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分流器的制作方法

文檔序號(hào):3414135閱讀:328來源:國知局
專利名稱:分流器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種分流器,尤其涉及一種應(yīng)用于真空濺鍍設(shè)備的分流器。
背景技術(shù)
一般金屬鍍膜大都采用真空濺鍍設(shè)備進(jìn)行濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將Il氣(Ar)離子撞擊祀材(target)表面,電衆(zhòng)中的陽離子加速?zèng)_向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面,使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在工件上形成薄膜。真空濺鍍形成的薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,因此得到廣泛應(yīng)用。因?yàn)闅怏w難以在真空室內(nèi)完全均勻,只能局部相對(duì)均勻,所以存在一個(gè)鍍膜有效區(qū)。在這個(gè)鍍膜有效區(qū)以外的空間形成的薄膜質(zhì)量就達(dá)不到要求。但是,現(xiàn)有的真空濺鍍設(shè)備的鍍膜有效區(qū)較小,一次難 以濺鍍較多的工件。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述問題,有必要提供可以擴(kuò)大鍍膜有效區(qū)的分流器。一種分流器,應(yīng)用于真空濺鍍設(shè)備,其包括機(jī)體和設(shè)于機(jī)體的金屬罩;該機(jī)體開設(shè)抽氣口,該金屬罩將該抽氣口罩??;該金屬罩開設(shè)若干通孔讓氣體通過;該金屬罩上間隔設(shè)置若干擋板,這些擋板遮擋部分所述通孔,以調(diào)整進(jìn)入抽氣口的氣體。上述分流器通過在帶孔的金屬罩上間隔設(shè)置擋板,從而調(diào)整氣流的均勻分布,有效擴(kuò)大了鍍膜有效區(qū)域,方便一次對(duì)多個(gè)工件進(jìn)行鍍膜。


圖I為本發(fā)明較佳實(shí)施方式分流器的剖視示意 圖2為圖I所示的金屬罩的立體示意 圖3為圖I所示分流器沿III-III線的剖視圖。主要元件符號(hào)說明
權(quán)利要求
1.一種分流器,應(yīng)用于真空濺鍍設(shè)備,其特征在于該分流器包括機(jī)體和設(shè)于機(jī)體的金屬罩,該機(jī)體開設(shè)抽氣口,該金屬罩將該抽氣口罩?。辉摻饘僬珠_設(shè)若干通孔讓氣體通過;該金屬罩上間隔設(shè)置若干擋板,這些擋板遮擋部分所述通孔,以調(diào)整進(jìn)入抽氣口的氣體。
2.如權(quán)利要求I所述的分流器,其特征在于該金屬罩設(shè)有調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),該擋板通過該調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)整在該金屬罩的位置。
3.如權(quán)利要求2所述的分流器,其特征在于該通孔的直徑范圍為0.5_-50_,孔中心距范圍為2mm-50mm。
4.如權(quán)利要求3所述的分流器,其特征在于該金屬罩的寬度比抽氣口寬10mm-300mm,金屬罩的厚度范圍為0. 5mm-10mm。
5.如權(quán)利要求I至4任一項(xiàng)所述的分流器,其特征在于該機(jī)體圍成一容置腔,該容置 腔內(nèi)設(shè)置轉(zhuǎn)架。
6.如權(quán)利要求5所述的分流器,其特征在于該容置腔在該機(jī)體與轉(zhuǎn)架之間設(shè)置進(jìn)氣管,該進(jìn)氣管間隔開設(shè)若干針孔。
7.如權(quán)利要求6所述的分流器,其特征在于該轉(zhuǎn)架包括間隔設(shè)置的豎桿,每根豎桿上設(shè)有若干支架。
8.如權(quán)利要求5所述的分流器,其特征在于該轉(zhuǎn)架由導(dǎo)電性材料制成,該轉(zhuǎn)架與電源連接,形成負(fù)電壓。
9.如權(quán)利要求I所述的分流器,其特征在于該機(jī)體位于金屬罩二側(cè)設(shè)有靶材。
全文摘要
本發(fā)明關(guān)于一種分流器,應(yīng)用于真空濺鍍設(shè)備,其包括機(jī)體和設(shè)于機(jī)體的金屬罩。該機(jī)體開設(shè)抽氣口,該金屬罩將該抽氣口罩住。該金屬罩開設(shè)若干通孔讓氣體通過。該金屬罩上間隔設(shè)置若干擋板,這些擋板遮擋部分所述通孔,以調(diào)整進(jìn)入抽氣口的氣體。上述分流器通過在帶孔的金屬罩上間隔設(shè)置擋板,從而調(diào)整氣流的均勻分布,有效擴(kuò)大了鍍膜有效區(qū)域,方便一次對(duì)多個(gè)工件進(jìn)行鍍膜。
文檔編號(hào)C23C14/34GK102758185SQ20111011067
公開日2012年10月31日 申請(qǐng)日期2011年4月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月29日
發(fā)明者姜傳華, 李旭, 潘海波, 陳甲林, 黃義均 申請(qǐng)人:深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司
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