專利名稱：用金屬層涂覆細長的金屬元件的設備和方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于控制細長的金屬元件上的金屬涂層的厚度的設 備，其中，所述涂層通過將細長的金屬元件連續(xù)傳送過熔融金屬的熔池 而被涂敷，并且所述元件自熔池沿傳送方向沿預定傳送路徑傳送。
本發(fā)明還涉及一種用于控制細長的金屬元件上的金屬涂層的厚度的 方法。所述涂層通過將元件連續(xù)傳送過熔融金屬的熔池而被涂敷。
在連續(xù)地對金屬條帶鍍鋅時，這種設備和這種方法尤其有利。本發(fā) 明將隨后參考這種應用進行描述。然而，應當注意到，本發(fā)明還可以應 用于其它金屬物體的鍍鋅，例如金屬線、桿、管或其它細長的元件。還 應當注意到，本發(fā)明可以應用于具有除了鋅之外的其它涂層(例如錫或 鋁，或者這些或其它金屬的混合物)的細長的金屬元件的涂層。
背景纟支術
在金屬條帶(例如鋼條)的連續(xù)鍍鋅過程中，鋼條連續(xù)地穿過容納 有熔融金屬(通常為鋅)的熔池。在熔池中，條帶通常在浸沒的輥的下 方穿過，并且隨后向上移動，穿過穩(wěn)定輥和校正輥。條帶從熔池中浮出 并被傳送過擦拭設備，例如氣刀或電磁擦拭器。電磁擦拭器產生變化的 磁場，所述變化的磁場用于控制涂層的厚度，并且擦除來自金屬熔池的 任何過量的鋅。過量的鋅返回至熔池，并且由此可以被重新利用。條帶 隨后被無支撐地傳送，直到涂層冷卻并固化。被涂覆的鋼條隨后經由上 輥被引導或導向至用于將條帶切割成分離的條帶段或用于將條帶纏繞在 輥上的裝置。通常，條帶沿豎直方向遠離浸沒的輥移動，穿過校正輥和 穩(wěn)定輥以及氣刀，到達上輥。
當鋼條被鍍鋅時，目的在于獲得均勻并且厚度薄的涂層。當帶上過
量的熔融金屬已經被擦除之后，并且涂層已經固化時，控制涂層的厚度 的一種通常的方法是測量在條帶例如已經穿過上輥之后涂層的質量。這 個測量讀數用于控制氣刀，并由此控制涂層的厚度。然而，由于鋼條的 幾何結構，條帶必須無支撐地運行的距離、其速度、以及來自電^^擦拭 器的影響，金屬條將沿基本上垂直于其傳送方向的方向移動或振動?？?以采取諸如使用校正輥和穩(wěn)定輥、調節(jié)鋼條的速度和/或調節(jié)條帶必須無 支撐地運行的距離之類的某些措施，以減少這些橫向移動。如果不減小， 則這些橫向移動將顯著地干擾精確地擦拭，導致不均勻的涂層厚度。
此外，條帶上的干擾力可能由擦拭器設備引起。WO 02/14574公開 了 一種用于控制金屬條帶上的涂層的厚度的設備。所述設備包括設置在 條帶的各側上的電磁擦拭構件，所述電磁擦拭構件包括沿條帶的傳送方 向 一個接一個地設置的兩個擦拭柱。通過擦拭構件向涂層上施加磁力將 過量熔融金屬從物體上擦除。所述設備還包括設置在條帶的各側上的電 磁穩(wěn)定設備，所述電磁穩(wěn)定設備包括三個穩(wěn)定柱。為了減小條帶的振動 (所述振動由來自擦拭構件的干擾力或由條帶的自由長度引起)，各電磁 擦拭柱沿條帶的傳送方向設置在兩個穩(wěn)定柱之間。
本發(fā)明的目的在于提出一種改善的設備，以在涂覆金屬條時控制金 屬涂層的厚度，由此獲得質量改善的涂覆條帶。

發(fā)明內容
根據第一方面，本發(fā)明涉及一種根據權利要求1的用于控制細長的 金屬元件上的金屬涂層的厚度的設備。所述細長的金屬元件優(yōu)選為金屬 條帶。
