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采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3344704

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本發(fā)明涉及一種。 背景技術(shù)先前技術(shù)所鍍氧化錫膜主要用于制備導(dǎo)電薄膜、ITO膜,膜層具有低表面電阻、高 透光率、低比電阻值等特性、圖案加工性、電化學(xué)安定性。ITO膜主要應(yīng)用在觸摸元件、透明 加熱元件、抗靜電膜、電磁波防護(hù)膜、太陽(yáng)能電池之透明電極、防反光塗佈及熱反射鏡等電 子、光學(xué)及光電裝置上。但是現(xiàn)有的鍍膜工藝其鍍膜顏色過(guò)于單一,色彩是通過(guò)色粉或顏料 簡(jiǎn)單調(diào)色而成,時(shí)間長(zhǎng)久后,易褪色,而且不能達(dá)到膜層表面的不導(dǎo)電,會(huì)影響電子產(chǎn)品的 射頻通訊。雖然有些鍍膜工藝...
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