專利名稱：鍍膜用的遮擋組件及其應用的鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜用的遮擋組件及其應用的鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
由于利用薄膜制程技術(shù)所生產(chǎn)的半導體產(chǎn)品和精密機械產(chǎn)品具有較高的品質(zhì)及較好的性能，因此，薄膜制程技術(shù)被廣泛應用于半導體工業(yè)及精密機械，并獲得了迅速的發(fā)展。一般地，鍍膜方法主要包括離子鍍膜法、射頻磁控濺鍍、真空蒸發(fā)法、化學氣相沉積法等。Ichiki，M.等人在 2003 年 5 月發(fā)表于 2003 Symposium on Design，Test， Integration and Packagingof MEMS/MOEMS 的論文Thin film formation-a fabrication onnon-planar surface by spray coating method中介紹了通過噴涂在非球面透鏡上形成薄膜的方法。對待鍍膜產(chǎn)品的鍍膜過程可通過鍍膜裝置實現(xiàn)。鍍膜裝置一般包括鍍膜傘架、膜料源及修正板。所述鍍膜傘架用于承載多個待鍍膜產(chǎn)品。所述修正板安裝在膜料源及鍍膜傘架之間，用于調(diào)整待鍍膜產(chǎn)品的鍍膜厚度以及鍍膜區(qū)域，其對于不同的待鍍膜產(chǎn)品和鍍膜條件具有不同的形狀和結(jié)構(gòu)?，F(xiàn)有技術(shù)中，由于修正板只能通過人工的方式或另行制造、 安裝其它型號的修正板的方式來調(diào)節(jié)修正板的形狀和結(jié)構(gòu)，因此，不但降低了生產(chǎn)效率，而且提高了生產(chǎn)成本，不利于工業(yè)生產(chǎn)的進行。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種可根據(jù)待鍍膜產(chǎn)品及鍍膜條件自動調(diào)整形狀的鍍膜用的遮擋組件及其應用的鍍膜裝置。一種鍍膜用的遮擋組件，其包括一個支撐板、第一活動葉片陣列、第二活動葉片陣列。所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別設置在所述支撐板相對的兩側(cè)邊上。 所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別包括多個活動葉片。所述遮擋組件進一步包括多個驅(qū)動組件及多個控制單元。所述多個活動葉片分別與所述多個驅(qū)動組件連接。所述多個控制單元分別與所述多個驅(qū)動組件電性連接，用于控制所述驅(qū)動組件的運動，以改變所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列的形狀?！N鍍膜裝置，其用于對待鍍膜基板進行蒸鍍，所述鍍膜裝置包括一腔體、一膜料源、一蒸發(fā)源、一鍍膜傘架，所述腔體包括一頂板及一與頂板相對的底板，所述鍍膜傘架固設在所述腔體的頂板內(nèi)側(cè)，所述膜料源及所述蒸發(fā)源設置在所述腔體的底板上，所述膜料源包括一坩堝座及一膜料，所述坩堝座用于收容所述膜料。所述鍍膜裝置進一步包括設置在所述鍍膜傘架與所述膜料源之間的遮擋組件。所述遮擋組件包括一個支撐板、第一活動葉片陣列、第二活動葉片陣列。所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別設置在所述支撐板相對的兩側(cè)邊上。所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別包括多個活動葉片。所述遮擋組件進一步包括多個驅(qū)動組件及多個控制單元。所述多個活動葉片分別與所述多個驅(qū)動組件連接。所述多個控制單元分別與所述多個驅(qū)動組件電性連接，用于控制 所述驅(qū)動組件的運動，以改變所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列的形狀。相對于現(xiàn)有技木，本發(fā)明的遮擋組件包括多個驅(qū)動組件及多個控制単元。遮擋組 件可以根據(jù)待鍍膜基板的鍍膜要求，通過所述控制單元分別控制對應的驅(qū)動組件來改變所 述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列的形狀，從而調(diào)整、改變遮擋組件對待鍍膜基板 的遮擋面積。因此，本發(fā)明的鍍膜遮擋組件可在不同待鍍物品的不同鍍膜要求下使用。