在用于控制金屬條帶上的金屬涂層的厚度的設備中，所述涂層適于 通過將條帶連續(xù)傳送過熔融金屬的熔池而被涂敷。所述條帶用于自熔池 沿傳送方向沿預定傳送路徑傳送，并且所述設備包括至少一對電磁擦拭 構件，在所述條帶的每一側上包括一個擦拭構件，以通過向條帶施加移 動磁場從條帶中擦除過量的熔融金屬，其中^拭構件包括擦拭柱。所 述設備包括至少一對電磁穩(wěn)定構件，在所述條帶的每一側上包括一個穩(wěn) 定構件，以穩(wěn)定條帶相對于預定傳送路徑的位置，從而各穩(wěn)定構件包括
穩(wěn)定柱。在條帶的同 一側的所述擦拭構件和所述穩(wěn)定構件適于使得擦拭 柱和穩(wěn)定柱重合。這樣導致來自穩(wěn)定構件的穩(wěn)定磁力作用在與來自擦拭 構件的干擾力相同的區(qū)域內。由于穩(wěn)定力作用在與來自擦拭構件的條帶
上的干4M目同的區(qū)域內，因此減小了片材的彎曲和振動。另一個優(yōu)點在 于所述設備提供了比現有技術的設備更加緊湊的設計。擦拭構件和穩(wěn)定 構件優(yōu)選地具有共用的磁芯。所述共用的磁芯包括后磁芯部件和前磁芯 部件。
根據一個實施例，擦拭構件和穩(wěn)定構件形成集成單元，這實現了設 備的緊湊設計。
根據一個實施例，所述擦拭構件具有兩個相繞組。通過將擦拭柱i殳 置為僅僅具有兩個相繞組(而不是如現有的三個相繞組)來擦除過量金 屬，在涂層上僅獲得擦拭力的一個峰值，這被證實足以獲得良好的對過 量涂層的擦拭。這還意味著來自擦拭設備的干擾僅僅發(fā)生在條帶的垂直 于條帶的傳送方向的區(qū)域中。
根據一個實施例，穩(wěn)定構件包括穩(wěn)定繞組。穩(wěn)定繞組設置在條帶和 相繞組之間。通過將穩(wěn)定繞組設置在條帶和相繞組之間，穩(wěn)定構件可以 作用在與擦拭構件相同的區(qū)域中。
根據一個實施例，所逸磁芯具有基本上為T形的橫截面，并且包括 基部和頂部。所i^&部基本上由前磁芯部件構成，其包括擦拭柱和穩(wěn)定 柱，并且所述頂部基本上由后磁芯部件構成。所述頂部沿基本上平行于 傳送方向的方向設置，并且所述基部自頂部沿朝向條帶的方向延伸。
根據一個實施例，穩(wěn)定繞組圍繞基部設置，并且所勤目繞組圍繞基 部各側上的頂部設置。這提供了緊湊的設計并且導致來自穩(wěn)定構件的穩(wěn) 定磁力作用在與發(fā)生來自擦拭構件的干擬目同的條帶上的區(qū)域內。由于 穩(wěn)定力作用在與來自擦拭構件的干4M目同的區(qū)域內，因此將減小片材的 彎曲和振動，同時保持或改善涂層的質量。
根據一個實施例，所述設備包括第二對擦拭構件，所述第二對擦拭 構件沿垂直于傳送方向的方向與第一對擦拭構件間隔開地設置。這樣致 使進一步改善了越過條帶的寬度的厚度的控制，這樣能夠改善涂覆條帶
的質量。
根據一個實施例，所述設備包括第三對擦拭構件，所述第三對擦拭 構件沿垂直于傳送方向的方向與第 一對擦拭構件和笫二對擦拭構件間隔 開地設置。通過垂直于傳送方向且沿條帶的寬度設置三個擦拭構件，擦 拭器力和穩(wěn)定力的控制可以被調節(jié)至',在由相應的擦拭構件覆蓋的區(qū) 域中滿足當前需求。例如， 一個擦拭構件垂直于條帶的中心線設置，并 且另外兩個擦拭構件位于垂直于所述中心線設置的所述擦拭構件的相應 的側部。這樣致使額外地改善的越過條帶的寬度的厚度的控制，并且這 樣獲得改善的涂覆條帶的質量。
根據一個實施例，至少一個用于檢測條帶關于其預定傳送路徑的位 置的傳感器被設置在非?？拷辽僖粋€擦拭構件的位置處。通過將至少 一個傳感器設置在非?？拷a生干擾力的位置處(例如擦拭構件)，獲得 了改善的對條帶的位置的檢測。這又意味著可以實現改善的條帶的控制 和穩(wěn)定性，并且由此改善的涂覆條帶的質量。
