專利名稱：旋轉(zhuǎn)濺射電弧柱靶裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及旋轉(zhuǎn)電弧柱靶裝置，特別涉及旋轉(zhuǎn)濺射電弧柱靶裝置，屬 于表面處理設(shè)備，主要用于在柱形靶材表面噴涂薄層。
背景技術(shù)：
在給靶材表面噴涂薄層時，常采用的是利用電極進行噴涂，對于一些柱形 靶材的表面噴涂，常采用的是旋轉(zhuǎn)電弧柱靶裝置，圖1是現(xiàn)有的旋轉(zhuǎn)電弧柱靶
裝置，它包括底部的柱靶下蓋，固定在柱靶下蓋上的磁心磁鋼20，與磁心磁鋼 連接并由陰極法蘭固定的柱靶陰極13，套置于柱靶陰極外的陰極水套ll，安裝 于陰極水套上并與柱靶陰極內(nèi)腔相通的出水口 9，安裝于陰極水套外的真空室頂 板，位于柱靶陰極頂部的進水口9，位于真空室頂板一側(cè)的電機支架2及電機支 架上的電機l，電機通過齒輪3與柱靶陰極頂端相連。這種旋轉(zhuǎn)電弧柱靶裝置在 使用時，將靶材放于磁心磁鋼外，鍍層常常會沉積于陰極法蘭上，影響柱靶與 真空機殼的絕緣性能，同時，由于電機支架位于真空室頂板一側(cè)，電機在轉(zhuǎn)動 過程中會產(chǎn)生較大的晃動，從而使磁心旋轉(zhuǎn)不穩(wěn)定，無法保證柱靶的密封性能。

實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種能防止鍍層沉積于陰極法蘭上，保證柱靶 與真空機殼的絕緣性能，磁心旋轉(zhuǎn)穩(wěn)定，保證柱靶的密封性能的旋轉(zhuǎn)電弧柱靶 裝置。
本實用新型的目的是通過如下技術(shù)方案來實現(xiàn)的旋轉(zhuǎn)電弧柱耙裝置，包 括柱靶下蓋、磁心磁鋼、柱靶上蓋、柱靶陰極、真空室頂板、柱靶固定法蘭、 陰極絕緣法蘭、柱靶陰極法蘭、陰極水套、水套絕緣法蘭、安裝于陰極水套上 并與柱靶陰極內(nèi)腔相通的出水口和位于柱靶陰極頂部的進水口，柱靶下蓋、磁心磁鋼、柱靶上蓋、真空室頂板、柱靶固定法蘭、陰極絕緣法蘭、柱靶陰極法 蘭、陰極水套、水套絕緣法蘭由下向上依次相連，其特征在于電機支架的中心 截面為方形，電機支架下底面固定在柱靶陰極法蘭上，上表面固定在水套絕緣 法蘭上，電機固定在電機支架上表面，電機支架上的電機通過齒輪與柱靶陰極 頂端相連。
在柱耙上蓋與柱靶固定法蘭之間設(shè)置屏蔽筒，屏蔽筒套于柱靶陰極外并固 定在柱靶固定法蘭上。
本實用新型由于采用了上述結(jié)構(gòu)，電機固定在中心截面為方形的電機支架 上，磁心旋轉(zhuǎn)穩(wěn)定，不易產(chǎn)生晃動保證的柱靶的密封性能，同時，在柱靶上蓋 與柱靶固定法蘭之間設(shè)置屏蔽筒，防止了鍍層沉積于陰極法蘭上，保證柱靶與 真空機殼的絕緣性能。


圖1為現(xiàn)有旋轉(zhuǎn)電弧柱靶裝置結(jié)構(gòu)示意圖2為本實用新型旋轉(zhuǎn)電弧柱靶裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型做進一步闡述
參見圖2，本實用新型的旋轉(zhuǎn)電弧柱靶裝置，包括柱靶下蓋21、磁心磁鋼
