專利名稱：雙層平面研磨機壓力平衡機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種平面研磨機，具體地說是一種雙層平面研磨機壓力平衡機 構(gòu)。
背景技術(shù)：
目前，如專利號為200920065135. 0，申請日為2009年4月23日，發(fā)明名稱為平面
研磨機的雙層研磨盤公開了一種兩對研磨盤結(jié)構(gòu)，它采用兩對研磨盤對工件進行加工，雖 然解決了生產(chǎn)效率問題，并且可以使用較小的研磨盤，但由于立軸不是階梯軸，副下磨盤、 副上磨盤直接作用在主上磨盤、主下磨盤上，主上磨盤、主下磨盤內(nèi)的工件壓力就大于副下 磨盤、副上磨盤內(nèi)的工件壓力，而產(chǎn)品質(zhì)量與研磨壓力直接相關(guān)，因此造成兩對研磨盤中研 磨的產(chǎn)品質(zhì)量存在差異。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種能提高產(chǎn)品質(zhì)量的雙層平面研磨機壓力平衡機構(gòu)。本實用新型是采用如下技術(shù)方案實現(xiàn)其發(fā)明目的的，一種雙層平面研磨機壓力平 衡機構(gòu)，它包括立軸，立軸上設(shè)有由下磨盤傳動系統(tǒng)帶動的主下磨盤、副下磨盤和由上磨盤 傳動系統(tǒng)帶動的主上磨盤、副上磨盤，所述的立軸為與底座連接的臺階軸，副下磨盤安裝在 臺階軸的軸肩上。由于采用上述技術(shù)方案，本實用新型較好的實現(xiàn)了發(fā)明目的，其結(jié)構(gòu)簡單，兩對研 磨盤的工作壓力相同，工件加工條件相同，產(chǎn)品質(zhì)量得到了保證。

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式

以下結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明。由圖1可知，一種雙層平面研磨機壓力平衡機構(gòu)，它包括立軸，立軸上設(shè)有由下磨 盤傳動系統(tǒng)3帶動的主下磨盤4、副下磨盤7和由上磨盤傳動系統(tǒng)11帶動的主上磨盤6、副 上磨盤8，所述的立軸為與底座1連接的臺階軸2，副下磨盤7安裝在臺階軸2的軸肩10上。本實用新型工作時，下磨盤傳動系統(tǒng)3通過平鍵帶動安裝在底座1上的臺階軸2 旋轉(zhuǎn)，臺階軸2通過平鍵帶動主下磨盤4和副下磨盤7以相同的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。主上磨盤6和 副上磨盤8則通過齒輪與上磨盤傳動系統(tǒng)11連接帶動，以相同的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，其旋轉(zhuǎn)方向與 主下磨盤4和副下磨盤7的旋轉(zhuǎn)方向相反。工件5分別置于主上磨盤6、主下磨盤4和副 上磨盤8、副下磨盤7之間。當(dāng)磨盤旋轉(zhuǎn)時，實現(xiàn)對工件5的研磨拋光加工。由于副下磨盤 7設(shè)在臺階軸2的軸肩10上，重力就由臺階軸2直接傳遞給底座1，只要主上磨盤6和副上 磨盤8的重量相同，兩層研磨盤的工作壓力就相同，從而保證工件的加工質(zhì)量。[0010]工件5的安裝操作過程如下氣動系統(tǒng)通過調(diào)壓及提升系統(tǒng)9將副上磨盤8、副下 磨盤7和主上磨盤6吊起，將工件5置于主下磨盤4上，安裝完畢后放下調(diào)壓及提升系統(tǒng)9 ； 松開副上磨盤8、副下磨盤7與主上磨盤6之間的連接器，再次啟動調(diào)壓及提升系統(tǒng)9，副上 磨盤8吊起，將工件5置于副下磨盤7上，安裝完畢后放下調(diào)壓及提升系統(tǒng)9，工件5安裝完 成。工件5加工完成后取出產(chǎn)品的過程與安裝工件5的過程相似，只是先取出上層的 工件5，再取出下層的工件5。
權(quán)利要求1. 一種雙層平面研磨機壓力平衡機構(gòu)，它包括立軸，立軸上設(shè)有由下磨盤傳動系統(tǒng) (3)帶動的主下磨盤(4)、副下磨盤(7)和由上磨盤傳動系統(tǒng)(11)帶動的主上磨盤(6)、副上 磨盤(8)，其特征是所述的立軸為與底座(1)連接的臺階軸(2)，副下磨盤(7)安裝在臺階軸 (2)的軸肩(10)上。
專利摘要本實用新型公開了一種能提高產(chǎn)品質(zhì)量的雙層平面研磨機壓力平衡機構(gòu)，它包括立軸，立軸上設(shè)有由下磨盤傳動系統(tǒng)(3)帶動的主下磨盤(4)、副下磨盤(7)和由上磨盤傳動系統(tǒng)(11)帶動的主上磨盤(6)、副上磨盤(8)，其特征是所述的立軸為與底座(1)連接的臺階軸(2)，副下磨盤(7)安裝在臺階軸(2)的軸肩(10)上，本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，兩對研磨盤的工作壓力相同，工件加工條件相同，產(chǎn)品質(zhì)量得到了保證。
文檔編號B24B37/04GK201881267SQ20102025517
公開日2011年6月29日 申請日期2010年7月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月12日
發(fā)明者廖建勇, 廖成勇, 張海鷹 申請人:湖南城市學(xué)院