專利名稱:一種貝殼裝飾片及其加工方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及裝飾材料技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種貝殼裝飾片及其 加工方法。
背景技術(shù):
貝殼為天然產(chǎn)品,其表面紋路和色彩豐富而高雅,可以作為裝 飾材料用于鐘表字面、珠寶、眼鏡、手提電話等,以增加美感。以 鐘表行業(yè)為例,使用貝殼片做鐘表字面。對貝殼片原材料的處理方 法,其一是透光法,利用噴漆技術(shù)改變貝殼色澤,其操作原理是把 油漆噴到貝殼片的背面上,從而使貝殼片在正面透出色澤,同時保 留貝殼正面原有的紋理;另一種是利用染色方法使貝殼變色。以上 方法生產(chǎn)的貝殼片均無美觀的金屬色澤,同時,利用透光法在貝殼 片的背面著色,正面還是有屬于貝殼原有的色澤,而染色法則對貝 殼本身有很大傷害,更由于貝殼細胞密度不同而導致染色不均勻。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種具有均 勻的金屬或陶瓷色澤,同時保留貝殼紋理的貝殼裝飾片。
本發(fā)明的另一目的是提供一種上述貝殼裝飾片的加工方法,該 方法具有環(huán)保無污染的優(yōu)點。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案-一種貝殼裝飾片,它包括貝殼片基材,所述基材的外表面鍍覆 有一層金屬膜或陶瓷膜。
其中,所述金屬膜或陶瓷膜其薄膜厚度不超過1微米。 所述基材和薄膜之間設(shè)有一層預鍍鈦膜。
上述的一種貝殼裝飾片的加工方法包括下述步驟a、切割,將 貝殼原料切割成貝殼片基材;b、清洗,清洗貝殼片基材并擦干;C、 鍍膜,在真空爐內(nèi)以金屬或陶瓷材料為耙材對貝殼片基材外表面進 行真空濺射鍍膜。
步驟C之前還包括下述步驟bl、離子清洗,將擦干后的基材 放入真空爐內(nèi),以鈦為靶材對基材外表面進行真空濺射鍍膜,為基 材外表面預鍍一層鈦膜。
其中,所述步驟bl中的真空爐內(nèi)溫度為7(TC。
步驟C之后還有下述步驟d、降溫,將鍍完金屬或陶瓷薄膜的
貝殼裝飾片在真空爐內(nèi)作梯度降溫,溫度降至60'C后取出貝殼裝飾 片。
其中,步驟bl及步驟c的真空濺射鍍膜所用的濺射電源均為中 頻電源。
步驟b具體為用水清洗基材,低溫烘干,然后用火焰吹拂基
材外表面,最后用棉布擦干基材。
本發(fā)明有益效果為由于在貝殼片基材的外表面鍍了一層金屬 或陶瓷薄膜,故而具有均勻的金屬或陶瓷色澤,同時由于薄膜緊貼 貝殼外表面,所以保留了貝殼紋理。本發(fā)明的加工方法在加工過程中使用的材料為金屬或陶瓷靶材,不含染色劑,因此不會造成環(huán)境
污染,具有環(huán)保的優(yōu)點。
附圖l是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意附圖2是本發(fā)明的工藝流程示意圖。
具體實施例方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步的說明,見附圖1所示, 一種 貝殼裝飾片,它包括貝殼片基材l,所述基材l是由貝殼切割打磨成 片制成,該基材l的外表面鍍覆有一層金屬或陶瓷的薄膜2,從而使 基材1外表面具有均勻的金屬或陶瓷光澤,同時由于薄膜2緊貼基 材1外表面,所以保留了貝殼紋理。 ' 本實施例所述薄膜2的厚度不超過1微米。 本實施例所述基材1和薄膜2之間設(shè)有一層預鍍鈦膜3。 見附圖2所示, 一種貝殼裝飾片的加工方法其工藝流程為貝 殼原料切割一清洗一離子清洗一鍍膜一降溫;下面對各工藝步驟進 行詳述 、
貝殼原料切割貝殼的種類可以涵蓋所有的貝殼品種,從加工 的角度來說,越大的貝殼切割越方便,但原料成本高;貝殼的切割
應(yīng)根據(jù)貝殼的大小、厚度,切割成小片,切割后貝殼片厚度通常在l
-2mm之間,貝殼片形狀可以是圓形、方形、多邊形或其它需要的形 狀,貝殼片的大小可因需要和貝殼的品種,做到有效利用或根據(jù)用 戶的實際需要進行切割;貝殼切割的方法可采用機械切割、超聲波切割、激光切割、水切割、磨床磨制等。
清洗將切割好的貝殼基材1用凈水清洗,以低溫烘干,然后 用純凈火焰吹拂基材1外表面,徹底清除水分,最后用棉布擦干, 以避免在基材1外表面產(chǎn)生水紋。
離子清洗將擦干后的基材l放入真空爐內(nèi),加溫至7(TC,然 后打開中頻的濺射電源,激出爐內(nèi)鈦靶的鈦離子,沖擊基材1外表 面,除去余卞的污染物,這個離子清洗的程序除了進一步清潔基材1 外表面外,還會在基材1外表面形成一層薄得近乎透明的鈦膜3,使 基材l外表面活化,為下一步鍍膜做好著床準備。
