專利名稱：殼體及其制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種殼體及其制作方法，尤其涉及一種具有紫紅色與金屬質感的殼體及其制作方法。
背景技術：
隨著科技的不斷進步，手機、個人數(shù)字助理(PDA，Personal Digital Assistant)、 及計算機等各式電子裝置也迅速發(fā)展，其功能亦愈來愈豐富。為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，傳統(tǒng)上可利用彩色塑料形成彩色塑料外殼，或藉由噴漆方式在電子裝置的殼體表面形成色料層。然而，塑料外殼與噴漆外殼不能呈現(xiàn)良好的金屬質感。另一方面，由于真空鍍膜技術本身較為復雜而不易精密操控，現(xiàn)有技術中于殼體表面形成的金屬真空鍍膜層的色彩有限，與烤漆、陽極處理等工藝相比，真空鍍膜層的顏色不夠豐富，限制了其在裝飾鍍膜領域的競爭力。

發(fā)明內容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種具有紫紅色及金屬質感的殼體。另外，本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。一種殼體，包括基體、結合層以及色彩層，所述結合層形成于基體的表面，所述色彩層形成于結合層的表面，所述色彩層為&-N膜，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標值介于25至30之間，a*坐標值介于40至45之間，b*坐標值介于-45至-40 之間。一種殼體的制作方法，其包括如下步驟提供基體；在該基體的表面磁控濺射結合層；在該結合層的表面磁控濺射色彩層，磁控濺射所述色彩層的工藝參數(shù)為以鋯為靶材，以氮氣為反應氣體，氬氣為工作氣體，氮氣與氬氣總的流量為150 700sCCm，氮氣的分壓占總的氣體壓強的35 50% ；所述色彩層為&-N膜，所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于 CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標值介于25至30之間，a*坐標值介于40至45之間，b*坐標值介于-45至-40之間。所述殼體的制備方法，在形成色彩層時，采用鋯靶作為靶材，通過對反應氣體氮氣和工作氣體氬氣總流量的控制和氮氣分壓的控制，從而實現(xiàn)所需的色彩層中各成分的比例關系及各成分間的微觀鍵合結構，從而達到使色彩層呈現(xiàn)出紫紅色的目的。以該方法所制得的殼體可呈現(xiàn)出具吸引力的紫紅色的金屬外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，大大地提高了產(chǎn)品的外觀競爭力。


圖1是本發(fā)明較佳實施例的殼體的結構示意圖。
圖2是本發(fā)明較佳實施例制作所述殼體的流程圖。主要元件符號說明殼體10基體11結合層13色彩層1具體實施例方式請參閱圖1，本發(fā)明一較佳實施例的殼體10可為一手機的殼體。該殼體10包括基體11、結合層13及色彩層15。該結合層13設置于基體11的表面，該色彩層15設置于結合層13的表面。基體11可以為金屬材料或玻璃、塑料等非金屬材料。結合層13以磁控濺射的方式形成于基體11的表面。該結合層13為鈦金屬膜，其厚度在0. 1 0.2μπι之間。該結合層13的顏色為不影響色彩層顏色的淺色調，比如可為銀色、白色及灰白色等淺色調。色彩層15為&-Ν膜，其以磁控濺射的方式形成。該色彩層15的厚度在0. 3 0.4μπι之間。該色彩層15呈現(xiàn)出紫紅色，其呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標值介于25至30之間，a*坐標值介于40至45之間，b*坐標值介于-45至-40之間。請一并參閱圖1與圖2，本發(fā)明殼體10的制作方法包括以下步驟提供基體11。該基體11可以為金屬材料或玻璃、塑料等非金屬材料。對該基體11進行預處理。該預處理可包括常規(guī)的對基體11進行化學除油、除蠟、 酸洗、超聲波清洗及烘干等步驟。在基體11的表面形成結合層13。該結合層13為鈦金屬膜，其可采用磁控濺射的方式形成。形成該結合層13的具體操作方法可為將基體11固定于一磁控濺射鍍膜機(圖未示)的轉架上，抽真空該鍍膜機的腔體至3X 10_5Τοπ·，并加熱該腔體至120°C左右，通入流量為400 450sCCm(標準狀態(tài)毫升/分鐘)的氬氣(工作氣體)；開啟鈦靶材的電源， 設定鈦靶材電源功率為8 10kw，對基體11施加0 -200V的偏壓，占空比為0 100%， 并設置轉架的公轉轉速為3轉每分鐘(revolution per minute，rpm)，沉積所述結合層13。 