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采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法

文檔序號(hào):3344704閱讀:334來(lái)源:國(guó)知局
專(zhuān)利名稱(chēng):采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法。
背景技術(shù)
先前技術(shù)所鍍氧化錫膜主要用于制備導(dǎo)電薄膜、ITO膜,膜層具有低表面電阻、高 透光率、低比電阻值等特性、圖案加工性、電化學(xué)安定性。ITO膜主要應(yīng)用在觸摸元件、透明 加熱元件、抗靜電膜、電磁波防護(hù)膜、太陽(yáng)能電池之透明電極、防反光塗佈及熱反射鏡等電 子、光學(xué)及光電裝置上。但是現(xiàn)有的鍍膜工藝其鍍膜顏色過(guò)于單一,色彩是通過(guò)色粉或顏料 簡(jiǎn)單調(diào)色而成,時(shí)間長(zhǎng)久后,易褪色,而且不能達(dá)到膜層表面的不導(dǎo)電,會(huì)影響電子產(chǎn)品的 射頻通訊。雖然有些鍍膜工藝克服了光反射差,易褪色的問(wèn)題,但是其工藝非常復(fù)雜,例如 申請(qǐng)?zhí)枮?9246379. 3的專(zhuān)利,其使用真空磁控濺射法生產(chǎn)紫色鍍膜玻璃,其紫色很鮮艷, 顏色濃淡可隨意調(diào)節(jié),可見(jiàn)光反射率和透射率可隨意調(diào)節(jié)。但是其膜層結(jié)構(gòu)為4層膜復(fù)合, 工藝較為復(fù)雜,各膜層厚度變化均會(huì)影響產(chǎn)品的質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明的目的是提供一種采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法,能實(shí)現(xiàn)所 鍍膜層為單層氧化錫膜,其反射光顏色為多種單色光,而且附著力強(qiáng)、不導(dǎo)電。本發(fā)明的采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法,其特征在于在真空室中,通入工作氣 體Ar和O2,借由真空室內(nèi)設(shè)置的陰極錫靶材和陽(yáng)極基板電離出Ar+離子,該離子受到電場(chǎng) 加速具有高能量后,轟擊陰極錫靶材表面,將離子動(dòng)量轉(zhuǎn)移給錫靶材原子,錫靶材原子獲得 動(dòng)量后逸出靶材表面,在電場(chǎng)作用下,與化反應(yīng)形成氧化錫并附著于陽(yáng)極基板上成膜。本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)
(1)通過(guò)改變氧化錫薄膜的折射率和厚度使產(chǎn)品產(chǎn)生某一特定顏色;產(chǎn)品顏色為膜 層折射或反射不同波長(zhǎng)的光而產(chǎn)生,不易褪色,外觀看起來(lái)具有絢麗的金屬反光色澤,特別 高雅美觀;可通過(guò)調(diào)節(jié)膜層厚度及折射率,制成銀白色、粉紅、綠色、藍(lán)色和金黃色等產(chǎn)品;
(2)業(yè)界NCVM主要應(yīng)用于電子產(chǎn)品外殼鍍制一層金屬或金屬氧化物,以達(dá)到反光顏 色為多種單色光的目的。本發(fā)明則是主要應(yīng)用于電子產(chǎn)品顯示屏幕,以達(dá)到反光顏色為多 種單色光的目的;
(3)所鍍膜層為單層氧化錫膜,工藝簡(jiǎn)單,成本降低;
(4)膜層電阻109Ω以上,為不導(dǎo)電層,不影響射頻通訊;膜層附著力好,具有很好的 物理性能及耐候性。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明提供一種采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法,其特征在于在真空室中,通入 工作氣體Ar和O2,借由真空室內(nèi)設(shè)置的陰極錫靶材和陽(yáng)極基板電離出Ar+離子,該離子受到 電場(chǎng)加速具有高能量后,轟擊陰極錫靶材表面,將離子動(dòng)量轉(zhuǎn)移給錫靶材原子,錫靶材原子獲得動(dòng)量后逸出靶材表面,在電場(chǎng)作用下,與A反應(yīng)形成氧化錫并附著于陽(yáng)極基板上成膜。這里要說(shuō)明的是,本發(fā)明的方法在實(shí)施前,跟業(yè)界產(chǎn)品鍍膜的方式類(lèi)似,都要將基 片進(jìn)行前處理,包括純清水洗凈一超音波溶劑清洗一超音波純水清洗一烘干;然后裝夾于 治具上一電槍除塵一本發(fā)明的磁控濺射一印刷油墨一烘烤一清潔一檢查一包裝。這里我 們就以手機(jī)顯示屏幕為例,對(duì)于詳細(xì)的操作我們就不進(jìn)行分析介紹。手機(jī)顯示屏幕的鍍膜包括
(1)基片前處理,該工序的目的是為了除去基片表面的灰塵、油膩、白點(diǎn)、指紋;
(2)裝夾于治具上;
(3)電槍除塵,目的是在濺鍍前再次除去基片上的灰塵,增加膜層的附著力;
(4)Sputter coating,在基片鍍氧化錫膜層;
(5)印刷油墨,在膜層表面周?chē)W(wǎng)印一層帶logo黑色油墨,同時(shí)起保護(hù)膜層的作 用及使膜層在油墨底色的映照下,呈現(xiàn)絢麗的金屬顏色光澤;