鍍膜關(guān)掉鈦靶,開動所需薄膜材料的金屬或陶瓷濺射靶,進 行真空濺射鍍膜處理。以黃金為例,如需要在基材1外表面鍍的薄 膜2是金膜,則用中頻電源激發(fā)金靶,濺射出金離子,并在偏壓電 源的作用下將金離子引到基材1外表面沉淀成金膜;所鍍薄膜2的
色彩和光澤由靶材以及注入真空爐的氣體共同決定,可以根據(jù)需要
選取不同的靶材和注入氣體來得到不同顏色的薄膜2;由于用真空濺-
射鍍膜工藝產(chǎn)生的薄膜2其厚度不超過1微米,且與貝殼基材1結(jié)
合良好、分布均勻,所以能將貝殼原有的紋理、折光感保留,又能 表現(xiàn)出所需的金屬或陶瓷色彩。
降溫由于金屬的膨脹系數(shù)大于貝殼,故在本實施例中將處理
好的貝殼裝飾片在真空爐內(nèi)作梯度式降溫,待爐內(nèi)溫度降至6(TC以
下方將其取出,以避免貝殼裝飾片內(nèi)產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力而爆裂。 以上所迷僅是本發(fā)明的較佳實施方式,故凡依本發(fā)明專利申請范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾,均包括于本 發(fā)明專利申請范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1、一種貝殼裝飾片,其特征在于它包括貝殼片基材(1),所述基材(1)的外表面鍍覆有一層金屬或陶瓷的薄膜(2)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種貝殼裝飾片,其特征在于所述 金屬或陶瓷的薄膜(2)的厚度不超過l微米。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種貝殼裝飾片,其特征在于所述基材(1)和薄膜(2)之間設(shè)有一層預鍍鈦膜(3)。
4、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種貝殼裝飾片的加工方法,其特征在于包括下述步驟a、切割,將貝殼原料切割成貝殼片基.材(1); b、清洗,清洗貝殼片基材(1)并擦干;C、鍍膜,在真空爐內(nèi)以金 屬或陶瓷材料為靶材對貝殼片基材(1)外表面進行真空濺射鍍膜。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種貝殼裝飾片的加工方法,其特征 在于步驟C之前還包括下述步驟bl、離子清洗,將擦干后的基材(1)放入真空爐內(nèi),以鈦為靶材對基材(1)外表面進行真空濺射 鍍膜,為基材(1)外表面預鍍一層鈦膜(3)。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種貝殼裝飾片的加工方法,其特征 在于所述步驟bl中的真空爐內(nèi)溫度為70°C。
7、 根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的一種貝殼裝飾片的加工方法,其 特征在于步驟c之后還有下述步驟d、降溫,將鍍完金屬或陶瓷薄 膜(2)的貝殼裝飾片在真空爐內(nèi)作梯度降溫,溫度降至60'C后取出 貝殼裝飾片。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種貝殼裝飾片的加工方法,其特征在于步驟bl及步驟C的真空濺射鍍膜所用的濺射電源均為中頻電 源。
9、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種貝殼裝飾片的加工方法,其特征在于步驟b具體為用水清洗基材(1),低溫烘干,然后用火焰吹 拂基材(1)外表面,最后用棉布擦干基材(1)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種貝殼裝飾片及其加工方法,涉及裝飾材料技術(shù)領(lǐng)域,該貝殼裝飾片包括貝殼片基材,基材外表面鍍覆有一層金屬或陶瓷薄膜,其薄膜厚度不超過1微米;其加工方法包括貝殼原料切割、清洗、鍍膜以及降溫等步驟;由于在貝殼片基材的外表面鍍了一層金屬或陶瓷薄膜,故而具有均勻的金屬或陶瓷色澤,同時由于薄膜緊貼貝殼外表面,所以保留了貝殼紋理;在加工過程中使用的材料為金屬或陶瓷靶材,不含染色劑,因此不會造成環(huán)境污染,具有環(huán)保的優(yōu)點。
文檔編號C23C14/02GK101417581SQ20081021841
公開日2009年4月29日 申請日期2008年10月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月17日
發(fā)明者李子恒 申請人:李子恒