專利名稱：大理石板材拋光磨盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種大理石板材加工設(shè)備，特別是一種大理石板材拋光磨盤。
背景技術(shù)：
大理石板材經(jīng)表面磨削拋光后，具有光澤度高、易于清潔、外觀漂亮等優(yōu)點。目前， 大理石板材通常由拋光加工磨頭實施拋光加工，拋光磨頭的主體結(jié)構(gòu)包括主軸、盤體和磨 塊，數(shù)個磨塊呈圓形分布安裝在盤體上。工作時，主軸驅(qū)動盤體轉(zhuǎn)動，盤體上的數(shù)個磨塊對 大理石板材表面進行拋光加工。實際生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)，由于現(xiàn)有磨盤結(jié)構(gòu)中磨塊安裝結(jié)構(gòu)不合理，導(dǎo)致拋光加工中經(jīng) 常發(fā)生大理石板材表面出現(xiàn)暗影(也稱磨影)現(xiàn)象，不僅影響拋光效率，而且很大程度上降 低了產(chǎn)品質(zhì)量。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種大理石板材拋光磨盤，有效解決現(xiàn)有磨盤結(jié)構(gòu)導(dǎo)致 大理石板材表面出現(xiàn)暗影現(xiàn)象。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供了一種大理石板材拋光磨盤，包括盤體，所述 盤體上固定有交錯設(shè)置的第一磨塊和第二磨塊。所述第一磨塊以第一圓周分布設(shè)置在盤體上，所述第二磨塊以第二圓周分布設(shè)置在盤體上，所述第一圓周的半徑大于所述第二圓周的半徑。所述第一圓周的半徑與第二圓周的半徑之差小于第一磨塊或第二磨塊的長度。所述第一磨塊位于相鄰的兩個第二磨塊之間，或所述第二磨塊位于相鄰的兩個第 一磨塊之間。本實用新型提出了一種大理石板材拋光磨盤，通過將磨塊內(nèi)外交錯安裝在盤體 上，使盤體上的磨塊在一定直徑范圍內(nèi)重疊交錯分布，不僅有效消除了大理石板材表面拋 光時出現(xiàn)的暗影現(xiàn)象，而且提高了拋光效率，最大限度地提高了產(chǎn)品質(zhì)量。

圖1為本實用新型大理石板材拋光磨盤的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標(biāo)記說明1-盤體；2-第一磨塊；3-第二磨塊。
具體實施方式
下面通過附圖和實施例，對本實用新型的技術(shù)方案做進一步的詳細描述。圖1為本實用新型大理石板材拋光磨盤的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，本實用新型 大理石板材拋光磨盤的主體結(jié)構(gòu)包括盤體1以及交錯安裝固定在盤體1上的第一磨塊2和 第二磨塊3，數(shù)個第一磨塊2以第一圓周分布安裝在盤體1上，數(shù)個第二磨塊3以第二圓周分布安裝在盤體1上，第一磨塊2位于相鄰的兩個第二磨塊3之間，或第二磨塊3位于相鄰 的兩個第一磨塊2之間，第一圓周具有第一半徑R1，第二圓周具有第二半徑R2，第一半徑Rl 大于第二半徑R2，形成磨塊在盤體上內(nèi)外交錯分布的結(jié)構(gòu)。實際應(yīng)用中，第一磨塊和第二磨塊為梯形狀，梯形的短邊設(shè)置在盤體的外緣，第一 磨塊和第二磨塊可以采用相同的結(jié)構(gòu)和形狀。從提高拋光效率和有效消除暗影現(xiàn)象綜合考 慮，第一半徑Rl與第二半徑R2之差小于第一磨塊或第二磨塊的長度。本實用新型提供了一種大理石板材拋光磨盤，通過將磨塊內(nèi)外交錯安裝在盤體 上，使盤體上的磨塊在一定直徑范圍內(nèi)重疊交錯分布，不僅有效消除了大理石板材表面拋 光時出現(xiàn)的暗影現(xiàn)象，而且提高了拋光效率，最大限度地提高了產(chǎn)品質(zhì)量。最后應(yīng)說明的是以上實施例僅用以說明本實用新型的技術(shù)方案而非限制，盡管 參照較佳實施例對本實用新型進行了詳細說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對 本實用新型的技術(shù)方案進行修改或者等同替換，而不脫離本實用新型技術(shù)方案的精神和范 圍。
權(quán)利要求一種大理石板材拋光磨盤，包括盤體，其特征在于，所述盤體上固定有交錯設(shè)置的第一磨塊和第二磨塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大理石板材拋光磨盤，其特征在于，所述第一磨塊以第一圓 周分布設(shè)置在盤體上，所述第二磨塊以第二圓周分布設(shè)置在盤體上，所述第一圓周的半徑 大于所述第二圓周的半徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的大理石板材拋光磨盤，其特征在于，所述第一圓周的半徑與 第二圓周的半徑之差小于第一磨塊或第二磨塊的長度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大理石板材拋光磨盤，其特征在于，所述第一磨塊位于相鄰 的兩個第二磨塊之間，或所述第二磨塊位于相鄰的兩個第一磨塊之間。
專利摘要本實用新型涉及一種大理石板材拋光磨盤，包括盤體，所述盤體上固定有交錯設(shè)置的第一磨塊和第二磨塊。所述第一磨塊以第一圓周分布設(shè)置在盤體上，所述第二磨塊以第二圓周分布設(shè)置在盤體上，所述第一圓周的半徑大于所述第二圓周的半徑。本實用新型通過將磨塊內(nèi)外交錯安裝在盤體上，使盤體上的磨塊在一定直徑范圍內(nèi)重疊交錯分布，不僅有效消除了大理石板材表面拋光時出現(xiàn)的暗影現(xiàn)象，而且提高了拋光效率，最大限度地提高了產(chǎn)品質(zhì)量。
文檔編號B24B29/02GK201586916SQ20092027715
公開日2010年9月22日 申請日期2009年12月8日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月8日
發(fā)明者艾蒙琛 申請人:佛山市科達石材機械有限公司