱管的加熱功率輸出越小。
[0010]作為優(yōu)選，所述模糊控制決策還包括真空狀態(tài)模糊規(guī)則，所述真空狀態(tài)模糊規(guī)則為針對爐體內(nèi)為真空狀態(tài)與否來控制加熱管的加熱功率輸出，包括:
[0011]爐體內(nèi)為真空狀態(tài)時，當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的100°C以下時，加熱管的加熱功率以全功率輸出方式工作；當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的80°c以下時，加熱管的加熱功率輸出按真空狀態(tài)下非線性曲線加熱爐體，在該真空狀態(tài)下非線性曲線中，越接近預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值，加熱管的加熱功率越低；當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的10°C以下時，啟用自動真空PID控制器控制爐體溫度，
[0012]爐體內(nèi)為非真空狀態(tài)時，當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的85°C以下時，加熱管的加熱功率以全功率輸出方式工作；當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的60°C以下時，加熱管的加熱功率輸出按非真空狀態(tài)下非線性曲線加熱爐體，在該非真空狀態(tài)下非線性曲線中，越接近預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值，加熱管的加熱功率越低；當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的20°C以下時，啟用自動非真空PID控制器控制爐體溫度，
[0013]非真空狀態(tài)下非線性曲線與真空狀態(tài)下非線性曲線的差別是，在相同爐體溫度條件下，所述真空狀態(tài)下非線性曲線比非真空狀態(tài)下非線性曲線的曲線斜率更大。
[0014]作為優(yōu)選,所述模糊控制決策還包括氣體流量模糊控制規(guī)則,所述氣體流量模糊控制規(guī)則為針對噴入爐體的氣體流量的大小控制加熱管的加熱功率輸出，根據(jù)噴入爐體的氣體流量給加熱管的加熱功率值乘以氣體流量系數(shù)，噴入爐體的氣體流量越大，該氣體流量系數(shù)越大。
[0015]作為優(yōu)選，所述模糊控制決策還包括等離子狀態(tài)模糊規(guī)則，所述等離子狀態(tài)模糊規(guī)則包括，在開啟等離子設(shè)備之前，判斷爐體溫度偏差是否在10°C以內(nèi)，如偏差在10°C以內(nèi)，則在打開等離子時,停止加熱管的加熱功率輸出，同時繼續(xù)監(jiān)視爐體溫度，當(dāng)爐體溫度低于預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值10°c以下，重新開始加熱管的加熱功率輸出。
[0016] 作為優(yōu)選，所述模糊控制決策還包括各個溫區(qū)的溫度偏差程度模糊規(guī)則，所述各個溫區(qū)的溫度偏差程度模糊規(guī)則為在加熱過程中，對最高、高、中、低、最低五個溫區(qū)的實際溫度進(jìn)行溫度跟蹤，隨時獲取最高溫區(qū)的溫度與最低溫區(qū)的溫度，將各溫區(qū)的溫度與最高和最低溫區(qū)的溫度進(jìn)行比較，計算出各個溫區(qū)與最高溫區(qū)溫度的上偏差和各個溫區(qū)與最低溫區(qū)溫度的下偏差，當(dāng)最高溫區(qū)與最低溫區(qū)溫度的最大下偏差大于30°C時，最高溫區(qū)暫時停止加熱，以等待最低溫區(qū)溫度提升；當(dāng)高、中、低、最低四個溫區(qū)的上偏差大于20°C時，將高、中、低、最低四個溫區(qū)的加熱曲線乘以溫區(qū)上偏差修正系數(shù)，上偏差越大，該系數(shù)越大。
[0017]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法的有益效果在于:通過對爐體加入模糊控制決策，包括爐體狀態(tài)模糊規(guī)則、真空狀態(tài)模糊規(guī)貝1J、氣體流量模糊控制規(guī)則、等離子狀態(tài)模糊規(guī)則、各個溫區(qū)的溫度偏差程度模糊規(guī)則，有效縮短開始加熱工藝腔到達(dá)到工藝腔正常工藝時的時間，整個溫度控制過程采用了模糊控制決策，模擬人的快速升溫經(jīng)驗過程。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1為本發(fā)明的實施例的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法的控制框圖；
[0019]圖2為使用本發(fā)明的實施例的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法的實驗曲線圖。
