專利名稱:等離子脫膜拋光機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及磨拋光技術(shù)領(lǐng)域,尤其是指一種等離子脫膜拋光機(jī)。
背景技術(shù):
現(xiàn)有的磨光技術(shù)都以機(jī)械方式為主,大致可分為粗磨,中磨及拋光三個(gè)程序。其中粗磨施工期間,需利用沙紙,沙輪及粗臘等除去附于工件上的硬質(zhì)氧化膜。由于粗磨需用較大的壓力而產(chǎn)生高溫,加上鋒利的研磨料,促使工件變型。鍛做或切削后的精細(xì)工件,往往在粗磨后變得線條模糊,變型等,浪費(fèi)了前工序的一翻心血。而利用等離子技術(shù)用作脫膜, 為后工序表面精光提供一個(gè)良好工作環(huán)境,保持工件原有形狀,達(dá)至光亮效果,生產(chǎn)質(zhì)量平均,減少生產(chǎn)時(shí)間及對(duì)于環(huán)境損害降至最小。再者,在人力節(jié)省方面,尤為優(yōu)勝。適合對(duì)于環(huán)境保護(hù),人身安全,質(zhì)量平均,減少人手失誤,無(wú)法以人手完成產(chǎn)品位置之工藝。傳統(tǒng)的化學(xué)拋光機(jī)包括裝有高溫和高電壓的化學(xué)溶液且與陰極相連的化學(xué)溶液槽、與陽(yáng)極電連接的掛具,拋光時(shí),化學(xué)拋光槽通電,拋光工件掛在掛具上并通電,將上述帶電的工件浸入化學(xué)拋光槽中進(jìn)行化學(xué)拋光,工件拋光完成后將掛具拉出化學(xué)拋光槽, 并將工件從掛具上取下來,整個(gè)化學(xué)拋光過程完成。由于化學(xué)拋光的速度很快,需要不斷重復(fù)地將掛有待拋光工件的掛具浸入化學(xué)拋光槽并將掛有已拋光好的工件的掛具拉起,在這個(gè)過程中,當(dāng)將掛具從化學(xué)拋光槽拉起、將已拋光工件從掛具上取下來并掛上待拋光工件的這一段時(shí)間里,化學(xué)拋光槽有將近一半的時(shí)間是處于空閑狀態(tài),傳統(tǒng)的化學(xué)拋光機(jī)具有成本高、效率低的缺點(diǎn)。等離子脫膜拋光操作工藝是在特定的浴液中將工件置于陽(yáng)極進(jìn)行等離子化,把表面氧化膜徹底清除,并同時(shí)整平金屬表面并使之產(chǎn)生光澤的加工過程。平坦及潔凈的金屬表面極易拋光,不會(huì)產(chǎn)生線紋,橙皮紋或波浪紋等,效果顯著。因此,市場(chǎng)上迫切需要一種成本低、效率高、拋光質(zhì)量好、可自動(dòng)進(jìn)行拋光處理的等離子脫膜拋光設(shè)備。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種成本低、效率高、拋光質(zhì)量好、可自動(dòng)進(jìn)行拋光處理的等離子脫膜拋光機(jī)。為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案等離子脫膜拋光機(jī),包括機(jī)架、控制系統(tǒng)、裝設(shè)于機(jī)架的升降機(jī)構(gòu)及裝設(shè)于機(jī)架的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),機(jī)架設(shè)置有離子拋光槽,所述升降機(jī)構(gòu)包括設(shè)置于機(jī)架的導(dǎo)柱、活動(dòng)設(shè)置于導(dǎo)柱的升降滑塊及升降臂,該升降滑塊設(shè)置有固定板,升降臂的一端與固定板連接,升降臂的另一端部設(shè)置有掛具;所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括電動(dòng)機(jī)、傳動(dòng)帶及用于支撐傳動(dòng)帶的從動(dòng)輪及裝設(shè)于電動(dòng)機(jī)的主動(dòng)輪,從動(dòng)輪和主動(dòng)輪分別靠近導(dǎo)柱的上下兩端。其中,所述控制系統(tǒng)包括控制電路、與控制電路電連接的上限位開關(guān)和與控制電路電連接的下限位開關(guān),上限位開關(guān)和下限位開關(guān)分別設(shè)置于導(dǎo)柱上端部和下端部。
