專利名稱：柔性研磨盤及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種如權(quán)利要求l前序部分所述的柔性研磨盤的制 造方法。
本發(fā)明還涉及一種如權(quán)利要求16前序部分所述的用上述方法制
造的柔性研磨盤。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中用通常具有角錐體形狀的精確成形的復(fù)合層涂敷寬 的材料帶來(lái)制造柔性研磨裝置是公知的。該方法例如在美國(guó)專利
US5152917中進(jìn)行了描述。為了用上述方法制造柔性盤，盤必須從材 料帶中切出。但是，這需要精確的沖切工具。由于材料帶也具有研 磨劑涂層，沖切工具的刀片也會(huì)經(jīng)受嚴(yán)重的磨損，由此必須經(jīng)常更 換刀片。由于生產(chǎn)的中斷以及需要獲取和安裝新的刀片，所以較為 昂貴。
在沖切過(guò)程中產(chǎn)生的大量的廢料進(jìn)一 步使得制造研磨盤的負(fù)擔(dān) 加重。這種廢料部分地由未使用的原料構(gòu)成，并且部分必須從生產(chǎn) 線移除，并且銷毀或者進(jìn)行存儲(chǔ)。這些因素自然不利地影響研磨盤 的成本。
在由寬的材料帶生產(chǎn)研磨材料時(shí)，幾乎不可能利用技術(shù)上有利 的方法。這些方法例如對(duì)研磨盤的表面層真空處理。在已知類型的 材料帶上形成真空的成本對(duì)于所采用的技術(shù)來(lái)說(shuō)太高。
現(xiàn)有技術(shù)中還公知如美國(guó)專利2292261中描述的用粘合劑和沙 的漿涂敷單個(gè)研磨盤。其中所描述的方法是用具有適當(dāng)?shù)恼扯鹊恼?合劑漿層涂敷盤。所述層在固化之前經(jīng)受結(jié)構(gòu)板的壓紋。這種壓紋 在研磨劑漿上形成所需的圖案，隨后進(jìn)行固化。由于該方法中僅僅
瞬間壓制所需圖案，結(jié)果是不能形成精確的復(fù)制品，而是所述圖案 例如在固化之前往往鋪開一定程度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明可以基本上避免已知方案中涉及的問(wèn)題。因而本發(fā)明提 供一種用于制造柔性研磨盤的方法以及用這種方法制造的柔性研磨 盤，其中制造可靠并且研磨盤具有均勻的特性。
根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)使制造方法和柔性研磨盤分別具有權(quán)利要求1 和權(quán)利要求16限定部分的特征，使上述問(wèn)題得以解決。從屬權(quán)利要 求提供了進(jìn)一步的適當(dāng)?shù)膶?shí)施方式以及進(jìn)一步改進(jìn)其功能的本發(fā)明 的變型。
在下面的描述中，術(shù)語(yǔ)"上部，，、"下部"、"上側(cè)"、"下 側(cè)，，等指的是與研磨盤或者如附圖中所示的其結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)相關(guān)的方向。
根據(jù)本發(fā)明的方法提供了優(yōu)于現(xiàn)有技術(shù)的若千顯著優(yōu)點(diǎn)。因此， 逐件制造研磨盤，使得能夠生產(chǎn)便宜的模具，因?yàn)檠心ケP具有小的 尺寸。這種制造技術(shù)允許使用在陽(yáng)原模上鑄造的一次性模。這種一 次性模極大地方便了研磨盤在完工后的處理。此外，與根據(jù)傳統(tǒng)技 術(shù)在制造研磨盤中通常需要立即制造陰原模相比，制造陽(yáng)原模并由 此鑄造所需的陰原模更簡(jiǎn)單且更經(jīng)濟(jì)。
