一種三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置制造方法
【專利摘要】一種三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置。它由一固定瓣和兩交替輪換瓣組成真空鍍膜室；兩輪換瓣內(nèi)附有可擴(kuò)展的鍍件轉(zhuǎn)架，其在于鍍件轉(zhuǎn)架上可靈活變換鍍件掛軸數(shù)量以及電極數(shù)量。
【專利說明】一種三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)制造，尤其對真空室和鍍件轉(zhuǎn)架以及磁控蒸發(fā)電極的設(shè)置。
【背景技術(shù)】
[0002]在低溫等離子體成膜過程中，成膜環(huán)境、濺射靶材或蒸發(fā)電極電源、鍍件轉(zhuǎn)架、人機(jī)工藝控制、定期清機(jī)維護(hù)等等，決定生產(chǎn)過程中成膜質(zhì)量與效率以及穩(wěn)定性。本發(fā)明針對成膜環(huán)境的鍍膜室、鍍件轉(zhuǎn)架的設(shè)置提出三瓣殼體組合構(gòu)造真空鍍膜的成膜室以及可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架。以改善和提高成膜質(zhì)量與成膜產(chǎn)品的質(zhì)量穩(wěn)定性與效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明提供一種三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置。其包括三瓣鍍膜室、可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架，其特征在于:
[0004]所述三瓣殼體鍍膜室由(Ig)固定瓣、(2hl、2h2)活動瓣組成，三瓣殼體組構(gòu)成真空鍍膜室；所述(3)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架由(30q)調(diào)速電機(jī)驅(qū)動輪、(3-2) —次公轉(zhuǎn)輪、(3-3) 一次自轉(zhuǎn)介輪、(3-1)固定輪、(3-4) 一次自轉(zhuǎn)輪、(3-5) 二次公轉(zhuǎn)輪、(3-6) 二次自轉(zhuǎn)輪、(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架、(3-8)鍍件接掛轉(zhuǎn)桿、(3-9) —次自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)桿、(5)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架上支撐板輪、(44)磁控或蒸發(fā)電極連接棒組成。
[0005]所述的三瓣殼體鍍膜室附有可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置，其特征在于所述三瓣殼體鍍膜室由(Ig)固定瓣的(11)基體法蘭兩軸向邊對稱鉸接(2hl、2h2)活動瓣的(11)基體法蘭各軸向邊，兩個(2hl、2h2)活動瓣交替輪回與(Ig)固定瓣組合成鍍膜室，所述三瓣殼體鍍膜室的三個瓣(Ig)和(2hl、2h2)其軸向截面為半圓殼體，其軸向兩端頭為半圓鼎形狀，其軸向切面附有(11)基體法蘭，基體法蘭附有(a)密封圈溝槽；所述(Ig)固定瓣附有與擴(kuò)散泵或分子泵(12)大閥法蘭接口及密封溝槽，所述(Ig)固定瓣的上端附有(444)磁控或蒸發(fā)電極連接棒口，所述三瓣殼體鍍膜室的內(nèi)壁附有鋼衣。
[0006]所述的三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置，其特征在于所述(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架嵌固于(3-5) 二次公轉(zhuǎn)輪之上，之下嵌套(3-4) —次自轉(zhuǎn)輪且附有芯軸(3-9)一次自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)桿；(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架徑向任意均布排列η個(3-6) 二次自轉(zhuǎn)輪并附有芯軸(3-8)鍍件接掛轉(zhuǎn)桿；(3-6) 二次自轉(zhuǎn)輪由(3-5) 二次公轉(zhuǎn)輪驅(qū)動；
[0007]所述(3)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架通過(3-2) —次公轉(zhuǎn)輪的徑向任意均布排列η個(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架、其相應(yīng)配設(shè)η對(3-3) —次自轉(zhuǎn)介輪、(3-4) 一次自轉(zhuǎn)輪；