20、柱靶上蓋18、柱靶陰極、真空室頂板5、柱靶固定法蘭6、陰極絕緣法蘭 17、柱靶陰極法蘭16、陰極水套ll、水套絕緣法蘭12、安裝于陰極水套上并與 柱靶陰極內(nèi)腔相通的出水口 8和位于柱靶陰極頂部的進水口 9，柱靶下蓋、磁心 磁鋼、柱靶上蓋、真空室頂板、柱靶固定法蘭、陰極絕緣法蘭、柱靶陰極法蘭、 陰極水套、水套絕緣法蘭由下向上依次相連，電機支架2的中心截面為方形， 電機支架下底面固定在柱靶陰極法蘭上，上表面固定在水套絕緣法蘭上，電機1 固定在電機支架上表面，電機支架上的電機通過齒輪3與柱靶陰極頂端相連，在柱耙上蓋與柱耙固定法蘭之間設(shè)置屏蔽筒7，屏蔽筒套于柱靶陰極外并固定在 柱耙固定法蘭上，在陰極絕緣法蘭17與柱靶固定法蘭6之間設(shè)有陰極密封膠圈 4。
以上所述僅為實用新型的較佳實施例而已，并不僅以上限制實用新型，凡 在本實用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包
括在本實用新型的保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1、旋轉(zhuǎn)電弧柱靶裝置，包括柱靶下蓋、磁心磁鋼、柱靶上蓋、柱靶陰極、真空室頂板、柱靶固定法蘭、陰極絕緣法蘭、柱靶陰極法蘭、陰極水套、水套絕緣法蘭、安裝于陰極水套上并與柱靶陰極內(nèi)腔相通的出水口和位于柱靶陰極頂部的進水口，柱靶下蓋、磁心磁鋼、柱靶上蓋、真空室頂板、柱靶固定法蘭、陰極絕緣法蘭、柱靶陰極法蘭、陰極水套、水套絕緣法蘭由下向上依次相連，其特征在于電機支架的中心截面為方形，電機支架下底面固定在柱靶陰極法蘭上，上表面固定在水套絕緣法蘭上，電機固定在電機支架上表面，電機支架上的電機通過齒輪與柱靶陰極頂端相連。
2、 如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)電弧柱靶裝置，其特征在于在柱靶上蓋與柱靶固定 法蘭之間設(shè)置屏蔽筒，屏蔽筒套于柱靶陰極外并固定在柱靶固定法蘭上。
3、 如權(quán)利要求1或2所述的旋轉(zhuǎn)電弧柱靶裝置，其特征在于在陰極絕緣法蘭與
專利摘要本實用新型公開旋轉(zhuǎn)電弧柱靶裝置，包括柱靶下蓋、磁心磁鋼、柱靶上蓋、柱靶陰極、真空室頂板、柱靶固定法蘭、陰極絕緣法蘭、柱靶陰極法蘭、陰極水套、水套絕緣法蘭、安裝于陰極水套上并與柱靶陰極內(nèi)腔相通的出水口和位于柱靶陰極頂部的進水口，柱靶下蓋、磁心磁鋼、柱靶上蓋、真空室頂板、柱靶固定法蘭、陰極絕緣法蘭、柱靶陰極法蘭、陰極水套、水套絕緣法蘭由下向上依次相連，其特征在于電機支架的中心截面為方形，電機支架下底面固定在柱靶陰極法蘭上，上表面固定在水套絕緣法蘭上，電機固定在電機支架上表面，電機支架上的電機通過齒輪與柱靶陰極頂端相連。本實用新型由于采用了上述結(jié)構(gòu)，磁心旋轉(zhuǎn)穩(wěn)定，不易產(chǎn)生晃動保證的柱靶的密封性能。
文檔編號C23C14/34GK201424502SQ200920056379
公開日2010年3月17日 申請日期2009年5月12日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月12日
發(fā)明者蘇東藝 申請人:廣州今泰科技有限公司