【具體實施方式】
[0020]下面結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明的實施例的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法作進(jìn)一步詳細(xì)描述，但不作為對本發(fā)明的限定。
[0021]圖1為本發(fā)明的實施例的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法的控制框圖，圖2為使用本發(fā)明的實施例的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法的實驗曲線圖。本發(fā)明的實施例的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法，包括以下步驟:
[0022]S1:預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值，實時采集所述爐體各個溫區(qū)的實際溫度，并計算出與所述溫度目標(biāo)值的溫度差值，
[0023]S2:根據(jù)所述溫度差值，通過模糊控制器控制所述爐體內(nèi)的加熱管的加熱功率輸出，以使得所述爐體各個溫區(qū)的實際溫度與所述溫度目標(biāo)值的偏差值小于預(yù)先設(shè)定的閾值，所述模糊控制器所采用的模糊控制決策包括溫度偏差程度模糊規(guī)則，所述溫度偏差程度模糊規(guī)則為針對實際的溫度差值控制加熱管的加熱功率輸出，溫度差值越大，加熱管的加熱功率輸出越大，溫度差值越小，加熱管的加工功率輸出越小，其中，溫度目標(biāo)值430°C到450°C左右，本實施例中閾值取I~2°C。
[0024]作為改進(jìn)，由于工藝爐體的爐門在打開時，爐內(nèi)的溫度會由于空氣對流而造成爐內(nèi)溫度下降，尤其是靠近爐口的加熱區(qū)內(nèi)的溫度會急劇下降。為此，可在爐門打開和關(guān)閉這兩種狀態(tài)下對不同的溫區(qū)設(shè)定不同的加熱策略。模糊控制決策還包括爐體狀態(tài)模糊規(guī)貝U，所述爐體狀態(tài)模糊控制規(guī)則為針對爐門開度控制加熱管的加熱功率輸出，爐門開度越大，加熱管的加熱功率輸出越大，爐門開度越小，加熱管的加熱功率輸出越小。
[0025]作為改進(jìn)，由于在真空下，爐內(nèi)加熱主要靠輻射來完成，而在非真空狀態(tài)下爐內(nèi)加熱靠傳導(dǎo)和輻射來完成。為此，可對爐內(nèi)為真空狀態(tài)與否設(shè)定不同的加熱策略。因此，所述模糊控制決策還可以包括真空狀態(tài)模糊規(guī)則，所述真空狀態(tài)模糊規(guī)則為針對爐體內(nèi)為真空狀態(tài)與否來控制加熱管的加熱功率輸出，包括:
[0026]爐體內(nèi)為真空狀態(tài)時，當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的100°C以下時，加熱管的加熱功率以全功率輸出方式工作；當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的80°C以下時，加熱管的加熱功率輸出按真空狀態(tài)下非線性曲線加熱爐體，在該真空狀態(tài)下非線性曲線中，越接近預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值，加熱管的加熱功率越低；當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的10°C以下時，啟用自動真空PID控制器控制爐體溫度；
[0027]爐體內(nèi)為非真空狀態(tài)時，當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的85°C以下時，加熱管的加熱功率以全功率輸出方式工作；當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的60°C以下時，加熱管的加熱功率輸出按非真空狀態(tài)下非線性曲線加熱爐體，在該非真空狀態(tài)下非線性曲線中，越接近預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值，加熱管的加熱功率越低；當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的20°C以下時，啟用自動非真空PID控制器控制爐體溫度；
[0028]非真空狀態(tài)下非線性曲線與真空狀態(tài)下非線性曲線的差別是，在相同爐體溫度條件下，所述真空狀態(tài)下非線性曲線比非真空狀態(tài)下非線性曲線的曲線斜率更大。