沉積所述結合層13的時間可為5 10分鐘。在該結合層13的表面形成色彩層15。在本發(fā)明的較佳實施例中，形成色彩層15 的具體操作方法可為在沉積所述結合層13后，向所述磁控濺射鍍膜機中通入反應氣體氮氣及氬氣，并設定氮氣與氬氣總的流量為150 700sCCm，且氮氣的分壓占總的氣體壓強的 35 50% ；設置鋯靶材電源功率為8 12kw，調節(jié)對基體11的偏壓至0 -250V、占空比為0 100%，轉架的公轉轉速為3轉每分鐘(revolution per minute, rpm)，沉積所述色彩層15。沉積色彩層15的時間可為20 40分鐘。該色彩層15為&-N膜，其于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標值介于25至30之間，a* 坐標值介于40至45之間，b*坐標值介于-45至-40之間。本發(fā)明殼體10可為筆記型計算機、個人數(shù)字助理等電子裝置的殼體，或為其他裝飾類產(chǎn)品的殼體。
相較于現(xiàn)有技術，所述殼體10的制備方法，是通過對靶材的選取及對反應氣體氮氣流量的設計，從而達到使色彩層15呈現(xiàn)出紫紅色的目的。應該指出，上述實施方式僅為本發(fā)明的較佳實施方式，本領域技術人員還可在本發(fā)明精神內做其它變化。這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應包含在本發(fā)明所要求保護的范圍之內。
權利要求
1.一種殼體，包括基體、結合層以及色彩層，所述結合層形成于基體的表面，所述色彩層形成于結合層的表面，其特征在于所述色彩層為&-N膜，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于 CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標值介于25至30之間，a*坐標值介于40至45之間，b*坐標值介于-45至-40之間。
2.如權利要求1所述的殼體，其特征在于所述結合層為鈦金屬膜，其厚度0.1 0. 2 μ m0
3.如權利要求1所述的殼體，其特征在于所述色彩層的厚度為0.3 0. 4 μ m。
4.如權利要求1所述的殼體，其特征在于所述基體為金屬材料、玻璃、或塑料。
5.一種殼體的制作方法，其包括如下步驟提供一基體；在該基體的表面磁控濺射一結合層；在該結合層的表面磁控濺射一色彩層，磁控濺射所述色彩層的工藝參數(shù)為以鋯為靶材，以氮氣及氬氣為工作氣體，其中氮氣與氬氣總的流量為150 700sCCm，氮氣的分壓占總的氣體壓強的35 50%;所述色彩層為&-N膜，所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB 表色系統(tǒng)的L*坐標值介于25至30之間，a*坐標值介于40至45之間，b*坐標值介于-45 至-40之間。
6.如權利要求5所述的殼體的制作方法，其特征在于所述結合層為鈦金屬膜，形成該結合層的工藝參數(shù)為設置鈦靶的電源功率功率為8-lOkw，對基體施加的偏壓為 0 -200V,占空比為0 100%，鍍膜時間為5 10分鐘。
7.如權利要求5所述的殼體的制作方法，其特征在于形成該色彩層的工藝參數(shù)為設置鋯靶的電源功率功率為8-12kw，對基體施加的偏壓為0 -250V，占空比為0 100%，鍍膜時間為20 40分鐘。
全文摘要
一種殼體，該殼體包括基體、結合層以及色彩層，所述結合層形成于基體的表面，所述色彩層形成于結合層的表面，所述色彩層為Zr-N膜，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標值介于25至30之間，a*坐標值介于40至45之間，b*坐標值介于-45至-40之間。本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。該殼體呈現(xiàn)出紫紅色的外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色。
文檔編號C23C14/35GK102443762SQ201010508738
公開日2012年5月9日 申請日期2010年10月15日 優(yōu)先權日2010年10月15日
發(fā)明者萬自成, 張新倍, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司