根據一個實施例，所述設備包括穩(wěn)定元件，所述穩(wěn)定元件適于控制 穩(wěn)定柱的最靠近條帶的部分中的磁導率。所述穩(wěn)定元件包括例如設置在 所述穩(wěn)定繞組的外側的外線圈。在穩(wěn)定柱的所述部分中的導磁率基于條 帶至相應的穩(wěn)定柱的距離確定。通過控制穩(wěn)定柱的所述部分中的磁導率， 穩(wěn)定柱之間的條帶的位置受控。
根據一個實施例，所述設備包括電路，其適于向條帶的至少一個邊 緣施加電流，以產生輔助擦拭力。施加至條帶的一個邊緣的電流在條帶 的另一個邊緣流出，例如通過閉合電路或通過短路。輔助擦拭力通it^ 加的電流和來自擦拭柱的磁場的結合而形成，由此形成向下朝向熔池的 輔助擦拭力。所述電路適于基于與沿條帶的寬度的涂層的所需的厚度值 相比較的涂層的沿條帶的寬度的實際厚度控制施加至所述條帶的至少一 個邊緣的電流。涂層的實際厚度例如在設置在擦拭構件之后的控制設備 中進行測量。輔助擦拭力通常在條帶的邊緣處最大，并且在需要時容許 獲得越過條帶的更均勻的擦拭。
根據第二方面，本發(fā)明涉及一種根據權利要求17的用于在細長的金 屬元件上涂覆一定厚度的金屬涂層的方法。根據一個實施例，所述細長
的金屬元件為金屬條帶。
當控制金屬條帶上金屬涂層的厚度時，所述涂層通過將條帶連續(xù)傳 送過熔融金屬的熔池而被涂敷。沿傳送方向沿預定傳送路徑傳送所述條 帶，并且通過向條帶上尚未固化的金屬涂層提供移動磁場，以從條帶上 擦除過量的熔融金屬。此外，通過在與作用在條帶上的移動磁場相同的 區(qū)域中向條帶提供穩(wěn)定磁力，物體的位置相對于預定傳送途徑穩(wěn)定。通 過這種方式，條帶在與干擾發(fā)生的區(qū)域相同的區(qū)域中穩(wěn)定，這減小了條 帶中的彎曲和振動，并且從而允許用于擦拭器的更高的力密度，這又容 許條帶的速度增加并且獲得更快的進程，且保持或改善條帶的質量。
在擦除過量的熔融金屬之后測量涂層的厚度，并且所測量的厚度和 所需的厚度值控制流到產生移動磁場的兩相繞組的電流。
根據一個實施例，條帶相對于傳送路徑的位置通過產生參數值(例 如，預定傳送路徑和條帶的實際位置之間的距離)的至少一個傳感器確 定，這控制穩(wěn)定磁力的量級。所述穩(wěn)定磁力隨后響應條帶的位置施加至 條帶。
根據一個實施例，通過至少控制穩(wěn)定柱的最靠近條帶的部分中的磁 導率使條帶穩(wěn)定。穩(wěn)定柱的所述部分的磁導率受到穩(wěn)定元件的控制，所 述穩(wěn)定元件包括例如外線圏。通過基于金屬條帶在擦拭柱之間所處的位 置控制磁導率，防止金屬條帶因磁力朝向其中一個柱移動，并且所述條 帶在擦拭柱之間保持居中。
根據本發(fā)明的一個實施例，向金屬條帶的至少 一個邊緣施加電流。 通過施加與來自擦拭柱的磁場結合的電流，獲得向下的力，從而有助于 獲得均勻的擦拭作用。向下的力在條帶的邊緣最大。


現將參考附圖通過對實施例的說明更加詳細地解釋本發(fā)明，其中
圖1示意性地示出了從側面觀察的穿過用于控制金屬條帶上的金屬 涂層的厚度的設備的一個實施例的剖面圖。
圖2示意性地示出了通過前側視角觀察的圖1中的設備的第一實施例。
圖3示意性地示出了通過前側視角觀察的圖1中的設備的第二實施例。
圖4示意性地示出了通過前側視角觀察的圖1中的設備的第三實施例。
圖5示出了擦拭柱的最靠近條帶設置的端部的磁性飽和狀態(tài)。
具體實施例方式