[0029]作為改進(jìn)，由于噴入的氣體是常溫的，氣體在進(jìn)入爐體后會冷卻腔體，有氣體噴入與沒有氣體噴入的加熱曲線不一樣，即，當(dāng)有氣體噴入時，加熱曲線必須乘以一個氣體流量系數(shù)(此系數(shù)> I)，此系數(shù)與氣體的流量大小相關(guān)。所述模糊控制決策還包括氣體流量模糊控制規(guī)則，所述氣體流量模糊控制規(guī)則為針對噴入爐體的氣體流量的大小控制加熱管的加熱功率輸出，根據(jù)噴入爐體的氣體流量給加熱管的加熱功率值乘以氣體流量系數(shù)，噴入爐體的氣體流量越大，該氣體流量系數(shù)越大。
[0030]作為改進(jìn)，由于等離子體本身會產(chǎn)生熱量，并且離子體產(chǎn)生的熱量一般大于爐體散失的熱量，故在打開等離子時，基本上斷開爐體的加熱系統(tǒng)(但仍繼續(xù)監(jiān)視爐體溫度，如溫度低于設(shè)定溫度10°c以下，則必須重啟加熱系統(tǒng))。所述模糊控制決策還包括等離子狀態(tài)模糊規(guī)則，所述等離子狀態(tài)模糊規(guī)則包括，在打開等離子之前，判斷爐體溫度偏差是否在10°C以內(nèi)，如偏差在10°C以內(nèi)，則在打開等尚子時，斷開加熱管的加熱功率輸出，同時繼續(xù)監(jiān)視爐體溫度，當(dāng)爐體溫度低于預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值10°c以下，重新打開加熱管的加熱功率輸出。
[0031]作為改進(jìn)，由于爐體內(nèi)分為五個溫區(qū)，即最高、高、中、低、最低五個溫區(qū)，爐體內(nèi)五個溫區(qū)的溫度應(yīng)該一致。但在實際的加熱過程中，五個溫區(qū)的溫度往往不一致。為此，為各個溫區(qū)的溫度偏差制定控制規(guī)則?？傮w原則為:溫度高的溫區(qū)等待溫度低的溫區(qū)。所述模糊控制決策還包括各個溫區(qū)的溫度偏差程度模糊規(guī)則，所述各個溫區(qū)的溫度偏差程度模糊規(guī)則為在加熱過程中，對最高、高、中、低、最低五個溫區(qū)的實際溫度進(jìn)行溫度跟蹤，隨時獲取最高溫區(qū)的溫度與最低溫區(qū)的溫度，將五個溫區(qū)的溫度與最高溫區(qū)的溫度進(jìn)行比較，計算出各個溫區(qū)與最高溫區(qū)溫度的上偏差和各個溫區(qū)與最高低溫區(qū)溫度的下偏差，當(dāng)最高溫區(qū)與最低溫區(qū)溫度的最大下偏差大于30°c時，最高溫區(qū)暫時停止加熱，以等待最低溫區(qū)溫度提升；當(dāng)高、中、低、最低四個溫區(qū)的上偏差大于20°c時，將高、中、低、最低四個溫區(qū)的加熱曲線乘以溫區(qū)上偏差非線性修正系數(shù)，上偏差越大，該系數(shù)越大。
[0032]最終的爐體五個溫區(qū)的溫度加熱曲線是設(shè)定溫度、爐內(nèi)溫度、爐壁溫度、爐門狀態(tài)、真空狀態(tài)、氣體流量、等離子狀態(tài)加熱管位置的函數(shù)。此函數(shù)由反復(fù)多次的實踐逐步逼近來獲取。 [0033]如圖2所示，在圖示的溫度曲線中，設(shè)定溫度為4300C，實際溫度為429°C~430°C，整個溫度控制過程采用了上述的模糊控制決策，模擬人的快速升溫經(jīng)驗過程，達(dá)到了快速、穩(wěn)定的有益控制效果。
[0034]以上實施例僅為本發(fā)明的示例性實施例，不用于限制本發(fā)明，本發(fā)明的保護(hù)范圍由權(quán)利要求書限定。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在本發(fā)明的實質(zhì)和保護(hù)范圍內(nèi)，對本發(fā)明做出各種修改或等同替換，這種修改或等同替換也應(yīng)視為落在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法，其特征在于，包括以下步驟: S1:預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值，實時采集所述爐體各個溫區(qū)的實際溫度，并計算出與所述溫度目標(biāo)值的溫度差值； S2:根據(jù)所述溫度差值，通過模糊控制器控制所述爐體內(nèi)的加熱管的加熱功率輸出，以使得所述爐體各個溫區(qū)的實際溫度與所述溫度目標(biāo)值的偏差值小于預(yù)先設(shè)定的閾值，所述模糊控制器所采用的模糊控制決策包括溫度偏差程度模糊規(guī)則，所述溫度偏差程度模糊規(guī)則為針對實際的溫度差值控制加熱管的加熱功率輸出，溫度差值越大，加熱管的加熱功率輸出越大，溫度差值越小，加熱管的加工功率輸出越?。? S3:當(dāng)所述爐體各個溫區(qū)的實際溫度與所述溫度目標(biāo)值的偏差值小于預(yù)先設(shè)定的閾值后，啟用增量型PID控制器控制所述爐體內(nèi)的加熱管的加熱功率輸出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法，其特征在于，所述預(yù)先設(shè)定的閾值為I~2°C。