由于單個(gè)原?？捎糜谏a(chǎn)多個(gè)上述一次性模，制造非常復(fù)雜的
模也是經(jīng)濟(jì)的。這允許研磨盤的表面結(jié)構(gòu)比傳統(tǒng)上更容易受影響。
根據(jù)本發(fā)明，在制造研磨盤過(guò)程中，研磨盤在具有彼此相對(duì)地 定位的上部和下部壓紋活塞的壓制機(jī)中有利地壓制。這樣， 一個(gè)壓 紋活塞有利地設(shè)有壓紋模。通過(guò)使用能夠在固化過(guò)程中與最終產(chǎn)品 一起保留的經(jīng)濟(jì)的 一次性模，在本發(fā)明的方法中僅需要瞬間壓在一 起。施加到研磨盤的襯墊上的研磨劑涂層在初始?jí)褐浦髮⒁r墊和
壓紋模保持在一起。
由于每個(gè)研磨盤在上壓紋活塞和下壓紋活塞之間形成的具有小 容積的壓制室中單獨(dú)處理，可以簡(jiǎn)單地利用已知的真空鑄造技術(shù)。 這種技術(shù)允許特別精確的鑄造并且因此顯著地改善了研磨盤的操作 性能。
用一次性模保護(hù)研磨盤的研磨劑涂層使得不僅能夠采用紫外光 固化而且能夠例如采用電子束固化。電子束固化例如是經(jīng)濟(jì)可行的， 因?yàn)槠鋬H需要用于電子束固化的小的輻射源。
根據(jù)本發(fā)明的方法制造的具有球形截面研磨盤在使用中具有更 好的阻塞性能。球形的形狀減小了所謂的"結(jié)塊"即灰塵在研磨盤 表面和待研磨的表面之間的集結(jié)。
另外，由于球形的形狀，研磨盤具有更長(zhǎng)的使用壽命，因?yàn)榭?以使用研磨盤的整個(gè)研磨表面，大多數(shù)情況下不僅是盤的周邊區(qū)域 被使用。這是因?yàn)楸P不會(huì)附著到平面上，但在一定程度彎曲的產(chǎn)品 的情況下空氣會(huì)附著。因此，外吸氣流的量增加，導(dǎo)致更好的灰塵 去除。甚至用具有大的彎曲半徑的研磨盤也能實(shí)現(xiàn)積極的結(jié)果。研
磨盤的橫截面的彎曲例如可以是在150毫米的研磨盤中的幾毫米， 以便注意到增加的灰塵去除效果。
因?yàn)榍蛐窝心ケP不會(huì)與傳統(tǒng)的平面研磨盤一樣附著或者沿著不 同的方向拉動(dòng)，因此便于用本發(fā)明的研磨盤進(jìn)行研磨工作。另外， 無(wú)須像以前困難地保持機(jī)器，或者在物體處引導(dǎo)機(jī)器，但是可簡(jiǎn)單 地用研磨盤的中間區(qū)域研磨，這僅需要手部或臂部自身的重量。
球形研磨盤也能夠減小研磨區(qū)域，并且獲得研磨表面和非研磨 表面之間的離散的過(guò)渡。通過(guò)在具有基本上球形的研磨機(jī)器的緊固 板中設(shè)置緊固表面，可以進(jìn)一步加強(qiáng)這種效果。這樣，研磨機(jī)器的 小的傾斜不會(huì)改變相對(duì)定位的接觸面的相互幾何關(guān)系。這樣，通過(guò) 具有球形振動(dòng)的研磨機(jī)器，實(shí)質(zhì)上能夠避免布置在機(jī)器的緊固表面 上的研磨產(chǎn)品的傾斜位置。因此，研磨機(jī)器不需要如現(xiàn)有方案中研 磨區(qū)域的精確定位，并且操作顯著簡(jiǎn)化。
通過(guò)J求形研磨表面，可在研磨盤的接觸面的中部施加更特別并 且更高的研磨壓力。這樣，這種成形允許僅對(duì)在當(dāng)前研磨區(qū)域出現(xiàn) 的特定缺陷更精確的研磨或者拋光。根據(jù)本發(fā)明，研磨區(qū)域被減小
并且研磨區(qū)域的周邊的邊緣區(qū)域更不可見。
通過(guò)下面的描述將清楚地理解本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)點(diǎn)和細(xì)節(jié)。