(6)烘烤,在160°C烘箱內(nèi),烘烤0. ,該工藝主要為了干燥固化油墨;
(7)清潔,用酒精擦拭去除不潔、異物等;
(8)檢查,確認(rèn)是否存在刮擦傷、白點(diǎn)、顏色不均等不良;
(9)包裝。值得一提的是,采用本發(fā)明實(shí)現(xiàn)的氧化錫膜的反光顏色包括金黃色、銀白色、粉 紅色、藍(lán)色以及綠色等。該些反光顏色可通過(guò)改變氧化錫膜的厚度實(shí)現(xiàn)。這里我們以金黃 色為例,所述濺射的起始?jí)毫?. 50E-05托,濺射過(guò)程中的壓力為1.80E-03托,我們將陽(yáng) 極基板設(shè)為靜止的,把陰極錫靶材設(shè)為運(yùn)動(dòng)的,在制程中,我們將陰極錫靶材的運(yùn)行速度設(shè) 定為18 mm/s,加于陰極錫靶材上面的電功率為0. 6KW,通入的Ar氣速度為105ml/min,通 入的化氣速度為8ml/min,經(jīng)過(guò)4趟的濺射處理,所述的趟數(shù)是指靶材從起點(diǎn)到終點(diǎn),或者 從終點(diǎn)到起點(diǎn)為一趟,往返為兩趟,即可作出反光顏色為金黃色NCVM。表一是列出了生成其他幾種顏色,所需要的較佳的條件,可見(jiàn),本發(fā)明制備不同顏 色的方法是通過(guò)改變氧化錫膜的厚度實(shí)現(xiàn)。
顏色速度(mm/s)功率(kw)趟數(shù)O2 (ml/min)Ar (ml/min)起始?jí)毫?托)制程壓力(托)銀白色180. 6401057. 50E-051. 80E-03黃色180. 6581057. 50E-051. 80E-03藍(lán)色180. 6981057. 50E-051. 80E-03綠色180. 61081057. 50E-051. 80E-03粉紅180. 6881057. 50E-051. 80E-03表一
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,凡依本發(fā)明申請(qǐng)專(zhuān)利范圍所做的均等變化與修 飾,皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
權(quán)利要求
1.一種采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法,其特征在于在真空室中,通入工作氣體Ar 和O2,借由真空室內(nèi)設(shè)置的陰極錫靶材和陽(yáng)極基板電離出Ar+離子,該離子受到電場(chǎng)加速具 有高能量后,轟擊陰極錫靶材表面,將離子動(dòng)量轉(zhuǎn)移給錫靶材原子,錫靶材原子獲得動(dòng)量后 逸出靶材表面,在電場(chǎng)作用下,與化反應(yīng)形成氧化錫并附著于陽(yáng)極基板上成膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法,其特征在于所述的氧化 錫膜的反光顏色包括金黃色、銀白色、粉紅色、藍(lán)色以及綠色。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法,其特征在于所述的氧化 錫膜的反光顏色是通過(guò)改變氧化錫膜的厚度實(shí)現(xiàn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法,其特征在于所述濺射的 起始?jí)毫?· 50Ε-05托,濺射過(guò)程中的壓力為1· 80Ε-03托。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法,其特征在于所述的陰極 錫靶材是運(yùn)動(dòng)的,所述的陽(yáng)極基板是靜止的,在制備反光顏色為金黃色的氧化錫膜時(shí),所述 的陰極錫靶材的運(yùn)行速度為18 mm/s,加于陰極錫靶材上面的電功率為0.6KW,通入的Ar氣 速度為105ml/min,通入的02氣速度為8ml/min。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法,其特征在于在真空室中,通入工作氣體Ar和O2,借由真空室內(nèi)設(shè)置的陰極錫靶材和陽(yáng)極基板電離出Ar+離子,該離子受到電場(chǎng)加速具有高能量后,轟擊陰極錫靶材表面,將離子動(dòng)量轉(zhuǎn)移給錫靶材原子,錫靶材原子獲得動(dòng)量后逸出靶材表面,在電場(chǎng)作用下,與O2反應(yīng)形成氧化錫并附著于陽(yáng)極基板上成膜。采用本發(fā)明的方法,所鍍膜層為單層氧化錫膜,工藝簡(jiǎn)單,成本低;而且膜層電阻109Ω以上,為不導(dǎo)電層,不影響射頻通訊;膜層附著力好,具有很好的物理性能及耐候性。
文檔編號(hào)C23C14/35GK102061443SQ201110033178
公開(kāi)日2011年5月18日 申請(qǐng)日期2011年1月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月31日
發(fā)明者盧長(zhǎng)榮, 王海峰, 陳永瑞 申請(qǐng)人:華映光電股份有限公司
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