以下的說明涉及設備和方法。圖1示出了用于控制金屬條帶1上的 金屬涂層的厚度的設備。條帶1通過連續(xù)地傳送條帶通過熔池而涂覆有 熔融金屬層。條帶沿傳送方向3沿預定傳送路徑x從熔池傳送。預定傳 送路徑x基本上在浸入熔池2中的輥和設置在擦拭和穩(wěn)定單元4a、 4b 之后的上輥之間延伸。擦拭和穩(wěn)定單元4a、 4b適于從條帶1中擦除過量 的熔融金屬和穩(wěn)定條帶l。擦拭和穩(wěn)定單元4a、 4b包括擦拭構件，其 包括用于第一相的第一相繞組6a、 6b和用于第二相的第二相繞組7a、 7b;穩(wěn)定構件，其包括穩(wěn)定繞組8a、 8b;以及共用的磁芯12a、 12b, 所述共用的磁芯包括擦拭和穩(wěn)定柱5a、 5b。擦拭和穩(wěn)定單元4a、 4b在 條帶的相對側設置在基本上相同的高度上。
磁芯12a、 12b包括后磁芯部件9a、 9b和前磁芯部件，并且具有基 本上為T形的橫截面，其中，橫截面包括基部和頂部?；炕旧嫌汕?磁芯部件構成，其包括擦拭和穩(wěn)定柱5a、 5b,并且所述頂部基本上由后 磁芯部件構成。所述頂部沿基本上平行于傳送方向的方向"^殳置，并且所 述底部自頂部沿朝向條帶1的方向延伸。穩(wěn)定繞組8a、8b圍繞基部設置， 并J^f目繞組6a、 6b、 7a、 7b圍繞底部各側上的頂部設置。
相繞組6a、 6b、 7a、 7b被供應有交流電流(未示出)，并且在條帶 1上產生交變的磁場，即所謂的移動磁場。所逸磁場包括涂層中的電流 路徑I (未示出)，以及沿與條帶的傳送方向相對的方向作用在涂層上的 力。擦拭構件根據線性馬達或電磁攪拌器動作，以獲得電磁場。通過這
種方式，沿條帶的縱向擦除過量的涂覆材料。
穩(wěn)定繞組8a、 8b,皮供應有直流電流(未示出)，這樣穩(wěn)定力垂直于 條帶l作用，由于穩(wěn)定柱5a、 5b適于與擦拭柱5a、 5b重合，則穩(wěn)定力 可以作用在條帶上與來自擦拭柱的干擾出現的區(qū)域相同的區(qū)域內。當然， 可以在擦拭構件之外出現干擾和振動，例如由于條帶l的自由長度，即 條帶1無支撐運行的長度。并且這些干擾或振動可以通過所述擦拭構件 穩(wěn)定。擦拭和穩(wěn)定柱5a、 5b設置在距離預定傳送路徑x—定距離處。當 然所i^巨離隨著條帶1的當前厚度和涂層的厚度變化。
圖1示出了用于檢測條帶1相對于其預定傳送路徑x的位置的傳感 器10a、 10b設置在條帶1的各側上。傳感器10a、 10b在非?？拷潦?和穩(wěn)定單元4a、 4b的位置處設置。傳感器10a、 10b適于檢測取決于條 帶相對于預定傳送路徑x的位置的M的值，從而穩(wěn)定構件向條帶1施 加與所檢測的值相應的力。來自傳感器10a、 10b的信號在信號處理裝置 (未示出)中進行處理，并且變流器(未示出)中的控制程序控制流過 穩(wěn)定繞組8a、 8b的電流以穩(wěn)定條帶1。
用于測量層的厚度的控制設備lla、 lib設置在擦拭和穩(wěn)定單元4a、 4b之后。
圖2示意性地示出了才艮據圖1的第一對擦拭和穩(wěn)定單元中的第一擦 拭和穩(wěn)定單元4a、 4b如何沿條帶的寬度設置。
圖3示意性地示出了第二對擦拭和穩(wěn)定單元中的第二擦拭和穩(wěn)定單 元17a、 17b如何沿垂直于傳送方向3的方向與第一對間隔開地i丈置。
圖4示意性地示出了第三對擦拭和穩(wěn)定單元中的第三擦拭和穩(wěn)定單 元18a、 18b如何沿垂直于傳送方向3的方向與第二對間隔開地設置。圖 4還示出了如何設置電路16以在條帶1的一個邊緣13a施加電流I以在 涂層上產生進一步的擦拭力。擦拭力通過電流I與來自擦拭構件4a、 4b、 4c的電磁力結合而產生。電流I在條帶13b的另一邊緣處流出。
圖5示出了至少穩(wěn)定柱5a、 5b的最靠近條帶處的部件15a、 15b的 磁導率通過穩(wěn)定元件進行控制，所述穩(wěn)定元件包括例如外線圏。相應的 部件15a、 15b中的磁導率基于在一對擦拭和穩(wěn)定單元中的擦拭柱5a和