在下文中，將參考附圖更詳細(xì)描述本發(fā)明，其中 圖l顯示了研磨盤的俯視圖； 圖2顯示了研磨盤的側(cè)視圖； 圖3顯示了圖2的研磨盤的局部剖視圖； 圖4顯示了從一側(cè)看的研磨盤的替代實(shí)施方式； 圖5顯示了圖4的研磨盤的局部剖視圖； 圖6顯示了從一側(cè)看的研磨盤的第二替代實(shí)施方式的剖視圖； 圖7顯示了用于制造本發(fā)明的研磨盤的壓制機(jī)的局部剖視圖， 其中壓制機(jī)打開用于供料；
圖8顯示了圖7的壓制機(jī)，其中壓制機(jī)的壓紋活塞鎖定在一起； 圖9顯示了圖7的壓制機(jī)，其中已經(jīng)啟動(dòng)壓制；以及 圖10顯示了圖7的壓制機(jī)，其中已經(jīng)完成壓制在一起。
具體實(shí)施例方式
在下文中，參考上述附圖描述柔性研磨盤的制造方法和這種柔 性研磨盤的優(yōu)選實(shí)施方式。因此方案包括附圖中所示的結(jié)構(gòu)部件， 其中每個(gè)部件用相應(yīng)的附圖標(biāo)記表示。這些附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)于在下面 的描述中使用的附圖標(biāo)記。
如圖1-6所示，本發(fā)明的柔性研磨盤1包括襯墊2,其具有上側(cè) 3和下側(cè)4。該襯墊在其周邊具有側(cè)邊緣5，該側(cè)邊緣5將襯墊的上 側(cè)連接到其下側(cè)上。另外，襯墊的上側(cè)設(shè)有研磨劑涂層6,用于形成 表面層，并因而形成最終的研磨盤。
在本發(fā)明的研磨盤1的制造過(guò)程中，如圖7所示，襯墊2單獨(dú) 布置在壓紋活塞7上，每個(gè)研磨盤的襯墊也被單獨(dú)涂敷。每個(gè)襯墊 因此本身放置在由兩個(gè)彼此相對(duì)的壓紋活塞7、 8形成的壓制室中。
但是，可將襯墊放置在分別由兩個(gè)基本上彼此相對(duì)的壓紋活塞形成 的多個(gè)相鄰的壓制室之 一 中。還可將 一 個(gè)或多個(gè)襯墊彼此相鄰地放 置在單個(gè)壓制室中，但是不互相接觸，在這種情況下，它們也可以 被單獨(dú)涂敷。
根據(jù)襯墊2的成形，活塞7(該實(shí)施方式中指上部活塞)設(shè)有可更 換的壓頭9，用于將襯墊支撐在壓紋活塞的表面上。如果襯墊的下表 面4例如是凹的，壓紋活塞因此設(shè)有凸的壓頭。當(dāng)然，可提供具有 由適當(dāng)?shù)木酆衔锊牧闲纬傻南虏磕５钠降膲杭y活塞，以將襯墊支撐 在壓紋活塞的表面上。
在襯墊2已經(jīng)被適當(dāng)?shù)夭贾迷谏喜繅杭y活塞7上時(shí)，研磨劑涂 層6施加到襯墊的上側(cè)。這樣，通過(guò)將布置在與襯墊相對(duì)的下部壓 紋活塞8上的壓紋模10靠在研磨劑涂層上有利地形成研磨劑涂層的 表面層的結(jié)構(gòu)。因此通過(guò)將相對(duì)于彼此定位的壓紋活塞壓在一起而 使研磨盤的表面層壓有所需的圖案。
因此研磨劑涂層6可直接施加到襯墊2的上側(cè)3上，或者可施 加到壓紋模10上，在如上所述以及如圖7和8所示的活塞壓在一起 時(shí)傳遞到襯墊上。
通過(guò)用具有小體積的壓制室的壓制機(jī)進(jìn)行該工藝，能夠簡(jiǎn)單地 利用真空鑄造技術(shù)。真空泵(未示出)通過(guò)連接管ll連接到壓制機(jī) 上，之后能夠顯著減小壓制室中的氣壓。由于這種壓制和壓紋技術(shù)， 壓紋?？稍O(shè)有具有特別細(xì)密紋理的結(jié)構(gòu)，在壓紋時(shí)能夠被填充，并 且在圖案中沒(méi)有空窩(empty pocket)形成。