3[0009]其中,所述控制系統(tǒng)包括整流電路,該整流電路的陽(yáng)極與離子拋光槽電連接,整流電路的陰極與掛具電連接。其中,所述機(jī)架設(shè)置有拋光機(jī)外殼,所述離子拋光槽的上方設(shè)置有安全門,該安全門與拋光機(jī)外殼活動(dòng)連接。其中,所述機(jī)架設(shè)置安全電磁閥,該安全電磁閥位于安全門旁側(cè)。其中,所述控制系統(tǒng)包括液位控制系統(tǒng),該液位控制系統(tǒng)包括進(jìn)水閥、設(shè)置于離子拋光槽內(nèi)的上液位傳感器及設(shè)置于離子拋光槽內(nèi)的下液位傳感器,進(jìn)水閥、上液位傳感器和下液位傳感器均與控制電路電連接。其中,所述控制系統(tǒng)包括控溫系統(tǒng),該控溫系統(tǒng)包括用于給離子拋光槽加熱的升溫機(jī)構(gòu)及設(shè)置于離子拋光槽內(nèi)的溫度傳感器,溫度傳感器與控制電路電連接。其中,所述控制系統(tǒng)包括設(shè)置于機(jī)架的循環(huán)排風(fēng)系統(tǒng),循環(huán)排風(fēng)系統(tǒng)包括排風(fēng)管道及與排風(fēng)管道連通的抽氣泵,排風(fēng)管道的入口位于離子拋光槽的上方。本實(shí)用新型的有益效果在于本實(shí)用新型提供了一種等離子脫膜拋光機(jī),包括機(jī)架、控制系統(tǒng)、裝設(shè)于機(jī)架的升降機(jī)構(gòu)及裝設(shè)于機(jī)架的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),機(jī)架設(shè)置有離子拋光槽, 所述升降機(jī)構(gòu)包括設(shè)置于機(jī)架的導(dǎo)柱、活動(dòng)設(shè)置于導(dǎo)柱的升降滑塊及升降臂,該升降滑塊設(shè)置有固定板,升降臂的一端與固定板連接,升降臂的另一端部設(shè)置有掛具;所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括電動(dòng)機(jī)、傳動(dòng)帶及用于支撐傳動(dòng)帶的從動(dòng)輪及裝設(shè)于電動(dòng)機(jī)的主動(dòng)輪,從動(dòng)輪和主動(dòng)輪分別靠近導(dǎo)柱的上下兩端。本實(shí)用新型所述等離子脫膜拋光機(jī)可進(jìn)行自動(dòng)化生產(chǎn),等離子拋光處理的加工時(shí)間比較恒定,方便用戶或管理人員制定詳細(xì)的生產(chǎn)計(jì)劃;此外,由于所述等離子脫膜拋光機(jī)操作是自動(dòng)化及使用高密度等離子工藝原理作業(yè),產(chǎn)品均能平均地完全脫膜,產(chǎn)生光澤,除毛刺,及保持工件形狀。對(duì)形狀復(fù)雜,陰暗位較多的工件尤為優(yōu)勝,實(shí)用性強(qiáng)。
圖1為本實(shí)用新型所述等離子脫膜拋光機(jī)的主視結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型所述等離子脫膜拋光機(jī)的左視結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本實(shí)用新型所述等離子脫膜拋光機(jī)的俯視構(gòu)示意圖。圖4為本實(shí)用新型所述升降機(jī)構(gòu)和驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的主視結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為本實(shí)用新型所述升降機(jī)構(gòu)和驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的左視結(jié)構(gòu)示意圖。圖6為本實(shí)用新型所述升降機(jī)構(gòu)和驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的俯視構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為了便于本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解,下面結(jié)合實(shí)施例與附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明,實(shí)施方式提及的內(nèi)容并非對(duì)本實(shí)用新型的限定。如圖1至圖6所示,一種等離子脫膜拋光機(jī),包括機(jī)架1、控制系統(tǒng)、裝設(shè)于機(jī)架1 的升降機(jī)構(gòu)及裝設(shè)于機(jī)架ι的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),機(jī)架1設(shè)置有離子拋光槽2,所述升降機(jī)構(gòu)包括設(shè)置于機(jī)架1的導(dǎo)柱3、活動(dòng)設(shè)置于導(dǎo)柱3的升降滑塊4及升降臂5,該升降滑塊4設(shè)置有固定板6,升降臂5的一端與固定板6連接,升降臂5的另一端部設(shè)置有掛具7 ;所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括電動(dòng)機(jī)8、傳動(dòng)帶9及用于支撐傳動(dòng)帶9的從動(dòng)輪10及裝設(shè)于電動(dòng)機(jī)8的主動(dòng)輪11,