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法，其特征在于，所述模糊控制決策還包括爐體狀態(tài)模糊規(guī)則，所述爐體狀態(tài)模糊控制規(guī)則為針對爐門開度控制加熱管的加熱功率輸出，爐門開度越大，加熱管的加熱功率輸出越大，爐門開度越小，加熱管的加熱功率輸出越小。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法，其特征在于，所述模糊控制決策還 包括真空狀態(tài)模糊規(guī)則，所述真空狀態(tài)模糊規(guī)則為針對爐體內(nèi)為真空狀態(tài)與否來控制加熱管的加熱功率輸出，包括: 爐體內(nèi)為真空狀態(tài)時，當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的100°C以下時，加熱管的加熱功率以全功率輸出方式工作；當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的80°C以下時，加熱管的加熱功率輸出按真空狀態(tài)下非線性曲線加熱爐體，在該真空狀態(tài)下非線性曲線中，越接近預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值，加熱管的加熱功率越低；當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的10°C以下時，啟用自動真空PID控制器控制爐體溫度， 爐體內(nèi)為非真空狀態(tài)時，當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的85°C以下時，加熱管的加熱功率以全功率輸出方式工作；當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的60°C以下時，加熱管的加熱功率輸出按非真空狀態(tài)下非線性曲線加熱爐體，在該非真空狀態(tài)下非線性曲線中，越接近預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值，加熱管的加熱功率越低；當(dāng)爐體溫度在預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值的20°C以下時，啟用自動非真空PID控制器控制爐體溫度， 非真空狀態(tài)下非線性曲線與真空狀態(tài)下非線性曲線的差別是，在相同爐體溫度條件下，所述真空狀態(tài)下非線性曲線比非真空狀態(tài)下非線性曲線的曲線斜率更大。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法，其特征在于，所述模糊控制決策還包括氣體流量模糊控制規(guī)則，所述氣體流量模糊控制規(guī)則為針對噴入爐體的氣體流量的大小控制加熱管的加熱功率輸出，根據(jù)噴入爐體的氣體流量給加熱管的加熱功率值乘以氣體流量系數(shù)，噴入爐體的氣體流量越大，該氣體流量系數(shù)越大。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法，其特征在于，所述模糊控制決策還包括等離子狀態(tài)模糊規(guī)則，所述等離子狀態(tài)模糊規(guī)則包括，在開啟等離子設(shè)備之前，判斷爐體溫度偏差是否在10°C以內(nèi)，如偏差在10°C以內(nèi)，則在打開等離子時，停止加熱管的加熱功率輸出，同時繼續(xù)監(jiān)視爐體溫度，當(dāng)爐體溫度低于預(yù)先設(shè)定溫度目標(biāo)值10°c以下，重新開始加熱管的加熱功率輸出。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于控制等離子體增強化學(xué)氣相沉積爐體溫度的方法，其特征在于，所述模糊控制決策還包括各個溫區(qū)的溫度偏差程度模糊規(guī)則，所述各個溫區(qū)的溫度偏差程度模糊規(guī)則為在加熱過程中，對最高、高、中、低、最低五個溫區(qū)的實際溫度進(jìn)行溫度跟蹤，隨時獲取最高溫區(qū)的溫度與最低溫區(qū)的溫度，將各溫區(qū)的溫度與最高和最低溫區(qū)的溫度進(jìn)行比較，計算出各個溫區(qū)與最高溫區(qū)溫度的上偏差和各個溫區(qū)與最低溫區(qū)溫度的下偏差，當(dāng)最高溫區(qū)與最低溫區(qū)溫度的最大下偏差大于30°C時，最高溫區(qū)暫時停止加熱，以等待最低溫區(qū)溫度提升；當(dāng)高`、中、低、最低四個溫區(qū)的上偏差大于20°C時，將高、中、低、最低四個溫區(qū)的加熱曲線乘以溫區(qū)上偏差修正系數(shù)，上偏差越大，該系數(shù)越大。
【文檔編號】C23C16/50GK103726033SQ201210381992
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2012年10月10日 優(yōu)先權(quán)日:2012年10月10日
【發(fā)明者】吳曉松, 宋準(zhǔn) 申請人:無錫尚德太陽能電力有限公司