壓紋模10可以如圖7-10所示有利地在其周邊形成有環(huán)繞的收 集窩12。當(dāng)活塞壓在一起時(shí)，部分研磨劑涂層通常會(huì)流出。通過(guò)允 許收集窩環(huán)繞壓紋模，多余的材料13可以如圖10所示回收，并且 防止壓制機(jī)和其周邊的設(shè)備變臟。
在完成壓在一起之后，研磨劑涂層6被固化，之后可以去除至 少部分環(huán)繞完工的研磨盤1的模。
可以逐步的方式施加研磨劑涂層6，其中對(duì)襯墊的上側(cè)至少交替
施加膠和沙?；蛘?，研磨劑涂層可以滴到、噴濺到、注塑到或者注 射到襯墊的上側(cè)3,其中例如至少包含研磨劑和粘合劑的漿被使用。
也可用漿的絲印(screen print)涂層，其中上表面獲得研磨劑涂 層的小點(diǎn)，即膠斑點(diǎn)。
通過(guò)在襯墊2上涂敷球形上表面3,外層基本上成形為球形。這 里，應(yīng)當(dāng)注意，球形自然可以表現(xiàn)出凸面或者凹面。如果使用凹的 球面，則中空凹面的內(nèi)側(cè)被涂敷。
在制造過(guò)程中， 一般地說(shuō)，研磨盤1的球形適于由任何特定表 面磨圓，而不論是否是凹面或者凸面。另外，研磨盤的邊緣的彎曲 部分14可以用于獲得離散的定位。
形成表面層的結(jié)構(gòu)的研磨劑涂層6的分布可根據(jù)壓紋模10的成 形而不同，所述壓紋才莫10 :帔帶到下部壓紋活塞8,以通過(guò)壓在一起 的活塞對(duì)所述表面層進(jìn)行壓紋。例如通過(guò)制造特定的陽(yáng)原壓紋模 (positive original embossing mould)并隨后在筒單的聚合物模 中對(duì)其鑄造，可以有利地提供壓紋模的表面結(jié)構(gòu)的成形。之后，用
由釋放式聚合物形成的陰壓紋模成形的壓紋模被帶到下部壓紋活 塞，以進(jìn)行研磨劑涂層的壓紋。由于這種壓紋模制造簡(jiǎn)單并且便宜， 所以其可以用于一次性使用。釋放式聚合物可以是普通的聚烯烴， 例如聚丙烯或者聚乙烯，但也可以結(jié)合有具有更好的釋放特性的聚 合物。
由于原壓紋模不與研磨劑涂層6接觸，其經(jīng)受最小的磨損。這 種幾乎不存在的磨損以及該模的小的尺寸意味著其結(jié)構(gòu)可被制得非 常精細(xì)。因此，獲得所謂的微復(fù)制品。同時(shí)，這允許圖案被制成非 線性的并且是非干涉的。這樣，防止了研磨劑涂層的復(fù)合層形成直 的路徑，如果研磨盤進(jìn)行一維運(yùn)動(dòng)，所述直的路徑可在待研磨的表 面上產(chǎn)生痕跡。
在絲印涂層中，即使在上表面上獲得研磨劑涂層的分布，仍意 味著在活塞壓在一起之前小點(diǎn)在表面上分配，從而然后在用微復(fù)制 品模進(jìn)行壓縮模制過(guò)程中容易地產(chǎn)生所需的分布。
在研磨劑涂層6散布到襯墊2上的同時(shí)，根據(jù)圖8-10所示，表 面層也被結(jié)構(gòu)化。因此，兩個(gè)壓紋活塞7、 8被帶到一起，換言之， 襯墊2位于上部壓紋活塞7上，具有壓紋圖案的壓紋模10布置在與 上部壓紋活塞相對(duì)的下部壓紋活塞8中。因此，在該方法中，壓紋 活塞均不與研磨劑涂層直接接觸，因?yàn)椴糠钟蓧杭y模保護(hù)，部分由 襯墊保護(hù)。
具有帶有壓紋圖案的壓紋模10的下部壓紋活塞8可有利地由彈 性材料形成并具有凸形端面。這樣，如圖9所示，壓紋活塞從壓紋 模的中部開始進(jìn)行壓制。之后，如圖10所示，當(dāng)壓紋活塞在增加的 壓力下變形時(shí)，壓力類似環(huán)狀波向外朝著壓紋模的周邊繼續(xù)逐漸施 加。上部壓紋模7的表面或者布置在其中的壓頭8是剛性的并且有 利地與襯墊相對(duì)應(yīng)。