4從動(dòng)輪10和主動(dòng)輪11分別靠近導(dǎo)柱3的上下兩端。在進(jìn)行拋光處理時(shí),在控制系統(tǒng)的控制下,電動(dòng)機(jī)8帶動(dòng)主動(dòng)輪11正向轉(zhuǎn)動(dòng),并帶動(dòng)傳動(dòng)帶9運(yùn)轉(zhuǎn),以驅(qū)動(dòng)升降滑塊4向下滑動(dòng),從而帶動(dòng)固定板6及升降臂5 —起向下移動(dòng), 進(jìn)而將被拋光的工件放入離子拋光槽2的拋光溶液內(nèi)進(jìn)行等離子拋光處理;工件置于陽(yáng)極進(jìn)行等離子化,把表面氧化膜徹底清除,并同時(shí)整平金屬表面并使之產(chǎn)生光澤。平坦及潔凈的金屬表面極易拋光,不會(huì)產(chǎn)生線紋,橙皮紋或波浪紋等,效果顯著;等離子拋光處理完成后,在控制系統(tǒng)的控制下,電動(dòng)機(jī)8帶動(dòng)主動(dòng)輪11反向轉(zhuǎn)動(dòng),并帶動(dòng)傳動(dòng)帶9反向運(yùn)轉(zhuǎn), 以驅(qū)動(dòng)升降滑塊4向上滑動(dòng),從而帶動(dòng)固定板6及升降臂5 —起向上移動(dòng),進(jìn)而將工件從離子拋光槽2的拋光溶液中取出,卸下處理好的工件,以便于準(zhǔn)備對(duì)下一個(gè)工件進(jìn)行等離子拋光處理。本實(shí)用新型所述等離子脫膜拋光機(jī)可進(jìn)行自動(dòng)化生產(chǎn),等離子拋光處理的加工時(shí)間比較恒定,方便用戶或管理人員制定詳細(xì)的生產(chǎn)計(jì)劃;此外,由于所述等離子脫膜拋光機(jī)操作是自動(dòng)化及使用高密度等離子工藝原理作業(yè),產(chǎn)品均能平均地完全脫膜,產(chǎn)生光澤, 除毛刺,及保持工件形狀。對(duì)形狀復(fù)雜,陰暗位較多的工件尤為優(yōu)勝,實(shí)用性強(qiáng)。本實(shí)施例的所述控制系統(tǒng)包括控制電路、與控制電路電連接的上限位開關(guān)和與控制電路電連接的下限位開關(guān),上限位開關(guān)和下限位開關(guān)分別設(shè)置于導(dǎo)柱3上端部和下端部。具體的,所述控制系統(tǒng)包括整流電路,該整流電路的陽(yáng)極與離子拋光槽2電連接,整流電路的陰極與掛具7電連接。開始工作時(shí),在控制電路的作用下整流電路給掛具7通電, 并在升降機(jī)構(gòu)及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的共同作用下,掛具7下降并逐漸浸入到離子拋光槽2的高溫等離子脫膜拋光溶液中,掛具7上的工件開始拋光,當(dāng)?shù)入x子拋光完成時(shí),在升降機(jī)構(gòu)的作用下掛具7上升并逐漸離開離子拋光槽2,當(dāng)掛具7達(dá)到適當(dāng)高度后,在驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的控制下,升降機(jī)構(gòu)暫停運(yùn)轉(zhuǎn),掛具7停止上升,與此同時(shí),在控制電路的作用下掛具7斷電,以減小電能損失。優(yōu)選的實(shí)施例方式是所述整流機(jī)的輸入電壓為380伏特,輸出電壓介于200伏特至400伏特之間,輸出電流介于100安培至2000安培之間;高溫離子拋光溶液的溫度介于70攝氏度至100攝氏度之間。在上述輸出電壓、輸出電流和離子拋光溶液溫度的范圍內(nèi),工件離子拋光的效果更好、效率更高。本實(shí)施例的所述機(jī)架1設(shè)置有拋光機(jī)外殼,所述離子拋光槽2的上方設(shè)置有安全門,該安全門與拋光機(jī)外殼活動(dòng)連接。具體的,所述機(jī)架1設(shè)置安全電磁閥,該安全電磁閥位于安全門旁側(cè),安全電磁閥與控制電路電連接。當(dāng)安全門被打開時(shí),安全電磁閥斷開,所述等離子脫膜拋光機(jī)無(wú)法啟動(dòng);必須安全門被關(guān)好時(shí),等離子脫膜拋光機(jī)才能正常啟動(dòng)。 由于等離子拋光工作都是在高電壓高電流下工作,而安全門的設(shè)立,可以保證整個(gè)系統(tǒng)工作時(shí)工作人員的安全,消除了等離子拋光過程中的安全隱患,有效地預(yù)防了意外的發(fā)生,安全性能高。本實(shí)施例的所述控制系統(tǒng)包括液位控制系統(tǒng),該液位控制系統(tǒng)包括進(jìn)水閥、設(shè)置于離子拋光槽2內(nèi)的上液位傳感器及設(shè)置于離子拋光槽2內(nèi)的下液位傳感器,進(jìn)水閥、上液位傳感器和下液位傳感器均與控制電路電連接。上液位傳感器和下液位傳感器用于檢測(cè)離子拋光槽2內(nèi)的高溫離子拋光溶液的液面高度,當(dāng)離子拋光槽2內(nèi)的高溫離子拋光溶液過少時(shí),下液位傳感器將該信息反饋給控制電路,進(jìn)水閥在控制電路的控制下開啟,以便于給