圖1為本發(fā)明實施方式提供的鍍膜裝置的示意圖；圖2為圖1中的鍍膜裝置的遮擋組件的第一狀態(tài)立體組裝示意圖；圖3為圖1中的鍍膜裝置的遮擋組件的第二狀態(tài)立體組裝示意圖。主要元件符號說明鍍膜裝置100待鍍膜基板200腔體10膜料源20蒸發(fā)源30鍍膜傘架40遮擋組件50頂板11底板12第一側(cè)板13坩堝座22膜料24頂面222底面224收容槽220承載孔41支撐板51第一活動葉片陣列52第二活動葉片陣列53驅(qū)動組件54控制單元55第一側(cè)邊511第二側(cè)邊512活動葉片520馬達541驅(qū)動齒輪542齒條543
限位件544
具體實施例方式請參閱圖1，本發(fā)明實施方式所提供的鍍膜裝置100，其用于對待鍍膜基板200進行蒸鍍。所述鍍膜裝置100包括一腔體10、分別容納于所述腔體10內(nèi)的一膜料源20、一蒸發(fā)源30、一鍍膜傘架40、及一遮擋組件50。所述腔體10為一中空箱體，其包括一頂板11、一與頂板11相對的底板12及多塊連接所述頂板11及底板12的第一側(cè)板13。所述膜料源20固定在所述腔體10的底板12上。該膜料源20包括一坩堝座22 及一膜料24。所述坩堝座22包括一頂面222及一與所述頂面222相對的底面224。所述坩堝座22的頂面222開設有一由所述頂面222朝向所述底面224內(nèi)凹的收容槽220。所述膜料M收容在所述收容槽220內(nèi)。所述蒸發(fā)源30固定在所述底板12上，并與所述膜料源20相鄰設置，該蒸發(fā)源30 用于使所述膜料源20內(nèi)的膜料對加熱至蒸汽狀態(tài)。本實施方式中，所述蒸發(fā)源30為電子槍。所述鍍膜傘架40固設在所述腔體10的頂板11上。該鍍膜傘架40具有多個承載孔41，每個承載孔41內(nèi)放置有一待鍍膜基板200。所述待鍍膜基板200可為光學鏡片、金屬基板等，本實施方式中，所述待鍍膜基板200為光學鏡片。其欲鍍膜的表面朝向所述膜料源20及所述蒸發(fā)源30。所述遮擋組件50固設在所述腔體10的第一側(cè)板13上，且位于所述蒸發(fā)源30與所述鍍膜傘架40之間。請一并參考圖2、圖3，該遮擋組件50包括一個支撐板51、第一活動葉片陣列52、第二活動葉片陣列53、多個驅(qū)動組件M及多個控制單元55。所述第一活動葉片陣列52與第二活動葉片陣列53分別設置在所述支撐板51相對的兩側(cè)邊上，并可分別在所述驅(qū)動組件M的驅(qū)動下相對所述支撐板51運動。所述支撐板51為一方形平板，其包括一第一側(cè)邊511及一與所述第一側(cè)邊511相對的第二側(cè)邊512，所述第一活動葉片陣列52與第二活動葉片陣列53分別設置在所述第一側(cè)邊511及第二側(cè)邊512上。本實施方式中，所述第一活動葉片陣列52與第二活動葉片陣列53分別包括七個相互鄰接的活動葉片520。所述多個驅(qū)動組件M的數(shù)量與所述活動葉片520的數(shù)量相對應。本實施方式中， 所述多個驅(qū)動組件討的數(shù)量為十四個。每個驅(qū)動組件討包括一馬達Ml、一驅(qū)動齒輪M2、 一齒條543及一限位件M4。所述驅(qū)動齒輪542安裝于馬達541上，并在馬達541的驅(qū)動下轉(zhuǎn)動。所述齒條543設置在所述支撐板51上且其擺放位置分別垂直于所述第一側(cè)邊511 及第二側(cè)邊512。所述齒條M3的一端分別與一對應的活動葉片520相連接。