[0008]所述(44)磁控或蒸發(fā)電極連接棒一端嵌固于(3-1)固定輪，再固定于(2hl或2h2)活動瓣上，另一端固定于(5)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架上支撐板輪上與(Ig)固定瓣上(444)磁控或蒸發(fā)電極連接棒口對接，可多組對附設(shè)。
[0009]本發(fā)明解決其技術(shù)問題是:真空鍍膜室、鍍件轉(zhuǎn)架可連續(xù)交替工作，并鍍件轉(zhuǎn)架相對于鍍件可自由擴(kuò)展，節(jié)省能耗，提高效率和穩(wěn)定可靠性。[0010]本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:真空鍍膜室分解由三瓣殼體組合構(gòu)成，由二瓣殼體組合工作，配套雙鍍件轉(zhuǎn)架。受“伯力努”流體理論啟發(fā)，采用半圓柱鼎形二瓣殼體組合鍍膜室；雙鍍件轉(zhuǎn)架引用“行星輪系構(gòu)形”，在輪系的徑向處均布排列鍍件單元轉(zhuǎn)架。
[0011]本發(fā)明的有益效果是:真空鍍膜室分解由三瓣殼體組合構(gòu)成，由二瓣殼體組合工作，配套雙鍍件轉(zhuǎn)架實(shí)現(xiàn)可連續(xù)交替工作。受“伯力努”流體理論啟發(fā)，采用半圓柱鼎形二瓣殼體組合鍍膜室，實(shí)現(xiàn)密閉室體平滑連接消除死角，使真空鍍膜室的密閉型腔無湍流渦浪涌，大程度限制氣浪沖擊，限制真空鍍膜室的升壓率，節(jié)省真空達(dá)標(biāo)時(shí)間。雙鍍件轉(zhuǎn)架引用“行星輪系構(gòu)形”，在輪系的徑向處均布排列鍍件單元轉(zhuǎn)架，實(shí)現(xiàn)自由鍍件轉(zhuǎn)架擴(kuò)展，實(shí)現(xiàn)鍍件轉(zhuǎn)架任意調(diào)速。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1是本發(fā)明三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置裝配圖
[0013]圖2是本發(fā)明可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架裝配圖
[0014]下面結(jié)合附圖對發(fā)明進(jìn)一步說明。
【具體實(shí)施方式】
[0015]如圖1所示，三瓣殼體鍍膜室為半圓柱鼎形殼體，由(Ig)固定瓣的(11)基體法蘭兩軸向邊對稱鉸接(2hl、2h2)活動瓣的(11)基體法蘭各軸向邊，兩個(2hl、2h2)活動瓣交替輪回與(Ig)固定瓣組合成鍍膜室，所述三瓣殼體鍍膜室的三個瓣(Ig)和(2hl、2h2)其軸向截面為半圓殼體，其軸向兩端頭為半圓鼎形狀，其軸向切面附有(11)基體法蘭，基體法蘭附有(a)密封圈溝槽；所述(Ig)固定瓣附有與擴(kuò)散泵或分子泵(12)大閥法蘭接口及密封溝槽，所述(Ig)固定瓣的上端附有(444)磁控或蒸發(fā)電極連接棒口，所述三瓣殼體鍍膜室的內(nèi)壁附有鋼衣；
[0016]如圖2所示，(3)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架附設(shè)于三瓣殼體鍍膜室的兩個(2hl、2h2)活動瓣內(nèi)，交替輪回進(jìn)入鍍膜室工作，所述(3)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架引用“行星輪系構(gòu)形”，由(30q)調(diào)速電機(jī)驅(qū)動輪、(3-2) —次公轉(zhuǎn)輪、(3-3) —次自轉(zhuǎn)介輪、(3_1)固定輪、(3-4) 一次自轉(zhuǎn)輪、(3-5) 二次公轉(zhuǎn)輪、(3-6) 二次自轉(zhuǎn)輪、(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架、(3_8)鍍件接掛轉(zhuǎn)桿、(3-9) —次自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)桿、(5)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架上支撐板輪、(44)磁控或蒸發(fā)電極連接棒組成；
[0017]所述(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架嵌固于(3-5) 二次公轉(zhuǎn)輪之上，之下嵌套(3-4) —次自轉(zhuǎn)輪且附有芯軸(3-9) —次自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)桿；(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架徑向任意均布排列η個(3-6) 二次自轉(zhuǎn)輪并附有芯軸(3-8)鍍件接掛轉(zhuǎn)桿；(3-6) 二次自轉(zhuǎn)輪由(3-5) 二次公轉(zhuǎn)輪驅(qū)動；