5離子拋光槽2內(nèi)補(bǔ)充拋光溶液,當(dāng)離子拋光槽2內(nèi)的高溫離子拋光溶液的液面高度達(dá)到上液位傳感器的檢測(cè)高度時(shí),上液位傳感器將該信息反饋給控制電路,進(jìn)水閥在控制電路的控制下關(guān)閉,以停止補(bǔ)充拋光溶液。本實(shí)施例的所述控制系統(tǒng)包括控溫系統(tǒng),該控溫系統(tǒng)包括用于給離子拋光槽2加熱的升溫機(jī)構(gòu)及設(shè)置于離子拋光槽2內(nèi)的溫度傳感器,溫度傳感器與控制電路電連接。溫度傳感器用于檢測(cè)離子拋光槽2內(nèi)的高溫離子拋光溶液的溫度,當(dāng)拋光溶液的溫度過低時(shí),升溫機(jī)構(gòu)給離子拋光槽2加熱,當(dāng)拋光溶液的溫度達(dá)到設(shè)定的溫度范圍時(shí),升溫機(jī)構(gòu)停止給離子拋光槽2加熱,使拋光溶液的溫度一直處于設(shè)定的溫度范圍內(nèi),保證等離子拋光高效高質(zhì)地進(jìn)行。本實(shí)施例的所述控制系統(tǒng)包括設(shè)置于機(jī)架1的循環(huán)排風(fēng)系統(tǒng),循環(huán)排風(fēng)系統(tǒng)包括排風(fēng)管道12及與排風(fēng)管道12連通的抽氣泵13,排風(fēng)管道12的入口位于離子拋光槽2的上方。當(dāng)工件浸入離子拋光槽2并進(jìn)行離子拋光時(shí),離子拋光槽2會(huì)發(fā)生激烈的等離子化學(xué)反應(yīng)和電化學(xué)反應(yīng),在這個(gè)過程中,離子拋光槽2會(huì)放出蒸氣和氣體,在離子拋光槽2上方設(shè)立循環(huán)排風(fēng)系統(tǒng),使得上述反應(yīng)產(chǎn)生的氣體和蒸氣能夠及時(shí)的排放出去,以防止太過的氣體阻礙離子拋光工藝,實(shí)用性強(qiáng)。本實(shí)施例中的控制系統(tǒng)還包括觸摸屏控制系統(tǒng)、循環(huán)排風(fēng)系統(tǒng)、計(jì)數(shù)系統(tǒng)和變頻調(diào)速系統(tǒng),觸摸屏控制系統(tǒng)包括手動(dòng)操作面板和觸摸屏操作面板,便于進(jìn)行人機(jī)對(duì)話和控制操作,方便工作人員直接通過操作面板下達(dá)運(yùn)行指令,設(shè)定拋光時(shí)間值和拋光溫度值; 計(jì)數(shù)系統(tǒng)記錄離子拋光機(jī)系統(tǒng)完成離子拋光工件的件數(shù);變頻調(diào)速系統(tǒng)控制掛具7的升降速度;本實(shí)用新型所述等離子脫膜拋光機(jī)可以對(duì)不同類型、不同大小的工件進(jìn)行離子拋光,由于不同種類的工件的重量各有不同,而設(shè)定變頻調(diào)速系統(tǒng)可以自由的調(diào)節(jié)掛具7 上升和下降的速度。而計(jì)數(shù)系統(tǒng)則可以記錄在一段時(shí)間內(nèi),離子拋光機(jī)系統(tǒng)完成的工作量,方便工作人員進(jìn)行統(tǒng)計(jì)、記錄工作,實(shí)用性更強(qiáng)。上述實(shí)施例為本實(shí)用新型較佳的實(shí)現(xiàn)方案之一,除此之外,本實(shí)用新型還可以其它方式實(shí)現(xiàn),在不脫離本實(shí)用新型發(fā)明構(gòu)思的前提下任何顯而易見的替換均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.等離子脫膜拋光機(jī),包括機(jī)架(1)、控制系統(tǒng)、裝設(shè)于機(jī)架(1)的升降機(jī)構(gòu)及裝設(shè)于機(jī)架(1)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),機(jī)架(1)設(shè)置有離子拋光槽(2),其特征在于所述升降機(jī)構(gòu)包括設(shè)置于機(jī)架(1)的導(dǎo)柱(3)、活動(dòng)設(shè)置于導(dǎo)柱(3)的升降滑塊(4)及升降臂(5),該升降滑塊(4) 設(shè)置有固定板(6),升降臂(5)的一端與固定板(6)連接,升降臂(5)的另一端設(shè)置有掛具 (7);所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括電動(dòng)機(jī)(8)、傳動(dòng)帶(9)、用于支撐傳動(dòng)帶(9)的從動(dòng)輪(10)及裝設(shè)于電動(dòng)機(jī)(8)的主動(dòng)輪(11),從動(dòng)輪(10)和主動(dòng)輪(11)分別靠近導(dǎo)柱(3)的上下兩端。