通過(guò)環(huán)境氣壓以及在壓制之前施加在襯墊2和靠在上表面3上 的壓紋模10之間的研磨劑涂層6，襯墊2和靠在上表面3上的壓紋 模IO在如上所述壓在一起之后保持在一起。因此，容易地使研磨劑 涂層在壓制之前經(jīng)受某種已知類型的固化。
通過(guò)將紫外光固化樹脂用作研磨劑涂層的粘合劑并且形成襯墊 的可支撐模以及紫外線可通過(guò)的透明聚合物形成的壓紋模10，當(dāng)研 磨盤1通過(guò)錐束光線輸送時(shí)獲得研磨盤1的有利的固化。
本發(fā)明也允許使用電子束固化樹脂，因?yàn)楫?dāng)一次僅一個(gè)研磨盤1 暴露到射線時(shí)，射線源相對(duì)較小。
上面已經(jīng)描述了研磨盤1的襯墊2的涂層。在這里，襯墊也可 以在單獨(dú)的模中通過(guò)壓縮模制制造，其中當(dāng)襯墊還在模中時(shí)，其上 側(cè)3可被涂敷。襯墊也可以在通過(guò)拉伸模制制造，隨后布置在單獨(dú) 的模中，其中其上側(cè)被涂敷。拉伸模制的襯墊可以從拉伸模制的材
制二 ^ 、'、 "、 "； '。
研磨盤1的襯墊2在一種實(shí)施方式中具有基本上均勻的厚度， 其中其下側(cè)4和上側(cè)3基本上平行并且具有基本上相同的彎曲半徑。
但是，襯墊可具有這樣的形狀，其下側(cè)和上側(cè)的彎曲半徑不同，其 中例如其下側(cè)基本上是平的，而其上側(cè)是球面凸形或凹形。根據(jù)該 方法，襯墊的上側(cè)可設(shè)有研磨劑涂層6形式的表面層，該涂層基本 上是球截形的形狀。
與現(xiàn)有的紙基研磨盤不同，制造由聚合物材料構(gòu)成的本發(fā)明的
研磨盤的襯墊2是有利的。
為了簡(jiǎn)化研磨盤1的使用，襯墊的側(cè)邊緣5可設(shè)有緊固元件。 這些緊固元件被布置成當(dāng)使用中的研磨盤布置在研磨頭的緊固板上 時(shí)像蓋子一樣保持完工的研磨盤被緊固。緊固元件可以包括如圖5 所示向上的邊緣14或者向上的鉤。
研磨盤1也可設(shè)有孔，用于抽出灰塵或者供應(yīng)水。另外，它還 可以設(shè)有從動(dòng)銷，這些從動(dòng)銷與緊固板中的導(dǎo)向孔配合。這些從動(dòng) 銷使得緊固更加簡(jiǎn)單，并且在一些情況下，尤其與上述一體的緊固 元件結(jié)合，可以消除傳統(tǒng)的緊固元件例如自粘膠和維可牢(Velcro) 緊固件。
當(dāng)然，研磨盤1可在襯墊2的下側(cè)4上設(shè)有已知的緊固元件， 例如自粘膠和維可牢(Velcro)緊固件，以將研磨盤緊固到研磨工 具的研磨頭中的緊固板上。
上述描述和附圖僅僅旨在舉例說(shuō)明研磨盤的結(jié)構(gòu)的本發(fā)明的方 案。方案因此并不限制于上述的和后附權(quán)利要求中的實(shí)施方式，而 是可以在后附權(quán)利要求所描述的發(fā)明原理范圍內(nèi)變化或改進(jìn)。
權(quán)利要求
1.一種用于制造柔性研磨盤(1)的方法，所述研磨盤包括襯墊(2)，所述襯墊具有上側(cè)(3)和下側(cè)(4)，其中所述襯墊在其周邊具有側(cè)邊緣(5)，所述側(cè)邊緣將所述上側(cè)和下側(cè)連接在一起，所述上側(cè)設(shè)有用于形成表面層的研磨劑涂層(6)，所述方法的特征在于每個(gè)研磨盤(1)的襯墊(2)的涂層被單獨(dú)涂敷，其中所述襯墊布置在壓紋活塞(7)上的單獨(dú)的位置中，研磨劑涂層(6)被施加到所述襯墊的上側(cè)(3)上，并且通過(guò)將與所述襯墊相對(duì)地定位并具有朝著所述襯墊的上側(cè)定位的結(jié)構(gòu)化的壓紋模(10)的壓紋活塞(8)靠向所述襯墊，以通過(guò)壓紋活塞往復(fù)壓在一起而對(duì)表面層進(jìn)行壓紋，從而所述研磨劑涂層(6)形成為具有圖案的表面層，之后所述研磨劑涂層被固化，以最終形成表面層，并且去除完工的研磨盤(1)的模。