5b之間定位的金屬帶的位置進行控制。通過控制磁導率，防止金屬條帶 因磁力朝向其中一個柱移動，相反，條帶能夠在擦拭柱5a、 5b之間保持 居中。
本發(fā)明不限于示出的實施例，當然，本領域的技術人員可以在不脫 離如權利要求書所限定的本發(fā)明的范圍內以多種方式進行修改。例如， 在三對擦拭和穩(wěn)定單元4a、 4b、 17a、 17b、 18a、 18b垂直于傳送方向3 設置的情況下，最外側的兩對擦拭和穩(wěn)定單元4a、 4b、 18a、 18b可以 沿條帶和垂直于傳送方向在同一直線設置，并且中間的擦拭和穩(wěn)定單元 17a、 17b可以設置在所述兩對最外側的擦拭和穩(wěn)定單元的前側和后側。
權利要求
1.一種用于控制細長的金屬元件(1)上的金屬涂層的厚度的設備，其中所述涂層適于通過將元件(1)連續(xù)傳送過熔融金屬的熔池(2)而被涂敷，并且所述元件適于自熔池(2)沿傳送方向(3)沿預定傳送路徑(x)傳送，并且其中所述設備包括至少一對電磁擦拭構件，在所述元件的每一側上包括一個所述擦拭構件，以通過向所述元件施加移動磁場從所述元件中擦除過量的熔融金屬，各擦拭構件包括擦拭柱(5a、5b)，并且其中所述設備包括至少一對電磁穩(wěn)定構件，在所述元件的每一側上包括一個穩(wěn)定構件，用于穩(wěn)定元件相對于預定傳送路徑(x)的位置，所述穩(wěn)定構件包括穩(wěn)定柱(5a、5b)，其特征在于所述擦拭構件具有第一相繞組和第二相繞組(6a、6b、7a、7b)，所述元件的同一側上的所述擦拭構件和所述穩(wěn)定構件被設置成使得擦拭柱(5a、5b)和穩(wěn)定柱(5a、5b)重合。
2.根據權利要求1所述的設備，其中，所述細長的金屬元件為金 屬條帶(1 )。
3.根據權利要求1或2所述的設備，其中，所述擦拭構件和所述 穩(wěn)定構件具有共用的磁芯(12a、 12b)。
4. 根據前述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述擦拭構件 和所述穩(wěn)定構件形成集成單元。
5. 根據前述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述穩(wěn)定構件 包括穩(wěn)、定繞組(8a、 8b )。
6. 根據權利要求2-5中任一項所述的設備，其中，所述穩(wěn)定繞組 (8a、 8b)設置在所述條帶(1)和所述相繞組(6a、 6b、 7a、 7b )之間。
7. 根據權利要求2-6中任一項所述的設備，其中，所i^芯(12 ) 具有基本上為T型的橫截面，并且包括基部和頂部，并且所述頂部沿基 本上平行于傳送方向(3)的方向設置，并且所述基部自頂部沿朝向條 帶(1)的方向延伸。
8. 根據權利要求7所述的設備，其中，所述穩(wěn)定繞組(8)圍繞基 部設置，并且所勤目繞組(6a、 6b、 7a、 7b)圍繞基部各側上的頂部設 置。
9.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述設備包括 第二對擦拭構件，所述第二對擦拭構件沿垂直于傳送方向(3)的方向 與第 一對擦拭構件間隔開地設置。
10.根據權利要求9所述的設備，其中，所述設備包括第三對擦拭 構件，所述第三對擦拭構件沿垂直于傳送方向(3)的方向與第一對擦 拭構件和第二對擦拭構件間隔開地設置。
11.根據權利要求2-10中任一項所述的設備，其中，至少一個用 于檢測條帶(1)關于其預定傳送路徑(x)的位置的傳感器(10a、 10b ) 被設置在非?？拷辽僖粋€擦拭構件的位置處。
