專利名稱：一種中頻濺射鍍膜機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種電鍍?cè)O(shè)備，特別是涉及一種中頻濺射鍍膜機(jī)。
背景技術(shù)：
在電鍍過(guò)程中，待鍍工件表面的清洗度有嚴(yán)格的要求，若待鍍工件表面清洗度達(dá)到要求，可提高膜層附著力，使膜層不容易掉落?，F(xiàn)有的電鍍工藝中，除了在電鍍前對(duì)待鍍工件表面進(jìn)行相關(guān)的表面處理，還可在電鍍中利用鍍膜設(shè)備上電弧靶的能量轟擊對(duì)待鍍工件表面做進(jìn)一步的處理。然而，當(dāng)待鍍工件表面的前處理不徹底或受到二次污染時(shí)，單純靠電弧靶的能量轟擊無(wú)法將待鍍工件表面清潔干凈，在完成電鍍后，工件表面的膜層的附著力不夠，很容易出現(xiàn)膜層掉落現(xiàn)象，使工件表面膜層的耐磨測(cè)試達(dá)不到要求。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種頻濺射鍍膜機(jī)，其能在電鍍過(guò)程中，進(jìn)一步清潔待鍍工件表面，在電鍍完成后，能提高膜層與工件表面間的附著力。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種中頻濺射鍍膜機(jī)，包括爐體以及安裝在爐體上的電弧靶，所述爐體的側(cè)壁上安裝有離子源，所述離子源上的離子體可穿過(guò)側(cè)壁伸入爐腔內(nèi)。進(jìn)一步作為本實(shí)用新型技術(shù)方案的改進(jìn)，所述爐體的側(cè)壁安裝有法蘭，所述離子源安裝于法蘭上。進(jìn)一步作為本實(shí)用新型技術(shù)方案的改進(jìn)，所述離子源為陰極層離子源。本實(shí)用新型的有益效果本實(shí)用新型通過(guò)在爐體側(cè)壁上安裝離子源，并可將離子源伸入爐體內(nèi)，在電鍍時(shí)，離子源的輝光區(qū)可發(fā)射離子體，轟擊待鍍工件的表面并對(duì)其進(jìn)行清潔，可提高待鍍工件表面的清潔度，可提高待鍍工件與膜層間的附著力，提高工件表面的膜層耐磨性。本實(shí)用新型可作為電鍍?cè)O(shè)備應(yīng)用在電鍍領(lǐng)域內(nèi)。

圖I是本實(shí)用新型的機(jī)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型的俯視圖。
具體實(shí)施方式
參照?qǐng)DI和圖2，一種中頻濺射鍍膜機(jī)，包括爐體I以及安裝在爐體I上的電弧靶 2，所述爐體I的側(cè)壁3上安裝有離子源4，所述離子源4上的離子體可穿過(guò)側(cè)壁3伸入爐腔 6內(nèi)。通過(guò)在爐體I側(cè)壁3上安裝離子源4，并可將離子源4伸入爐體內(nèi)，在電鍍時(shí)，離子源4的輝光區(qū)可發(fā)射離子體，轟擊待鍍工件的表面并對(duì)其進(jìn)行清潔，可提高待鍍工件表面的清潔度，可提高待鍍工件與膜層間的附著力，提高工件表面的膜層耐磨性。作為本實(shí)用新型優(yōu)選的實(shí)施方式，所述爐體I的側(cè)壁3安裝有法蘭5，所述離子源 4安裝于法蘭5上，可通過(guò)法蘭5提高離子源4和側(cè)壁3間的連接強(qiáng)度。作為本實(shí)用新型優(yōu)選的實(shí)施方式，所述離子源4為陰極層離子源。在陰極層離子源中，從熱陰極發(fā)射出來(lái)的電子經(jīng)過(guò)陰極鞘層被加速而獲得相應(yīng)于等離子與陰極電位差的能量，它與進(jìn)入電尚室的氣體原子相碰撞，氣體原子被碰撞電尚，形成尚子及二次電子，電子及離子形成放電室等離子體。該離子體可從離子源中射出并在電鍍過(guò)程中轟擊待鍍工件表面，可提高待鍍工件表面的清潔度，進(jìn)而提高待鍍工件與膜層間的附著力，提高工件表面的膜層耐磨性。當(dāng)然，本實(shí)用新型創(chuàng)造并不局限于上述實(shí)施方式，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不違背本實(shí)用新型精神的前提下還可作出等同變形或替換，這些等同的變型或替換均包含在本申請(qǐng)權(quán)利要求所限定的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種中頻濺射鍍膜機(jī)，包括爐體(I)以及安裝在爐體(I)上的電弧靶(2)，其特征在于所述爐體(I)的側(cè)壁(3)上安裝有離子源(4)，所述離子源(4)上的離子體可穿過(guò)側(cè)壁(3)伸入爐腔(6)內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的中頻濺射鍍膜機(jī)，其特征在于所述爐體(I)的側(cè)壁(3)安裝有法蘭(5)，所述離子源(4)安裝于法蘭(5)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的中頻濺射鍍膜機(jī)，其特征在于所述離子源(4)為陰極層離子源。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種中頻濺射鍍膜機(jī)，包括爐體以及安裝在爐體上的電弧靶，所述爐體的側(cè)壁上安裝有離子源，所述離子源上的離子體可穿過(guò)側(cè)壁伸入爐腔內(nèi)，所述爐體的側(cè)壁安裝有法蘭，所述離子源安裝于法蘭上，所述離子源為陰極層離子源。本實(shí)用新型通過(guò)在爐體側(cè)壁上安裝離子源，并可將離子源伸入爐體內(nèi)，在電鍍時(shí)，離子源的輝光區(qū)可發(fā)射離子體，轟擊待鍍工件的表面并對(duì)其進(jìn)行清潔，可提高待鍍工件表面的清潔度，可提高待鍍工件與膜層間的附著力，提高工件表面的膜層耐磨性。本實(shí)用新型可作為電鍍?cè)O(shè)備應(yīng)用在電鍍領(lǐng)域內(nèi)。
文檔編號(hào)C23C14/34GK202347086SQ201120440818
公開日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2011年11月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月9日
發(fā)明者蘇東藝 申請(qǐng)人:廣州今泰科技有限公司