[0018]所述(3)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架通過(3-2) —次公轉(zhuǎn)輪的徑向任意均布排列η個(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架、其相應(yīng)配設(shè)η對(3-3) —次自轉(zhuǎn)介輪、(3-4) 一次自轉(zhuǎn)輪；
[0019]所述(44)磁控或蒸發(fā)電極連接棒一端嵌固于(3-1)固定輪，再固定于(2hl或2h2)活動瓣上，另一端固定于(5)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架上支撐板輪上與(Ig)固定瓣上(444)磁控或蒸發(fā)電極連接棒口對接，可多組對附設(shè)。
【權(quán)利要求】
1.一種三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置，其包括三瓣殼體鍍膜室、可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架，其特征在于: 所述三瓣殼體鍍膜室由(Ig)固定瓣和(2hl、2h2)兩活動瓣組成，三瓣殼體組構(gòu)成真空鍍膜室；所述(3)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架由(30q)調(diào)速電機(jī)驅(qū)動輪、(3-2) —次公轉(zhuǎn)輪、(3-3) 一次自轉(zhuǎn)介輪、(3-1)固定輪、(3-4) —次自轉(zhuǎn)輪、(3-5) 二次公轉(zhuǎn)輪、(3_6) 二次自轉(zhuǎn)輪、(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架、(3-8)鍍件接掛轉(zhuǎn)桿、(3-9) —次自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)桿、(5)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架上支撐板輪、(44)磁控或蒸發(fā)電極連接棒組成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置，其特征在于所述三瓣殼體鍍膜室由(Ig)固定瓣的(11)基體法蘭兩軸向邊對稱鉸接(2hl、2h2)活動瓣的(11)基體法蘭各軸向邊，兩個(2hl、2h2)活動瓣交替輪回與(Ig)固定瓣組合成鍍膜室，所述三瓣殼體鍍膜室的三個瓣(Ig)和(2hl、2h2)其軸向截面為半圓殼體，其軸向兩端頭為半圓鼎形狀，其軸向切面附有(11)基體法蘭，基體法蘭附有(a)密封圈溝槽；所述(Ig)固定瓣附有與擴(kuò)散泵或分子泵(12)大閥法蘭接口及密封溝槽，所述(Ig)固定瓣的上端附有(444)磁控或蒸發(fā)電極連接棒口，所述三瓣殼體鍍膜室的內(nèi)壁附有鋼衣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置，其特征在于所述(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架嵌固于(3-5) 二次公轉(zhuǎn)輪之上，之下嵌套(3-4) —次自轉(zhuǎn)輪且附有芯軸(3-9) —次自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)桿；(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架徑向任意均布排列η個(3-6) 二次自轉(zhuǎn)輪并附有芯軸(3-8)鍍件接掛轉(zhuǎn)桿；(3-6) 二次自轉(zhuǎn)輪由(3-5) 二次公轉(zhuǎn)輪驅(qū)動； 所述(3)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架通過(3-2) —次公轉(zhuǎn)輪的徑向任意均布排列η個(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架、其相應(yīng)配設(shè)η對(3-3) —次自轉(zhuǎn)介輪、(3-4)排列η個(3_7)鍍件單元轉(zhuǎn)架、其相應(yīng)配設(shè)η對(3-3) —次自轉(zhuǎn)介輪、(3-4) 一次自轉(zhuǎn)輪； 所述(44)磁控或蒸發(fā)電極連接棒一端嵌固于(3-1)固定輪，再固定于(2hl或2h2)活動瓣上，另一端固定于(5)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架上支撐板輪上與(Ig)固定瓣上(444)磁控或蒸發(fā)電極連接棒口對接，可多組對附設(shè)。
【文檔編號】C23C14/22GK103668074SQ201210324191
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2012年9月4日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月4日
【發(fā)明者】陳娘洲 申請人:深圳市特藝實(shí)業(yè)有限公司