所述限位件 544為兩個限位條。所述兩個限位條分別垂直于所述第一側(cè)邊511及第二側(cè)邊512且彼此間隔設置，用于容置對應的齒條M3，使所述齒條M3在所述馬達Ml的驅(qū)動下，在所述限位條內(nèi)沿垂直所述第一側(cè)邊511及第二側(cè)邊512的方向運動，以帶動與所述齒條543相連接的活動葉片520運動。所述控制單元55分別連接至對應的驅(qū)動組件M的馬達Ml。所述控制單元55根據(jù)不同的鍍膜要求，例如待鍍膜基板200的種類、待鍍膜基板200在鍍膜傘架40上的位置、膜料M的種類等，存儲有對應的各馬達541所需走的步數(shù)，以根據(jù)待鍍膜基板200的鍍膜要求改變各第一活動葉片陣列52與第二活動葉片陣列53的形狀。可以理解的是，所述多個驅(qū)動組件M、活動葉片520的數(shù)量并不限于為十四個，其可根據(jù)設計需求設置，并不限于本實施方式。本發(fā)明的遮擋組件50包括多個驅(qū)動組件M及多個控制單元55。遮擋組件50可以根據(jù)待鍍膜基板200的鍍膜要求，通過所述控制單元55分別控制所述對應的驅(qū)動組件M 來改變所述第一活動葉片陣列52與第二活動葉片陣列53的形狀，從而調(diào)整、改變遮擋組件 50對待鍍膜基板200的遮擋面積。因此，本發(fā)明的鍍膜遮擋組件50可在不同待鍍物品的不同鍍膜要求下使用。可以理解的是，對于本領域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做出其它各種相應的改變與變形，而所有這些改變與變形都應屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜用的遮擋組件，其包括一個支撐板、第一活動葉片陣列、第二活動葉片陣列，所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別設置在所述支撐板相對的兩側(cè)邊上， 所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別包括多個活動葉片，其特征在于所述遮擋組件進一步包括多個驅(qū)動組件及多個控制單元，所述多個活動葉片分別與所述多個驅(qū)動組件連接，所述多個控制單元分別與對應的驅(qū)動組件電性連接，用于控制對應的驅(qū)動組件運動，以改變所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列的形狀。
2.如權(quán)利要求1所述的遮擋組件，其特征在于所述支撐板為一方形平板，包括一第一側(cè)邊及一與所述第一側(cè)邊相對的第二側(cè)邊，所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別設置在所述第一側(cè)邊及第二側(cè)邊上。
3.如權(quán)利要求2所述的遮擋組件，其特征在于每個所述驅(qū)動組件包括一馬達、一驅(qū)動齒輪及一齒條，所述驅(qū)動齒輪安裝于馬達上，并在馬達的驅(qū)動下轉(zhuǎn)動，所述齒條設置在所述支撐板上且所述齒條的擺放位置分別垂直于所述第一側(cè)邊及第二側(cè)邊，所述齒條的一端分別與對應的葉片相連接，所述齒條在馬達的帶動下沿垂直所述第一側(cè)邊及第二側(cè)邊的方向運動。
4.如權(quán)利要求3所述的遮擋組件，其特征在于每個所述驅(qū)動組件進一步包括一限位件，所述限位件為兩個限位條，所述兩個限位條分別垂直于所述第一側(cè)邊及第二側(cè)邊且彼此間隔設置，用于容置對應的齒條，使所述齒條在所述馬達的驅(qū)動下，在所述限位條內(nèi)沿垂直所述第一側(cè)邊及第二側(cè)邊的方向運動。