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，將所述襯墊(2) 布置在單獨(dú)的壓紋活塞(7)上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，將所述襯墊(2) 布置在壓紋活塞(7)中的單獨(dú)的壓制室中。
4. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，將所 述襯墊(2)成形為具有基本上為球形的上側(cè)(3)。
5. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，將所 述襯墊(2)成形為具有基本上均勻的厚度，并具有基本上球形的上 側(cè)(3)和下側(cè)(4)，其中所述壓紋活塞(7)的表面被成形為與所 述^于墊的下側(cè)的彎曲半徑相對(duì)應(yīng)。
6. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，逐步 施加所述研磨劑涂層(6)，其中至少交替施加膠和沙到所述襯塾的 上側(cè)上，以形成所述表面層。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，將研 磨劑涂層(6)噴濺到所述襯墊(2)的上側(cè)上，以形成所述表面層， 所述研磨劑涂層(6)是至少包括研磨劑和粘合劑的漿的形式。
8. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述 襯墊(2 )和靠在所述表面層上的壓紋模(10 )通過(guò)在壓在一起的過(guò) 程中施加到上表面上的研磨劑涂層(6 )在壓在一起之后保持在一起， 由此在上側(cè)施加有研磨劑涂層的襯墊已經(jīng)從由壓紋活塞(7、 8)形 成的壓制室去除之后所述研磨劑涂層被固化。
9. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在單 獨(dú)的模中通過(guò)注塑成形制造所述襯墊(2)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，在單獨(dú)的模中通 過(guò)注塑成形制造所述襯墊(2),其中所述襯墊的上側(cè)隨后被涂敷。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，通過(guò) 拉伸模制制造所述襯墊(2),以使其隨后布置在壓紋活塞(7)上， 在所述壓紋活塞(7)上所述襯墊的上側(cè)(3)然后被涂敷。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，從拉伸模制的材料帶切下所述襯墊(2)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，當(dāng)所述襯墊(2) 從材料帶切下時(shí)使所述襯墊(2)經(jīng)受拉伸模制。
14. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在真 空下將上部和下部壓紋活塞(7、 8)壓在一起。
15. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，用聚 合物材料形成壓紋模(10),以包括一次性元件。