12. 根據權利要求3-11中任一項所述的設備，其中，所述設備包 括穩(wěn)定元件，所述穩(wěn)定元件適于控制所述穩(wěn)定柱(5a、 5b)的最靠近所 述條帶(1)的部分(15a、 15b)中的磁導率。
13. 根據權利要求12所述的設備，其中，所述穩(wěn)定元件包括設置 在所述穩(wěn)定繞組(8a、 8b)的外側的外線圈(14a、 14b )。
14. 根據權利要求2-13中任一項所述的設備，其中，所述設備包 括電路(16)，其適于向所述條帶(1)的至少一個邊緣(13a、 13b)施 加電流(I)，以產生附加的擦拭力。
15.根據權利要求14所述的設備，其中，所述電路(16)適于基 于擦除之后測得的涂層的厚度控制所述電流(1)。
16. —種用于控制細長的金屬元件(1)上的金屬涂層的厚度的方 法，其中所述涂層適于通過將元件連續(xù)傳送過熔融金屬的熔池(2)而 被涂敷，其中所述方法包括沿傳送方向(3)沿預定傳送路徑(x)傳送所述元件(1);通過向具有尚未固化的金屬涂層的所述元件(1)施加移動磁場， 以從細長的金屬元件(1)中擦除過量的熔融金屬；在擦除過量的熔融金屬之后測量涂層的厚度，從而用測得厚度與所 需厚度值之間的差值控制流到產生移動磁場的相繞組(6a、 6b、 7a、 7b ) 的電流；通過在與作用在所述元件上的移動磁場的區(qū)域相同的區(qū)域中向細 長的金屬元件(1)施加穩(wěn)定磁力以穩(wěn)定物體相對于預定傳送路徑(x) 的位置。
17. 根據權利要求16所述的方法，其中，所述細長的金屬元件為 金屬條帶(1 )。
18. 根據權利要求17所述的方法，包括通過至少一個產生控制所述穩(wěn)定磁力的量級的參數值的傳感器 (10a、 10b)，確定所述條帶(1)相對于傳送路徑(x)的位置；以及響應所述條帶(1)的位置向條帶施加所述穩(wěn)定磁力。
19. 根據權利要求17-18中任一項所述的方法，其中，通過控制至 少在所述穩(wěn)定柱(5)的最靠近所述條帶(1)的部分(15a、 15b)中的 磁導率使所述條帶(1)穩(wěn)定。
20.根據權利要求19所述的方法，其中，至少在所述穩(wěn)定柱(5) 的最靠近所述條帶(1)的部分(15a、 15b )中的磁導率受到外線圏(14a、 14b)的控制。
21.根據權利要求17-20中任一項所述的方法，其中，向所述條 帶(1)的至少一個邊緣(13a、 13b)施加電流，使得所述電流和所述 移動磁場一起產生朝向所述熔池(2)的擦拭力。
全文摘要
一種用于控制細長的金屬元件(1)上的金屬涂層的厚度的設備和方法，其中所述涂層適于通過將元件連續(xù)傳送過熔融金屬的熔池(2)而被涂敷，并且所述元件自熔池沿傳送方向(3)沿預定傳送路徑(x)傳送。所述設備包括至少一對電磁擦拭構件，在所述元件(1)的每一側上包括一個擦拭構件，以通過施加移動磁場從元件上擦除過量的熔融金屬，并且各擦拭構件包括擦拭柱(5)。所述設備包括至少一對電磁穩(wěn)定構件，在所述元件(1)的每一側上包括一個穩(wěn)定構件，用于穩(wěn)定元件相對于預定傳送路徑(x)的位置，所述穩(wěn)定構件包括穩(wěn)定柱(5)。所述元件(1)的同一側上的擦拭構件和穩(wěn)定構件被設置成使得擦拭柱(5)和穩(wěn)定柱(5)重合。
文檔編號C23C2/14GK101184861SQ200680018714
公開日2008年5月21日 申請日期2006年5月24日 優(yōu)先權日2005年6月3日
發(fā)明者戈特·塔爾巴克, 斯特凡·伊斯拉埃爾松·坦佩, 本特·呂德霍爾姆, 柳玉敬, 簡-埃里克·埃里克森 申請人:Abb公司