5.一種鍍膜裝置，用于對待鍍膜基板進行蒸鍍，所述鍍膜裝置包括一腔體、一膜料源、 一蒸發(fā)源、一鍍膜傘架及一遮擋組件，所述腔體包括一頂板及一與頂板相對的底板，所述鍍膜傘架固設在所述腔體的頂板內(nèi)側(cè)，所述膜料源及所述蒸發(fā)源設置在所述腔體的底板上， 所述膜料源包括一坩堝座及一膜料，所述坩堝座用于收容所述膜料，所述遮擋組件包括一個支撐板、第一活動葉片陣列、第二活動葉片陣列，所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別設置在所述支撐板相對的兩側(cè)邊上，所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別包括多個活動葉片，其特征在于所述遮擋組件進一步包括多個驅(qū)動組件及多個控制單元，所述多個活動葉片分別與所述多個驅(qū)動組件連接，所述多個控制單元分別與對應的驅(qū)動組件電性連接，用于控制對應的驅(qū)動組件運動，以改變所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列的形狀。
6.如權(quán)利要求5所述的鍍膜裝置，其特征在于所述支撐板為一方形平板，包括一第一側(cè)邊及一與所述第一側(cè)邊相對的第二側(cè)邊，所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別設置在所述第一側(cè)邊及第二側(cè)邊上，每個所述驅(qū)動組件包括一馬達、一驅(qū)動齒輪及一齒條，所述驅(qū)動齒輪安裝于馬達上，并在馬達的驅(qū)動下轉(zhuǎn)動，所述齒條設置在所述支撐板上且所述齒條的擺放位置分別垂直于所述第一側(cè)邊及第二側(cè)邊，所述齒條的一端分別與對應的活動葉片相連接，所述齒條在馬達的帶動下沿垂直所述第一側(cè)邊及第二側(cè)邊的方向運動。
7.如權(quán)利要求6所述的鍍膜裝置，其特征在于所述控制單元根據(jù)各個不同的待鍍膜基板的鍍膜要求，存儲有對應的各馬達所需走的步數(shù)，所述控制單元根據(jù)待鍍膜基板的鍍膜要求改變各第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列的形狀。
8.如權(quán)利要求6所述的鍍膜裝置，其特征在于每個所述驅(qū)動組件進一步包括一限位件，所述限位件為兩個限位條，所述兩個限位條分別垂直于所述第一側(cè)邊及第二側(cè)邊且彼此間隔設置，用于容置對應的齒條，使所述齒條在所述馬達的驅(qū)動下，在所述限位條內(nèi)沿垂直所述第一側(cè)邊及第二側(cè)邊的方向運動。
9.如權(quán)利要求5所述的鍍膜裝置，其特征在于所述蒸發(fā)源與所述膜料源相鄰設置，該蒸發(fā)源用于使所述膜料源發(fā)射的膜料加熱至蒸汽狀態(tài)。
10.如權(quán)利要求5所述的鍍膜裝置，其特征在于所述腔體進一步包括垂直連接所述頂板及底板的第一側(cè)板，所述遮擋組件固設在所述第一側(cè)板上。
全文摘要
一種鍍膜用的遮擋組件，其包括一支撐板、一第一活動葉片陣列、一第二活動葉片陣列。所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別設置在所述支撐板相對的兩側(cè)邊上。所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別包括多個活動葉片。所述遮擋組件進一步包括多個驅(qū)動組件及多個控制單元。所述多個活動葉片分別與所述多個驅(qū)動組件連接。所述多個控制單元分別與所述多個驅(qū)動組件電性連接，用于控制對應的驅(qū)動組件運動，以改變所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列的形狀。本發(fā)明還涉及應用該遮擋組件的鍍膜裝置。
文檔編號C23C14/04GK102443759SQ20101050314
公開日2012年5月9日 申請日期2010年10月11日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月11日
發(fā)明者吳佳穎, 廖名揚 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司