16. —種柔性研磨盤(1),包括襯塾(2),所述襯墊具有上側(cè) (3)和下側(cè)(4),其中所述襯墊在其周邊具有側(cè)邊緣(5 ),所述側(cè)邊緣將所述上側(cè)和下側(cè)連接在 一 起，所述襯墊的上側(cè)設(shè)有用于形 成表面層的研磨劑涂層(6)，所述柔性研磨盤的特征在于所述表面層具有基本上球形的表面，所述表面具有被壓紋的結(jié)構(gòu)。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的柔性研磨盤(1 )，其特征在于，所 述表面層基本上為凸形。
18. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的柔性研磨盤(1 )，其特征在于，所述表面層基本上為凹形。
19. 根據(jù)權(quán)利要求16-18中任一項(xiàng)所述的柔性研磨盤(1 )，所 述襯墊(2)的結(jié)構(gòu)具有基本上均勻的厚度，由此其下側(cè)(4)和上 側(cè)(3)基本上平行，所述上側(cè)(3)設(shè)有研磨劑涂層(6)，以形成 基本上為球截形的形狀的表面層。
20. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的柔性研磨盤(1 )，其特征在于，所 述襯墊(2)的上側(cè)(3)和下側(cè)(4)具有不同的彎曲半徑。
21. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的柔性研磨盤(1)，其特征在于，所 述襯墊(2 )的下側(cè)(4 )基本上為平面。
22. 根據(jù)權(quán)利要求16 - 21中任一項(xiàng)所述的柔性研磨盤(1 ),其 特征在于，所述襯墊(2)由聚合物材料形成。
23. 根據(jù)權(quán)利要求16-22中任一項(xiàng)所述的柔性研磨盤(1),其 特征在于，所述襯墊(2)的側(cè)邊緣(5)具有緊固元件，所述緊固 元件被布置成當(dāng)使用中所述研磨盤布置在研磨頭的緊固板上時(shí)以蓋 的方式保持完工的研磨盤被緊固。
24. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的柔性研磨盤(1 )，其特征在于，所 述緊固元件包括向上的邊緣(14)。
25. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的柔性研磨盤(1 )，其特征在于，所 述緊固元件包括向上的鉤。
26. 根據(jù)權(quán)利要求16-25中任一項(xiàng)所述的柔性研磨盤(1)，其 特征在于，所述表面層的被壓紋的結(jié)構(gòu)包括非線性且非干涉的圖案。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種制造柔性研磨盤(1)的方法和這種柔性研磨盤(1)。該研磨盤包括襯墊(2)，所述襯墊具有上側(cè)(3)和下側(cè)(4)。所述上側(cè)具有用于形成表面層的研磨劑涂層(6)。為了形成盡可能圖案特定的表面層，每個(gè)研磨盤的襯墊被單獨(dú)涂敷。在該制造方法中，襯墊的上側(cè)上的研磨劑涂層被壓紋模(10)壓紋，所述壓紋模(10)結(jié)構(gòu)特定并且用于壓在襯墊上。
文檔編號(hào)B24D13/00GK101104253SQ20071013621
公開日2008年1月16日 申請(qǐng)日期2007年7月10日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月10日
發(fā)明者G·奧格蘭德 申請(qǐng)人:Kwh米亞卡公司