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子脫膜拋光機(jī),其特征在于所述控制系統(tǒng)包括控制電路、與控制電路電連接的上限位開關(guān)和與控制電路電連接的下限位開關(guān),上限位開關(guān)和下限位開關(guān)分別設(shè)置于導(dǎo)柱(3)上端部和下端部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子脫膜拋光機(jī),其特征在于所述控制系統(tǒng)包括整流電路,該整流電路的陽(yáng)極與離子拋光槽(2)電連接,該整流電路的陰極與掛具(7)電連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子脫膜拋光機(jī),其特征在于所述機(jī)架(1)設(shè)置有拋光機(jī)外殼,所述離子拋光槽(2 )的上方設(shè)置有安全門,該安全門與拋光機(jī)外殼活動(dòng)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子脫膜拋光機(jī),其特征在于所述機(jī)架(1)設(shè)置安全電磁閥,該安全電磁閥位于安全門旁側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子脫膜拋光機(jī),其特征在于所述控制系統(tǒng)包括液位控制系統(tǒng),該液位控制系統(tǒng)包括進(jìn)水閥、設(shè)置于離子拋光槽(2)內(nèi)的上液位傳感器及設(shè)置于離子拋光槽(2)內(nèi)的下液位傳感器,進(jìn)水閥、上液位傳感器和下液位傳感器均與控制電路電連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子脫膜拋光機(jī),其特征在于所述控制系統(tǒng)包括控溫系統(tǒng),該控溫系統(tǒng)包括用于給離子拋光槽(2)加熱的升溫機(jī)構(gòu)及設(shè)置于離子拋光槽(2)內(nèi)的溫度傳感器,溫度傳感器與控制電路電連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子脫膜拋光機(jī),其特征在于所述控制系統(tǒng)包括設(shè)置于機(jī)架(1)的循環(huán)排風(fēng)系統(tǒng),循環(huán)排風(fēng)系統(tǒng)包括排風(fēng)管道(12)及與排風(fēng)管道(12)連通的抽氣泵(13),排風(fēng)管道(12)的入口位于離子拋光槽(2)的上方。
專利摘要本實(shí)用新型涉及磨拋光技術(shù)領(lǐng)域,尤其是指一種等離子脫膜拋光機(jī),包括機(jī)架、控制系統(tǒng)、升降機(jī)構(gòu)及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),機(jī)架設(shè)置有離子拋光槽,所述升降機(jī)構(gòu)包括設(shè)置于機(jī)架的導(dǎo)柱、活動(dòng)設(shè)置于導(dǎo)柱的升降滑塊及升降臂,該升降滑塊設(shè)置有固定板,升降臂的一端與固定板連接,升降臂的另一端部設(shè)置有掛具;所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括電動(dòng)機(jī)、傳動(dòng)帶及用于支撐傳動(dòng)帶的從動(dòng)輪及裝設(shè)于電動(dòng)機(jī)的主動(dòng)輪,從動(dòng)輪和主動(dòng)輪分別靠近導(dǎo)柱的上下兩端。本實(shí)用新型所述等離子脫膜拋光機(jī)可進(jìn)行自動(dòng)化生產(chǎn),產(chǎn)品均能平均地完全脫膜,產(chǎn)生光澤,除毛刺,及保持工件形狀,實(shí)用性強(qiáng)。
文檔編號(hào)B24B27/033GK202070991SQ20112005415
公開日2011年12月14日 申請(qǐng)日期2011年3月3日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月3日
發(fā)明者李子恒 申請(qǐng)人:李子恒