專利名稱：殼體及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種殼體及其制作方法，尤其是關(guān)于一種具有幻彩及金屬質(zhì)感外觀的殼體及該殼體的制作方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有電子產(chǎn)品(如手機(jī)、PDA等)的殼體常被鍍覆一金屬層或金屬氧化物層而使產(chǎn)品具有金屬質(zhì)感，從而吸引消費(fèi)者眼球。該金屬層通常以不導(dǎo)電電鍍的方式形成，因該金屬層不導(dǎo)電，從而可避免其對信號(hào)產(chǎn)生干擾。該不導(dǎo)電的金屬層或金屬氧化物層通常為透明狀，其形成于殼體上之后，與殼體的基材或形成于殼體上的其他油漆層共同使得殼體呈現(xiàn)出彩色的具金屬質(zhì)感的外觀。 然而，上述殼體雖然具有彩色的金屬質(zhì)感外觀，卻不能呈現(xiàn)出具有幻彩外觀，其外觀吸引力不強(qiáng)，難以使產(chǎn)品具備較強(qiáng)的競爭力。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于此，有必要提供一種具有幻彩及金屬質(zhì)感外觀的殼體。另外，還要必要提供一種上述殼體的制作方法?！N殼體,其包括基體及形成于基體表面的金屬質(zhì)感層，該金屬質(zhì)感層為多層第一薄膜層與多層第二薄膜層交替層疊而形成的復(fù)合層，所述第一薄膜層的材料選自氧化鈦、鐵的氧化物、氧化鋯、氧化錫及氧化鋅中的至少一種；所述第二薄膜層的材料為氧化鋁或氧化硅。一種殼體的制作方法，其包括如下步驟
提供基體；
通過真空鍍膜方式，于該基體的表面形成金屬質(zhì)感層，所述金屬質(zhì)感層為多層第一薄膜層與多層第二薄膜層交替層疊而形成的復(fù)合層，所述第一薄膜層的材料選自氧化鈦、鐵的氧化物、氧化鋯、氧化錫及氧化鋅中的至少一種；所述第二薄膜層的材料為氧化鋁或氧化硅。由于所述金屬質(zhì)感層中第一薄膜層的折射率與第二薄膜層的折射率相差較大，使金屬質(zhì)感層對外部光線產(chǎn)生較高的反射性，其反射光在空間可形成多個(gè)干涉加強(qiáng)區(qū)而產(chǎn)生幻彩效果，使所述殼體呈現(xiàn)出強(qiáng)烈的幻彩及金屬質(zhì)感外觀的效果，給人以一種時(shí)尚化及美的享受，極大地提高了產(chǎn)品的外觀吸引力及競爭力。


圖I為本發(fā)明一較佳實(shí)施方式殼體的剖視不意圖。主要元件符號(hào)說明
殼體110
基體TT
金屬質(zhì)感層 1權(quán)利要求
1.一種殼體，其包括基體及形成于基體表面的金屬質(zhì)感層，該金屬質(zhì)感層為多層第一薄膜層與多層第二薄膜層交替層疊而形成的復(fù)合層，其特征在于所述第一薄膜層的材料選自氧化鈦、鐵的氧化物、氧化鋯、氧化錫及氧化鋅中的至少一種；所述第二薄膜層的材料為氧化鋁或氧化硅。
2.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于與所述基體直接接觸的為第一薄膜層。
3.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述金屬質(zhì)感層的最外層為第一薄膜層或第二薄膜層。
4.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述金屬質(zhì)感層的厚度為0.5-2 ym。
5.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述第一薄膜層與第二薄膜層的總層數(shù)為6-10 層。
6.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述基體的材質(zhì)為塑料、玻璃、陶瓷或金屬。
7.一種殼體的制作方法，其包括如下步驟 提供基體； 通過真空鍍膜方式，于該基體的表面形成金屬質(zhì)感層，所述金屬質(zhì)感層為多層第一薄膜層與多層第二薄膜層交替層疊而形成的復(fù)合層，所述第一薄膜層的材料選自氧化鈦、鐵的氧化物、氧化鋯、氧化錫及氧化鋅中的至少一種；所述第二薄膜層的材料為氧化鋁或氧化硅。
8.如權(quán)利要求7所述的殼體的制作方法，其特征在于真空鍍膜形成該金屬質(zhì)感層包括如下步驟 選擇Ti、Fe、Zr、Sn及Zn的任一種材料為靶材，以氧氣為反應(yīng)氣體，于該基體上鍍覆第一薄膜層； 以硅靶或鋁靶為靶材，以氧氣為反應(yīng)氣體，于該第一薄膜層上鍍覆第二薄膜層； 重復(fù)所述鍍覆第一薄膜層及第二薄膜層的步驟，于所述基體上交替鍍覆多層第一薄膜層和多層第二薄膜層。
9.如權(quán)利要求8所述的殼體的制作方法，其特征在于鍍覆所述第一薄膜層的工藝參數(shù)為氧氣的流量為3(T200sCCm，以氬氣為工作氣體，其流量為lOOlOOsccm，所述靶材的電源功率為2 8kw，于基體上施加-5(T-200V的偏壓，濺射溫度為5(T200°C，濺射時(shí)間為5 50mino
10.如權(quán)利要求8所述的殼體的制作方法，其特征在于鍍覆所述第二薄膜層的工藝參數(shù)為氧氣的流量為3(T200sCCm，以氬氣為工作氣體，其流量為10(T300SCCm，所述靶材的電源功率為2 8kw，于基體上施加-5(T-200V的偏壓，濺射溫度為5(T200°C，濺射時(shí)間為5 60mino
全文摘要
本發(fā)明提供一種殼體，其包括基體及形成于基體表面的金屬質(zhì)感層，該金屬質(zhì)感層為多層第一薄膜層與多層第二薄膜層交替層疊而形成的復(fù)合層，所述第一薄膜層的材料選自氧化鈦、鐵的氧化物、氧化鋯、氧化錫及氧化鋅中的至少一種；所述第二薄膜層的材料為氧化鋁或氧化硅。該殼體具有幻彩及金屬質(zhì)感外觀。本發(fā)明還要提供一種上述殼體的制作方法。
文檔編號(hào)C23C14/10GK102740615SQ20111008132
公開日2012年10月17日 申請日期2011年4月1日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月1日
發(fā)明者張娟, 張新倍, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司